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王素娟

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：电子工业部第四十三研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文科技成果

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电路
  • 1篇淀积
  • 1篇气相淀积
  • 1篇化学气相淀积
  • 1篇混合集成电路
  • 1篇集成电路
  • 1篇表面钝化

机构

  • 1篇电子工业部第...

作者

  • 1篇刘慧卿
  • 1篇赵维艳
  • 1篇邢聪贤
  • 1篇王素娟
  • 1篇张凤琴

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
混合集成电路表面钝化技术
王素娟邢聪贤刘慧卿赵维艳张凤琴
PECVDSi3N4膜是以硅烷与但其作为反应气体制备出来的一种等离子增强型化学气相淀积膜，该膜质量极好，适用于有源和无源器件的表面钝化。对半导体芯片钝化，可阻挡Na+玷污，有明显的提取Na+作用。可减小漏电流，提高击穿电...
关键词：
关键词：表面钝化混合集成电路
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共1页<1>
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