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罗小晨
作品数:
15
被引量:7
H指数:2
供职机构:
中国科学院微电子研究所
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发文基金:
国家科技重大专项
国家自然科学基金
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相关领域:
一般工业技术
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合作作者
李勇滔
中国科学院微电子研究所
夏洋
中国科学院微电子研究所
李超波
中国科学院微电子研究所
刘杰
中国科学院微电子研究所
罗威
中国科学院微电子研究所
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作者
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2012
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2011
1篇
2010
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一种等离子体浸没离子注入系统
本发明涉及半导体处理技术和设备领域,具体其涉及一种等离子体浸没离子注入系统,包括离子注入腔室、电源部分、注入电极部分和真空部分,还包括掺杂源腔室和隔板;所述掺杂源腔室和所述离子注入腔室通过隔板相连。本发明提既提高了掺杂注...
李超波
刘杰
汪明刚
夏洋
罗威
罗小晨
李勇滔
文献传递
一种Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>耐侵蚀陶瓷涂层的制备方法
本发明涉及大气等离子喷涂技术领域,具体涉及一种Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>耐侵蚀陶瓷涂层的制备方法。所述制备方法,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y<Sub>2</Sub>O<...
王文东
罗小晨
刘邦武
夏洋
李勇滔
文献传递
等离子体浸没离子注入设备
本发明公开了一种等离子体浸没离子注入设备,包括离子注入腔室、电源部分、注入电极部分和真空部分,所述离子注入腔室内四壁设有内衬,所述内衬由包含硅成分的整块材料制成。通过本发明提出的设备可减小等离子体浸没离子注入时腔室内壁的...
刘杰
汪明刚
夏洋
李超波
罗威
罗小晨
李勇滔
文献传递
用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置
本实用新型公开了一种用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置包括隔板A和隔板B,所述隔板A和隔板B设置在离子注入腔室与掺杂源腔室之间,所述隔板A和隔板B相同,并可平行抽动;所述隔板A和隔板B分布着若干个圆孔。通过抽动...
刘杰
汪明刚
夏洋
李超波
罗威
罗小晨
李勇滔
文献传递
等离子体刻蚀工艺腔室内表面的改性处理方法
本发明公开一种等离子体刻蚀工艺腔室内表面的改性处理方法包括对基材进行喷砂处理;及对喷砂处理后基材进行喷涂Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>处理。本发明采用Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Su...
刘邦武
王文东
夏洋
李超波
罗小晨
李勇滔
文献传递
用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置
本发明公开了一种用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置包括隔板A和隔板B,所述隔板A和隔板B设置在离子注入腔室与掺杂源腔室之间,所述隔板A和隔板B相同,并可平行抽动;所述隔板A和隔板B分布着若干个圆孔。通过抽动隔板...
刘杰
汪明刚
夏洋
李晓波
罗威
罗小晨
李勇滔
文献传递
等离子喷涂氧化钇涂层的组织结构
被引量:3
2010年
利用大气等离子喷涂技术在铝基体上制备了氧化钇涂层,采用扫描电镜、X射线衍射仪和金相显微镜对涂层的组织结构进行分析。结果表明:利用等离子喷涂制备的氧化钇涂层没有裂纹,比较致密,其孔隙率为5.58%;涂层由立方相和单斜相组成,喷涂粉末的相结构影响涂层的物相,粉末中的单斜相促进等离子喷涂过程中立方→单斜相变过程。
刘邦武
王文东
罗小晨
李超波
夏洋
关键词:
等离子喷涂
氧化钇
涂层
基片离子均匀注入的方法
本发明公开了一种基片离子均匀注入的方法,包括通过电感耦合的放电方式使掺杂源腔室在高气压下放电产生高密度等离子体;等离子体通过隔板均匀扩散到离子注入腔室;及在注入电极脉冲偏压作用下,离子注入腔室的等离子体中的离子加速注入到...
刘杰
汪明刚
夏洋
李超波
罗威
罗小晨
李勇滔
等离子体刻蚀工艺腔室内表面的改性处理方法
本发明公开一种等离子体刻蚀工艺腔室内表面的改性处理方法包括对基材进行喷砂处理;及对喷砂处理后基材进行喷涂Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>处理。本发明采用Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Su...
刘邦武
王文东
夏洋
李超波
罗小晨
李勇滔
用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置
本发明公开了一种用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置包括隔板A和隔板B,所述隔板A和隔板B设置在离子注入腔室与掺杂源腔室之间,所述隔板A和隔板B相同,并可平行抽动;所述隔板A和隔板B分布着若干个圆孔。通过抽动隔板...
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