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Si含量对VAlSiN涂层微结构、力学性能和摩擦磨损性能的影响被引量：2: 2017年; 采用反应磁控溅射技术,在300℃下制备不同Si含量的VAlSiN涂层。研究Si含量的变化对VAlSiN涂层相结构、生长形貌、化学状态、力学性能和摩擦磨损性能的影响。结果表明:不含Si的VAlN涂层呈现(111)择优取向生长。随着Si含量的增加,VAlSiN涂层的(111)择优取向逐渐消失,最终转变为非晶结构。Si含量大于1.8%(原子分数,下同)的VAlSiN涂层是由nc-VAlN和a-Si_3N_4组成的多相复合涂层。与VAlN涂层相比,添加少量Si(0.8%)的VAlSiN涂层晶粒尺寸减小,致密度得到提高,对应的涂层硬度也得到显著增大,达到30.1GPa。继续增加Si的含量,VAlSiN涂层的柱状生长结构被打断,硬度逐渐下降,最后稳定在22GPa左右。VAlSiN涂层的摩擦因数随着Si含量的增加先降低后升高。当Si含量为0.8%时涂层的磨损率最低,达1.2×10^(-16)m^3·N^(-1)·m^(-1)。; 王恩青岳建岭李淼磊李栋黄峰; 关键词：磁控溅射微结构摩擦磨损性能

TiAlN/TiN纳米多层膜的微结构与力学性能被引量：7: 2016年; 采用多靶反应磁控溅射制备了一系列TiAlN层厚固定,TiN层厚在一定范围内连续变化的不同调制结构的TiAlN/TiN纳米多层膜,并使用X射线衍射分析、扫描电子显微镜、纳米压痕仪和CETR-UMT-3型多功能摩擦磨损试验机对多层膜的微观结构和力学性能进行了表征和分析。研究结果表明:TiAlN/TiN纳米多层膜形成了周期性良好的成分调制结构,其中TiN层的插入并没有打断TiAlN层的柱状晶生长。在一定的调制周期下,TiN层和TiAlN层能够形成共格外延生长结构,多层膜呈现硬度异常升高的超硬效应,当TiN层厚约为1.6 nm时多层膜的硬度达到最大值50 GPa,并具有相比于TiAlN单层膜更低的摩擦系数。进一步增加TiN层厚,由于多层膜共格界面结构的破坏,多层膜的硬度随之降低。; 胡春华董学超李淼磊黄小忠岳建岭; 关键词：反应磁控溅射调制结构超硬效应

TiAlN/TiN纳米多层涂层的微结构与力学性能: 采用物理气相沉积技术(Physical Vapor Deposition,PVD)制备陶瓷薄膜或涂层对金属基体进行表面改性正获得越来越多的应用.TiAlN涂层因能够大大提高刀具的切削效率和使用寿命,成为目前获得最广泛商业...; 岳建岭董学超王恩青李淼磊胡春华; 关键词：反应磁控溅射调制结构超硬效应

沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响被引量：5: 2015年; 采用磁控溅射工艺制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层,利用X射线衍射、扫描电镜、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构和性能进行了分析。研究结果表明:室温下制备的涂层生长缺陷较多,残余应力较大。适当提高沉积温度至300℃,涂层的晶体结晶性得到提高,柱状晶粗大贯穿整个膜厚,晶粒尺寸变大;继续提高沉积温度至500℃时,涂层呈(200)择优取向,晶粒尺寸变小,涂层致密度提高。随着沉积温度的提高,涂层的硬度略有下降,但是涂层的摩擦学性能得到大幅度提升。500℃制备涂层的硬度为29.7 GPa,磨损率达到6.1×10-17m3/Nm,比室温制备的涂层的磨损率降低了两个数量级。; 王恩青李淼磊朱萍黄峰岳建岭; 关键词：磁控溅射沉积温度

VC/TiC超晶格薄膜的微结构及超硬效应（英文）被引量：1: 2015年; 采用磁控溅射工艺制备VC/TiC超晶格薄膜,并采用EDXA,XRD、HRTEM和纳米力学探针研究调制周期对超晶格薄膜的微结构和力学性能的影响。研究结果表明,当超晶格薄膜的调制周期低于临界厚度时,制备的VC/TiC超晶格薄膜能够形成共格生长结构,并获得硬度显著提高的超硬效应。然而,随着调制周期的进一步增大,超晶格薄膜的共格结构遭到破坏,导致薄膜的硬度逐渐降低,并最终趋于其组元的混合平均值。XRD结果表明,当形成共格生长结构时,超晶格薄膜内部将产生共格协调应变,从而改变不同调制层的弹性模量,这也是VC/TiC超晶格薄膜能够获得超硬效应的重要原因。; 董学超岳建岭王恩青李淼磊李戈扬; 关键词：超晶格薄膜超硬效应

TiAlN/VN纳米多层膜的微结构与力学和摩擦学性能被引量：8: 2017年; 采用反应磁控溅射制备了Ti Al N/VN纳米多层膜,并使用X射线衍射分析(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、纳米压痕仪和多功能摩擦磨损试验机对多层膜的微结构与力学和摩擦学性能进行了表征和分析。研究结果表明:不同调制周期的Ti Al N/VN多层膜均呈典型的柱状晶生长结构,插入VN层并没有打断Ti Al N涂层柱状晶的生长。在一定调制周期下,Ti Al N/VN纳米多层膜中的Ti Al N和VN层之间能够形成共格生长结构,其硬度和弹性模量相比于Ti Al N单层膜均有显著提升,其中,Ti Al N(10 nm)/VN(10 nm)的硬度和弹性模量最大增量分别达到39.3%和40.9%。Ti Al N/VN纳米多层膜的强化主要与其共格界面生长结构有关。另外,Ti Al N单层膜的摩擦系数较高(~0.9),通过周期性地插入摩擦系数较低的VN层能够使得Ti Al N的摩擦系数大大降低,Ti Al N/VN纳米多层膜的摩擦系数最低为0.4。; 李淼磊王恩青王恩青黄小忠; 关键词：反应磁控溅射

MnO_2对8YSZ低温活化烧结及其性能的影响被引量：2: 2012年; 以MnO2为8YSZ的烧结助剂,研究MnO2含量和烧结工艺参数对8YSZ活化烧结及其性能的影响。采用阿基米德排水法、维氏显微硬度仪、电子万能试验机对烧结块体的致密度、硬度和抗弯强度进行分析,并使用扫描电子显微镜(SEM)、X线衍射分析(XRD)对其微观形貌和相组成进行表征。实验结果表明:块体的致密度随着MnO2含量的增加而逐渐增加,当MnO2添加量为3%时获得了最好的烧结效果;随着温度的升高,块体致密度也逐渐增加,在1 300℃烧结4 h时,致密度达到了98.59%;在此条件下,样品的硬度与抗弯强度均为最佳,分别为1 830.21(HV)与235.46 MPa。; 周宏明李淼磊郭雁军李荐贾晓慧罗海棠; 关键词：MNO2 微观结构力学性能

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李淼磊