高南
- 作品数:13 被引量:2H指数:1
- 供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
- 发文基金:国家科技重大专项国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域:理学机械工程电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 一种制作大高宽比光子筛的方法
- 本发明公开了一种制作大高宽比光子筛的方法,该方法包括:制作光子筛掩模版和光学套刻掩模版;利用光子筛掩模版做掩模做X射线复制得到第一复制掩模版;利用第一复制掩模版再次做X射线复制得到第二复制掩模版;利用光学套刻掩模版做掩模...
- 谢常青辛将朱效立高南刘明
- 文献传递
- 复合光子筛投影式光刻系统
- 本发明涉及微纳加工技术领域,公开了一种复合光子筛投影式光刻系统,该系统包括依次放置的照明系统、掩模板、复合光子筛和衬底,其中:照明系统,用于产生入射光,并将该入射光照射至掩模板;掩模板,用于提供复合光子筛成像的物方,入射...
- 谢常青高南华一磊朱效立李海亮史丽娜李冬梅刘明
- 文献传递
- X射线螺旋波带片制备技术
- 2010年
- 本文将电子束曝光和X射线曝光技术相结合以制造X射线波段螺旋波带片。用电子束曝光和微电镀技术在镂空薄膜上制备母波带片X射线掩模版,用X射线曝光和微电镀技术小批量复制螺旋波带片。研制成可用于1.24nm波长的螺旋波带片,其最外环宽度为200nm,金吸收体厚度为700nm,占空比合理,侧壁陡直,结构优良。
- 高南朱效立李海亮谢常青
- 关键词:电子束光刻X射线光刻
- 一种制作大高宽比光子筛的方法
- 本发明公开了一种制作大高宽比光子筛的方法,该方法包括:制作光子筛掩模版和光学套刻掩模版;利用光子筛掩模版做掩模做X射线复制得到第一复制掩模版;利用第一复制掩模版再次做X射线复制得到第二复制掩模版;利用光学套刻掩模版做掩模...
- 谢常青辛将朱效立高南刘明
- 反射式单级衍射光栅被引量:2
- 2012年
- 介绍了单级衍射光栅的发展趋势,从理论上论证了单级衍射光栅的可行性,引入了一种新型衍射光学元件——准正弦反射式单级衍射光栅(QSRG).它能有效抑制高级衍射,可用于提高光谱系统的信噪比和精度.而通过QSRG的实验结果也验证了此新型色散元件确实具有良好的单级衍射特性,二级及以上的高级衍射被有效地抑制,与理论预测几乎一致.本文的结果可望在反射式光谱测量系统中得到广泛应用.
- 翁永超况龙钰高南曹磊峰朱效立王晓华谢常青
- 关键词:单级衍射光栅
- 一种单极涡旋光栅
- 本发明实施例公开了一种单极涡旋光栅,包括衬底薄膜和位于衬底薄膜中的穿所述衬底薄膜的多个透光通孔列,所述多个透光通孔列构成光栅,且每个透光通孔列有多个透光通孔构成;其中,所述透光通孔列的中心位置为对平面波加载涡旋相位分布图...
- 谢常青王恩亮史丽娜李海亮刘明高南
- 文献传递
- 匀光器及其制作方法
- 本发明实施例公开了一种匀光器及其制造方法,所述匀光器为多个环带光子筛单元组成的阵列,所述环带光子筛单元包括波带片和所述波带片的不透光环带上随机分布的透光孔。通过基本单元的波带片及波带片的不透光环带上的透光孔,实现了位相型...
- 谢长青翁永超朱效立高南刘明
- 文献传递
- 复合光子筛投影式光刻系统
- 本发明涉及微纳加工技术领域,公开了一种复合光子筛投影式光刻系统,该系统包括依次放置的照明系统、掩模板、复合光子筛和衬底,其中:照明系统,用于产生入射光,并将该入射光照射至掩模板;掩模板,用于提供复合光子筛成像的物方,入射...
- 谢常青高南华一磊朱效立李海亮史丽娜李冬梅刘明
- 匀光器及其制作方法
- 本发明实施例公开了一种匀光器及其制造方法,所述匀光器为多个环带光子筛单元组成的阵列,所述环带光子筛单元包括波带片和所述波带片的不透光环带上随机分布的透光孔。通过基本单元的波带片及波带片的不透光环带上的透光孔,实现了位相型...
- 谢长青翁永超朱效立高南刘明
- 文献传递
- 一种单极涡旋光栅
- 本发明实施例公开了一种单极涡旋光栅,包括衬底薄膜和位于衬底薄膜中的穿所述衬底薄膜的多个透光通孔列,所述多个透光通孔列构成光栅,且每个透光通孔列有多个透光通孔构成;其中,所述透光通孔列的中心位置为对平面波加载涡旋相位分布图...
- 谢常青王恩亮史丽娜李海亮刘明高南
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