娄迪
- 作品数：10 被引量：35H指数：4
- 供职机构：浙江大学更多>>
- 发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金航天支撑技术基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学化学工程更多>>
- 压电薄膜自适应变形微反射镜阵列研究被引量：2
- 2007年
- 介绍了自适应光学系统中的一种全新的基于Pb(ZrxTi1-xO3)(PZT)薄膜的微反射镜阵列。通过控制PZT薄膜两端电压实现微镜单元的微量形变,改变反射镜局部面形,校正畸变波面的波差,改善成像质量。该方案在重掺杂Si片基底上依次制备PbTiO3(PT)、PZT,最后镀Al作为反射面,形成Si/PT/PZT/Al的膜层结构。对制备完全的试片在数字波面干涉仪上进行了形变测试,尽管受到了薄膜热形变作用的影响,仍实现了约1.2μm的可控形变,证明该方案用做自适应变形反射镜的可行性。
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- 关键词：自适应光学压电效应
- 室温Si-玻璃直接键合技术研究被引量：6
- 2004年
- 将表面亲水性处理过的玻璃和Si片在室温、大气的环境下干燥,进行温度为150℃以下、时间为20～200h的预键合。预键合后,Si和玻璃基片表面能有显著的提高,水分子和Si表面Si OH原子团中的O原子连在一起,OH-团数量增加了许多,形成较多的H键。预键合的Si 玻璃基片在200℃下退火,消除由Si、玻璃热膨胀系数和热传导系数差异引起的诱导应力。2基片的Si OH间发生聚合反应,产生水及Si O键,使得基片键合的表面能得到了更好的提高。测量了室温键合时间对Si 玻璃表面能力的影响以及退火时间对键合强度的影响。实验结果证明,这项技术对Si 玻璃器件的键合十分有效。
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- 关键词：室温退火时间诱导应力半导体工艺
- SiO_2薄膜辅助硅-玻璃热键合技术的研究
- 2005年
- 为了解决Si和普通玻璃进行直接键合时材料的热失配问题,提出了利用SiO2薄膜辅助进行硅-玻璃热键合(SGTB)的技术.通过分析SiO2薄膜辅助SGTB技术的化学物理过程,对键合过程中的工艺条件进行了优化.利用反应离子束蚀刻(RIBE)对基片进行抛光,使得键合表面达到2 nm级的表面粗糙度.在大气的环境下将处理过的玻璃、Si基片干燥, 进行预键合.预键合好的Si、玻璃基片在200℃的氧化环境下退火,基片之间的硅烷醇键发生聚合反应,形成硅氧键键合.实验结果表明,硅和玻璃基片的表面能经过预键合后有了提高,水分子和Si表面SiO2中的氧原子交连在一起,OH-数量增加,形成硅烷醇键.Si表面热生长SiO2薄膜的存在,减少了由Si、玻璃热膨胀系数和热传导系数差异引起的诱导应力.
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- 应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究
- 介绍了以K9玻璃为基体材料MOEMS器件的湿法刻蚀工艺。选择了光刻胶,铬,氮化硅,ITO等多种材料作为基底材料抗腐蚀的掩膜,利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验,研究了刻蚀环境温度对保护膜的影响。对比与分析了多种试...
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- 关键词：湿法刻蚀微光机电系统抗腐蚀掩膜
- 文献传递
- 谐衍射光学设计理论和应用研究
- 普通衍射光学元件的设计以及加工在红外波段已经十分成熟，利用其特殊的负色散以及负热差特性可以有效地进行光学系统的消色差和无热化设计，因此衍射光学元件以及折/衍射混合光学系统在现代光学领域的应用也越来越广泛。目前，光学系统的...
- 娄迪
- 关键词：衍射光学光学系统光学元件光学设计传递函数
- 应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究
- 介绍了以K9 玻璃为基体材料MOEMS 器件的湿法刻蚀工艺。选择了光刻胶，铬，氮化硅，ITO 等多种材料作为基底材料抗腐蚀的掩膜，利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验，研究了刻蚀环境温度对保护膜的影响。对比与分析了...
- 黄腾超沈亦兵陈海星娄迪侯西云
- 关键词：掩膜光刻胶
- 文献传递
- 用于可见光波段的二元光学混合光学系统的设计与应用被引量：12
- 2006年
- 研制了一套应用于可见光波段(中心波长632.8 nm)的二元光学谐衍/折混合光学系统。设计要求为:焦距120 mm,入瞳孔径60 mm,F/#数为2,波面峰谷值(P-V)在λ/10以下。因为加工误差等因素,其P-V测得约λ/5,但已满足Strehl判据(<λ/4),结果验证了二元光学元件(BOEs)在可见光波段应用的可行性。系统中,二元面采用8台阶3次套刻,掩模最小线宽为102μm。根据测试结果,提出了改进现有系统缺陷的方向和措施。
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- 关键词：二元光学波像差
- 应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究被引量：8
- 2004年
- 介绍了以K9玻璃为基体材料MOEMS器件的湿法刻蚀工艺。选择了光刻胶,铬,氮化硅,ITO等多种材料作为基底材料抗腐蚀的掩膜,利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验,研究了刻蚀环境温度对保护膜的影响。对比与分析了多种试验结果并对其适用范围进行了适当的评价。
- 黄腾超沈亦兵陈海星娄迪侯西云
- 关键词：湿法刻蚀微光机电系统抗腐蚀掩膜
- 微光学自适应技术中基于PZT薄膜的微反射镜工艺研究被引量：3
- 2006年
- 介绍了微光学自适应技术中基于PZT(PbZrxT i1-xO3)薄膜的微反射镜单元及其制作工艺。该制作过程中用重掺杂硅片作为基底和下电极,采用了钛酸丁脂[(C4H9O)4T i]、乙酸铅[Pb(CH3COO2).3H2O]以及异丙醇锆[Zr(OCH(CH3)2 4.(CH3)2CHOH]为原料,通过溶胶-凝胶法(so l-gel)制作薄膜,薄膜厚度为纳米级。制成的PZT薄膜通过逆压电效应产生形变,对反射镜面局部进行微调,实现波前位相控制。
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- 关键词：自适应光学微反射镜PZT薄膜逆压电效应
- 谐衍/折光学在可见光波段的应用研究
- 二元光学元件已经比较成熟地应用于红外波段的各种光学系统中,由于制作工艺、设计方法等的限制,在可见光波段的应用还比较少。本应用尝试二元光学衍/折混合代替数字波面干涉仪的标准球面镜头,期望新的混合镜组能改善原镜头的像差。从实...
- 娄迪白剑侯西云杨国光
- 关键词：二元光学
- 文献传递
