赵立新
- 作品数：228 被引量：71H指数：6
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术机械工程理学更多>>
- 接近式光刻对准中的叠栅干涉测角方法被引量：2
- 2014年
- 干涉测量是众多科学与工程领域广泛采用的精密计量手段。探索了一种方便可控的基于双光栅衍射的叠栅干涉相敏测角方法,可直接用于接近式光刻过程中掩模衬底的倾斜矫正及面内角调节,便于微纳米器件及微光电子系统集成等相关应用。本方法旨在分别利用双光栅多次衍射产生的对称与相似级次,实现(m,-m)级叠栅干涉与(m,0)级叠栅干涉,产生相位与二者相对倾斜角、面内角有关的场分布。分析推导了叠栅干涉测角的基本原理,然后介绍相应的(m,-m)级与(m,0)级干涉测角方案设计。具体而言,二者均类似地根据条纹偏转及频率变化分别以离轴与同轴的方式监测倾斜及面内偏转角度。设计相应的组合光栅标记进行实验验证。实验结果及分析表明,倾斜角与面内角的调节精度分别可达10-3 rad及10-4 rad。
- 佟军民周绍林赵立新胡松
- 关键词：微细加工光刻
- 一种新的多功能微纳加工平台及其应用
- 摩尔定律一直被认为是半导体行业发展的金科玉律,而要让摩尔定律一直有效的关键是不断提高光刻分辨力。众所周知,从投影式光刻机的分辨力公式可以看出,提高分辨力的途径是降低工艺因子、缩短曝光波长和增大数值孔径,而缩短光源波长和增...
- 杨勇Bo Pi赵立新胡松
- 一种基于二维双频光栅剪切干涉的纳米级检焦方法
- 本发明涉及一种基于二维双频光栅剪切干涉的纳米级检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。检测系统通过二维光栅在子午面和弧矢面由两类不同频率的光栅剪切干涉，根据测量子午和弧矢面内4个区域的...
- 朱咸昌胡松赵立新
- 文献传递
- 一种大梯度自由曲面测量方法
- 本发明公开了一种大梯度自由曲面测量方法，对待测自由曲面施加一定的角度，完成待测自由曲面衍射物光波的空间频率调制，被图像传感器采集。通过调整多个角度并记录多帧自由曲面不同角度的全息图，然后通过图像处理算法，完成每帧全息图条...
- 金川何渝唐燕冯金花胡松赵立新
- 光刻机外型设计新理念
- 2013年
- 光刻机是微纳器件的重要加工设备之一,推动着电子工业的不断发展。研发人员在设计过程中首要关注的是其功能的多样性、可靠性、实用性以及设备的经济性等方面。与其主要强调功能相比,外型设计往往容易被忽视,而良好的外型对用户的使用和感官意义重大。光刻机外型主要包括形态、色彩、材质、人机工程学、技术经济性以及绿色设计等方面,文章对此展开全面分析,提出了一套可行的光刻机外型设计理念。为光刻机外型设计指明了方向。
- 蒋薇赵立新
- 关键词：光刻机人机工程学技术经济性绿色设计
- 一种交织型光子筛
- 本发明公开了一种交织型光子筛，含有透明介质、金属层和微细结构，在透明介质上制备有金属层，并在金属层上刻蚀出所需的微细结构加工而成，所述微细结构由环带状分布的处于多个奇数环带和多个偶数环带上的不同半径的多个小孔组成，处于偶...
- 唐燕胡松赵立新严伟
- 文献传递
- 一种宽波段减反的新型苞状蛾眼结构模拟研究被引量：7
- 2021年
- 基于传统抛物面蛾眼结构(PSMS)的优良减反性能,设计出一种具有抛物线中心截面的新型苞状蛾眼结构(BSMS)。采用时域有限差分法(FDTD),通过对比PSMS在不同底面直径和高度下的平均反射率,确定了最佳底面直径为200 nm;在此基础上分析了PSMS、BSMS及圆锥形蛾眼结构(CSMS)在不同高度下的反射率大小和截面电场强度分布,并通过等效介质理论对BSMS的减反性能进行进一步理论分析。结果表明:在300~1200 nm波段和300~1000 nm高度范围内,BSMS的平均反射率均低于PSMS及CSMS;当底面直径为200 nm、高度为800 nm时,BSMS的平均反射率低至0.19%,减反效果约为PSMS的3.5倍,约为CSMS的3.8倍,具有优异且平稳的抗反射性能,为减反结构的进一步设计和优化提供了参考。
- 兰俊陈劲松肖志刚赵立新胡松胡松
- 关键词：时域有限差分法太阳能电池
- 双工件台光刻机中的焦面控制技术被引量：6
- 2012年
- 面对可用焦深日益缩短的趋势,高精度的焦面控制技术显得尤为重要。针对双工件台光刻机中采用的焦面控制技术,介绍了基于偏振调制的光栅检焦技术及其测量原理,研究了双工件台光刻机中的调平调焦技术。基于平面拟合、最小二乘法及坐标变换公式推导了曝光狭缝内离焦量计算公式;研究了一种离焦量解耦算法,该算法将曝光狭缝内离焦量解耦为调平调焦机构三个压电陶瓷的独立控制量,并使狭缝曝光场中心在调平调焦运动过程中不发生平移。经仿真分析表明,该算法可用于调平调焦精度优于10nm的高精度调焦调平系统,能满足线宽小于100nm投影步进扫描光刻机的需要。
- 李金龙胡松赵立新
- 关键词：光学器件光刻术
- 基于紫外宽光谱自成像制备二维周期阵列的光刻方法及装置
- 本发明公开了一种基于紫外宽光谱自成像制备二维周期阵列的光刻方法及其装置，其特点是，当采用非单色紫外宽光谱照明周期掩模时，不同光谱和级次的自成像光场分布相互交错叠加，在掩模后一定距离范围内可形成连续可成像区域。本发明利用紫...
- 邓茜刘俊伯姚靖威程依光司新春邓钦元周毅赵立新胡松
- 文献传递
- 一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法
- 本发明涉及一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。利用微透镜阵列对携带有硅片位置信息的波前进行检测，根据哈特曼波前检测原理，微透镜阵列的各个子单元将球面波波...
- 朱咸昌胡松赵立新
- 文献传递
