刘静
- 作品数：10 被引量：35H指数：4
- 供职机构：中国建筑材料科学研究院更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信化学工程金属学及工艺更多>>
- ITO透明导电膜的研究进展
- 本文是一篇综述性报告,对ITO透明导电薄膜的电导与掺杂机理、制备方法、性能检测、应用领域及发展前景作了简要的评述.ITO薄膜的导电机制是高价Sn<'4+>替代部分In<'3+>和氧缺位.ITO薄膜的制备方法有磁控溅射、C...
- 刘静李秀荣
- 关键词：ITO薄膜
- 文献传递
- 介质/金属/介质多层透明导电薄膜研究进展被引量：13
- 2005年
- 综述了介质/金属/介质(dielectric/metal/dielectric,D/M/D)多层透明导电膜材料的特点、制备方法、研究进展与应用现状,重点比较讨论了 ITO/Ag/ITO、ZnS/Ag/ZnS 的膜系结构、光电性能、化学稳定性、热稳定性等特点,以及与国内外的研究差距。ITO/Ag/ITO、ZnS/Ag/ZnS 是目前光电性能最好,且无需引入过渡层的两种 D/M/D膜系,但有关其热稳定性的评价和研究存在不同的观点。用资源丰富、价格便宜、无毒的掺铝氧化锌(ZAO)薄膜取代含有价格昂贵的贵金属铟的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,ZAO/Ag/ZAO 膜系结构的设计、薄膜制备、光电性能与 IMI 的对比研究是目前国内外 D/M/D 研究中的热点课题和 D/M/D 发展的主要方向。
- 刘静刘丹顾真安
- 关键词：透明导电膜低辐射透明导电薄膜介质光电性能热稳定性
- 导电膜玻璃在化学钢化过程中的性能变化被引量：3
- 2003年
- 比较了在线SnO_2:F和离线溅射ITO两种导电膜玻璃经过化学钢化过程之后在性能上的变化,并对变化机理进行了分析。
- 苗向阳江农基张保军刘静
- 关键词：化学钢化
- 基材温度对铟锡氧化物膜结构与电性能的影响被引量：2
- 2000年
- 采用阴极磁控溅射法 ,在不同基片温度 (180～ 30 0℃ )条件下镀覆铟锡氧化物 (ITO)透明导电膜 .由X射线衍射分析试样结构随温度的变化 ,并测试了样品的方块电阻、电阻率、Hall迁移率、载流子浓度等电性能和膜层的可见光透过率 .基片温度为 180℃时 ,ITO膜 (2 2 2 )衍射峰很强 ,具有 [111]方向择优取向 ;随温度的升高 ,(40 0 )、(44 0 )衍射峰增强 ,晶面随机取向增加 ,同时晶粒变大 ,电阻率降低 .30 0℃时晶粒尺寸为 43 .5nm ,电阻率为 6 .8× 10 - 5 Ω·cm .
- 刘静李秀荣李长珍
- 关键词：磁控溅射基片温度电性能镀膜
- PLMN、PLN、PMN体系压电陶瓷性能与结构的对比研究被引量：6
- 2000年
- 在PLN -PZT、PMN -PZT两个三元系基础上制备的PLMN -PZT四元系压电陶瓷综合了两个三元系材料的优点 ,既具有良好的压电性能又具有小的损耗 ,是一种优良的压电变压器材料。通过三个体系的比较 ,PLMN -PZT四元系材料适中的四方度、晶粒尺寸及晶界处锰的析出是它具有良好压电、介电性能的结构基础。
- 刘静丁凌峰周静崔万秋
- 关键词：压电陶瓷PMN-PZT
- 一种风钢化玻璃的制备方法
- 本发明公开了一种风钢化玻璃制备方法，其步骤如下：1)平板玻璃装片经辊道送入加热室步骤，2)加热步骤，3)冷却步骤，4)卸片步骤；其特点为：加热室内腔至少分设为4段，在该加热室入口处与每个加热段的出口处均安装带有控制装置的...
- 张保军苗向阳欧迎春左岩付静刘静赵芳红
- 文献传递
- 模糊学方法在材料研究中的应用分析被引量：5
- 1999年
- 将模糊学的聚类分析法用Ｆｏｘｐｒｏ 语言编写成模糊聚类分析程序，用于材料研究中． 首先通过不同技术条件下混凝土的模糊聚类分析验证了该方法的可行性与合理性，进而将此程序用于工业废渣的分类，获得了较科学的分类结果．
- 丁凌峰刘静张雄
- 关键词：模糊聚类工业废渣混凝土
- 飞机风挡玻璃电磁屏蔽用ITO透明导电膜的研究
- 采用阴极磁控溅射制备用于电磁屏蔽的ITO透明导电膜,方块电阻在5～40Ω□范围内.测试不同方块电阻膜层的电阻率、膜厚、可见光透光度、雾度、对8～18GHz频率范围内电磁波的反射率等性能,通过X射线衍射图谱和X射线回摆曲线...
- 李秀荣刘静石新勇马眷荣
- 关键词：电磁屏蔽风挡玻璃
- 文献传递
- 一种风钢化玻璃的制备方法
- 本发明公开了一种风钢化玻璃制备方法，其步骤如下：1)平板玻璃装片经辊道送入加热室步骤，2)加热步骤，3)冷却步骤，4)卸片步骤；其特点为：加热室内腔至少分设为4段，在该加热室入口处与每个加热段的出口处均安装带有控制装置的...
- 张保军苗向阳欧迎春左岩付静刘静赵芳红
- 文献传递
- 高频电磁屏蔽用ITO膜结构与性能分析被引量：7
- 2000年
- 采用阴极磁控溅射法制备用于电磁屏蔽的 ITO透明导电膜 ,方块电阻在 5～ 40 Ω/□范围内。测试不同方块电阻膜层的电阻率、膜厚、可见光透光度、雾度、对 8～ 18GHZ频率范围内电磁波的反射率等性能 ,通过 X射线衍射图谱和 X射线回摆曲线研究膜层的结晶程度和晶粒大小对膜层性能的影响 。
- 李秀荣刘静李长珍
- 关键词：磁控溅射镀膜玻璃
