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邓建芳

作品数：4 被引量：24H指数：2
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇溅射
  • 3篇光电
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇电致发光
  • 2篇有机电致发光
  • 2篇直流磁控
  • 2篇直流磁控溅射
  • 2篇光电性
  • 2篇光电性能
  • 2篇发光
  • 2篇ITO膜
  • 1篇电特性
  • 1篇电致发光器件
  • 1篇氧化铟
  • 1篇氧化铟锡
  • 1篇有机电致发光...
  • 1篇制备及性能
  • 1篇显示器
  • 1篇显示器件

机构

  • 4篇电子科技大学

作者

  • 4篇邓建芳
  • 3篇李军建
  • 2篇杨健君
  • 1篇于军胜
  • 1篇林慧
  • 1篇蒋亚东
  • 1篇王军

传媒

  • 1篇光电子．激光
  • 1篇光电子技术
  • 1篇现代显示

年份

  • 1篇2007
  • 2篇2006
  • 1篇2005
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
低温ITO膜的制备及光电性能被引量：12
2005年
论述了直流磁控溅射法低温ITO透明导电薄膜的过程中,衬底温度、溅射功率、溅射压强、水蒸气分压对ITO薄膜的光电性能的影响。在通入分压为3×10-5Torr的水蒸气、衬底温度50℃、低功率100W的条件下制备出了光电性能优良的ITO透明导电膜,其方阻为27.5Ω/□,在可见光区平均透过率高于为83%。
邓建芳李军建杨健君
关键词：直流磁控溅射光电性能
低温ITO膜的制备及性能研究
目前平板显示领域中，有机电致发光（OLED）显示器件是国内外研究的热点之一。OLED显示器件经常采用ITO膜作为有机发光的出射面和透明电极，要求ITO膜可见光透过率、导电性、表面平整度以及功函数都很好。低电阻率的ITO膜...
邓建芳
关键词：有机电致发光显示器件ITO膜
水蒸气分压强对ITO薄膜均匀性和光电性能的影响被引量：2
2006年
直流磁控溅射法低温制备ITO透明导电薄膜的过程中，在衬底温度为60℃其它工艺参数不变的情况下，通过改变通入的水蒸气分压0～6．67×10^-3Pa制备了不同结构的薄膜，研究了水蒸气分压对ITO薄膜电阻率和膜厚的均匀性，光电特性，以及晶体结构的影响。水蒸气的引入可以改善ITO薄膜的电阻率均匀性和膜厚均匀性，增加了ITO薄膜的导电性，对ITO膜可见光透过率也有所提高。
邓建芳李军建杨健君
关键词：氧化铟锡磁控溅射均匀性光电特性
低温ITO薄膜制备及其在TOLED中的应用被引量：10
2007年
通过在直流磁控溅射过程中加入微量水蒸气的方法,在低于60℃温度条件下制备了具有优良光电性能的透明导电ITO薄膜,并探讨了溅射功率、基板温度对ITO薄膜光电性能的影响。利用制得的ITO薄膜作电极,制作了结构为ITO/CuPc/NPB/Alq3/BCP/Mg∶Ag/ITO的透明有机电致发光器件(TOLEDs),结果表明,器件的平均透过率达到45%;在驱动电压15V的条件下,发光亮度达到了3000cd/m2。
林慧蒋亚东于军胜李军建王军邓建芳
关键词：ITO薄膜直流磁控溅射光电性能
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