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刘海军

作品数:20 被引量:3H指数:1
供职机构:中国科学院半导体研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 15篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇电子电信

主题

  • 10篇金属
  • 9篇硅基
  • 8篇金属接触
  • 8篇发光
  • 7篇波导
  • 6篇波导结
  • 6篇波导结构
  • 5篇氧化层
  • 5篇二极管
  • 5篇发光二极管
  • 4篇电光
  • 4篇电光调制
  • 4篇电光调制器
  • 4篇电路
  • 4篇电容
  • 4篇调制器
  • 4篇光调制
  • 4篇光调制器
  • 4篇硅衬底
  • 4篇硅发光

机构

  • 20篇中国科学院

作者

  • 20篇刘海军
  • 19篇陈弘达
  • 15篇顾明
  • 13篇黄北举
  • 6篇刘金彬
  • 5篇高鹏
  • 1篇许奇明
  • 1篇张旭

传媒

  • 2篇第九届北京学...
  • 1篇Journa...
  • 1篇高技术通讯

年份

  • 4篇2009
  • 5篇2008
  • 7篇2007
  • 4篇2006
20 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
双电容金属氧化物半导体硅基高速高调制效率电光调制器
一种双电容MOS硅基高速高调制效率电光调制器,包括一SOI衬底;一二氧化硅掩埋层位于SOI衬底上;一p型单晶硅层为SOI衬底上的单晶硅,在p型单晶硅层的两侧形成栅氧化层;一p+注入层制作在p型单晶硅层的上面;一n型单晶硅...
陈弘达黄北举刘海军顾明
文献传递
与标准集成电路工艺兼容的硅基DBR激光器及其工艺
本发明涉及半导体发光器件技术领域,特别是一种与标准集成电路工艺兼容的硅基DBR激光器及其工艺。本发明采用SOI晶片为衬底,利用与标准集成电路工艺兼容的工艺制作,有源区采用PN结发光二极管结构,有源区两侧的无源区内分别设置...
陈弘达刘海军高鹏顾明
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硅基CMOS发光二极管驱动电路的设计
采用商业0.35μm标准CMOS工艺设计了一种硅基CMOS发光二极管的驱动电路。建立了该发光二极管的等效电路模型。模拟结果显示该驱动电路工作频率可以达到200MHz以上,调制输出电流幅度可以达到20mA。该驱动电路能为C...
刘海军顾明刘金彬黄北举陈弘达
关键词:CMOS工艺驱动电路等效电路
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三电容MOS硅基高速高调制效率电光调制器
一种三电容MOS硅基高速高调制效率电光调制器,包括一衬底;一二氧化硅掩埋层位于衬底上;一n型单晶硅层为衬底上的单晶硅,制作成凹槽结构;一n+注入层制作在n型单晶硅层两侧的平面上;一横向栅氧化层和一纵向栅氧化层,制作在n型...
陈弘达黄北举刘金彬顾明刘海军
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深亚微米CMOS工艺电感补偿型光电探测器及制作方法
一种深亚微米CMOS工艺电感补偿型光电探测器,包括:一P衬底;一正方形N阱区制作在P衬底上;一环形浅沟道隔离区制作在N阱区中,且被环形N+区环绕;一阵列形第一P+区制作在N阱区中,且被环形浅沟道隔离区环绕,构成探测器阵列...
陈弘达高鹏顾明刘海军
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多层金属间氧化物脊形波导结构及其制作方法
一种多层金属间氧化物脊形波导结构,包括:一硅衬底;一氧化隔离层位于衬底和阱上,用于隔离不同的电子器件;一PSG磷硅玻璃制作在氧化隔离层、有源区和阱上;第一层金属制作在PSG磷硅玻璃上,作为波导下包层;第一层氧化层制作在第...
陈弘达黄北举顾明刘海军
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与标准集成电路工艺兼容的硅基DBR激光器及其工艺
本发明涉及半导体发光器件技术领域,特别是一种与标准集成电路工艺兼容的硅基DBR激光器及其工艺。本发明采用SOI晶片为衬底,利用与标准集成电路工艺兼容的工艺制作,有源区采用PN结发光二极管结构,有源区两侧的无源区内分别设置...
陈弘达刘海军高鹏顾明
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采用标准CMOS工艺制作的叉指型结构硅发光二极管
一种采用标准CMOS工艺制作的叉指型结构硅发光二极管,包括:一P型硅衬底;一N阱阱制作在P型衬底上的中间部位;一N+叉指型扩散区制作在N阱内;一第一金属接触制作在该N+叉指型扩散区上;一P+叉指型扩散区制作在N阱内;一第...
陈弘达刘海军黄北举
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A High-Performance Silicon Electro-Optic Phase Modulator with a Triple MOS Capacitor被引量:2
2006年
We propose and analyze a novel Si-based electro-optic modulator with an improved metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor configuration integrated into silicon-on-insulator (SOl). Three gate-oxide layers embedded in the silicon waveguide constitute a triple MOS capacitor structure, which boosts the modulation efficiency compared with a single MOS capacitor. The simulation results demonstrate that the Vπ Lπ product is 2. 4V · cm. The rise time and fall time of the proposed device are calculated to be 80 and 40ps from the transient response curve, respectively,indicating a bandwidth of 8GHz. The phase shift efficiency and bandwidth can be enhanced by rib width scaling.
黄北举陈弘达刘金彬顾明刘海军
关键词:METAL-OXIDE-SEMICONDUCTOR
CMOS硅发光二极管驱动电路
一种CMOS硅发光二极管驱动电路,其特征在于,包括:一输入阻抗匹配电路;一差分信号放大电路,该差分信号放大电路接收输入阻抗匹配电路的信号,该差分信号放大电路将输入小信号进行放大;一源跟随器电路,该源跟随器电路接收差分信号...
陈弘达刘海军黄北举
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共2页<12>
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