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雷志刚

作品数：1 被引量：13H指数：1
供职机构：北京理工大学理学院更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇电化学
  • 1篇电化学阻抗
  • 1篇电化学阻抗谱
  • 1篇镀层
  • 1篇镀层耐蚀性
  • 1篇镀镍
  • 1篇镀镍液
  • 1篇阳极
  • 1篇阳极极化
  • 1篇酸钠
  • 1篇阻抗谱
  • 1篇镉离子
  • 1篇离子
  • 1篇硫代
  • 1篇硫代硫酸钠
  • 1篇硫酸
  • 1篇硫酸钠
  • 1篇耐蚀
  • 1篇耐蚀性
  • 1篇化学镀

机构

  • 1篇北京理工大学
  • 1篇装甲兵工程学...

作者

  • 1篇韩荣生
  • 1篇贺国旭
  • 1篇雷志刚
  • 1篇朱广东
  • 1篇郑传明

传媒

  • 1篇腐蚀与防护

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
四种稳定剂对化学镀镍液及镀层耐蚀性的影响被引量：13
2007年
采用阳极极化和电化学阻抗谱法研究了硫脲、镉离子、硫代硫酸钠和碘化钾四种稳定剂对化学镀镍液及镀层耐蚀性的影响。结果表明用硫脲作稳定剂时镀速最快,达21μm/h;用碘化钾作稳定剂所获得的镀层的耐蚀性最好;用Cd2+作稳定剂时镀液的稳定性最好。
雷志刚郑传明韩荣生朱广东贺国旭
关键词：化学镀镍阳极极化电化学阻抗谱镉离子硫代硫酸钠
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共1页<1>
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