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韩圣安

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院大连化学物理研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇面粗糙度
  • 3篇表面粗糙度
  • 3篇粗糙度
  • 2篇氧化硅
  • 2篇水溶
  • 2篇水溶液
  • 2篇抛光
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 2篇二氧化硅
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇硅镜
  • 1篇超光滑
  • 1篇大尺寸

机构

  • 3篇中国科学院

作者

  • 3篇韩圣安
  • 3篇孙龙
  • 2篇刘顺福
  • 2篇王锋
  • 1篇焦彤
  • 1篇桑凤亭
  • 1篇黄润兰
  • 1篇鞠玉玫

传媒

  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2008
  • 1篇2000
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
大尺寸硅镜超光滑表面加工的面型控制
2000年
使用机械 -化学抛光法加工大尺寸单晶硅可获超光滑表面 ,但很难保证良好的面型。提出通过采用开圆孔并连续注入抛光剂的方法来避免抛光盘中心蜂窝眼的出现 ,可以保证得到良好的面型。最后实验达到较好的面型精度 ,PV值 0 .2 68λ,rms值 0 .0 65λ。
焦彤孙龙黄润兰鞠玉玫韩圣安桑凤亭
关键词:超光滑单晶硅表面粗糙度
一种白宝石晶体的表面加工方法
本发明涉及白宝石晶体的表面加工方法,具体地说是用重量浓度30-50%二氧化硅水溶液进行化学机械抛光,精抛光的操作条件为:溶液PH值为9~11,温度控制在22~25℃,机床转速为40~100转/分,抛光时间为8~14小时。...
刘顺福孙龙王锋韩圣安
文献传递
一种白宝石晶体的表面加工方法
本发明涉及白宝石晶体的表面加工方法,具体地说是用重量浓度30-50%二氧化硅水溶液进行化学机械抛光,精抛光的操作条件为:溶液pH值为9~11,温度控制在22~25℃,机床转速为40~100转/分,抛光时间为8~14小时。...
刘顺福孙龙王锋韩圣安
文献传递
共1页<1>
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