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文献类型

  • 16篇中文专利

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 12篇硅钢
  • 10篇取向硅钢
  • 6篇铁损
  • 5篇硅钢片
  • 5篇高磁感
  • 4篇渗氮
  • 4篇退火
  • 4篇钢板
  • 4篇板型
  • 3篇硅钢板
  • 3篇板厚
  • 3篇常化
  • 3篇磁性能
  • 2篇轧板
  • 2篇铁芯
  • 2篇铁芯变压器
  • 2篇热轧
  • 2篇热轧板
  • 2篇位相
  • 2篇线圈

机构

  • 16篇武汉钢铁股份...

作者

  • 16篇林勇
  • 11篇郭小龙
  • 11篇王若平
  • 10篇朱业超
  • 9篇毛炯辉
  • 8篇王向欣
  • 7篇张福斌
  • 6篇骆忠汉
  • 6篇许光
  • 4篇陈卫星
  • 4篇田文洲
  • 4篇胡守天
  • 2篇傅连春
  • 2篇孙山
  • 2篇杨皓
  • 2篇张文辉
  • 2篇赵启博
  • 2篇钟光明
  • 2篇姚腊红
  • 2篇曹阳

年份

  • 1篇2017
  • 3篇2016
  • 3篇2015
  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 2篇2012
  • 3篇2011
  • 1篇2009
16 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
用于低磁性不锈钢磁性的测量装置
本实用新型涉及用于低磁性不锈钢磁性的测量装置。其主要由底座、测量接线柱、磁化接线柱、线圈支杆、线圈支杆两端的挡板、磁化线圈、测量孔、线圈层之间的绝缘层组成,其将线圈支杆及两端的挡板设置在与底座连接的磁化箱内;测量孔为方形...
姚腊红张福斌赵启博林勇胡守天
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一种高磁感取向硅钢带渗氮处理方法
本发明涉及高磁感取向硅钢渗氮后处理方法。其步骤:冶炼、连铸,铸坯加热、热轧、常化及冷轧后进行脱碳退火;一次性渗氮;均匀化处理;涂布氧化镁隔离剂;进行高温退火;进行涂布绝缘层、拉伸、平整工艺后,待用。本发明中的均匀化处理可...
郭小龙许光毛炯辉王若平骆忠汉林勇孙亮方泽民陈圣林
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一种分三段常化生产高磁感取向硅钢带的方法
一种分三段常化生产高磁感取向硅钢带的方法,其步骤:将铸坯加热到1100~1250℃;热轧到成品厚度的6~15.3倍厚;卷取;分三段进行常化退火;一次性采用130~250℃时效轧制方式冷轧至成品厚度;在湿式N<Sub>2<...
毛炯辉王若平许光郭小龙张文辉傅连春曹阳骆忠汉林勇钟光明朱业超
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通过激光刻痕改善取向硅钢磁性能的方法
本发明公开了一种通过激光刻痕改善取向硅钢磁性能的方法。该方法采用激光束在高温退火后的取向硅钢片表面上刻划出若干条平行布置的线状或点线状沟槽,各条线状或点线状沟槽与取向硅钢片轧制方向的夹角α=78~88°,相邻线状或点线状...
朱业超王向欣毛炯辉王若平胡守天张福斌林勇杨皓
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硅钢表面复合电解电镀装置
本实用新型涉及一种硅钢表面复合电解电镀装置,包括槽体、阴极板、阳极板、直流电源,其特征在于,所述槽体包括电解槽和电镀槽,该电解槽和电镀槽用挡板隔开,分别填充电解液和电镀液,所述电解槽和电镀槽中还包括支撑架,该支撑架用于分...
朱业超王向欣毛炯辉王若平林勇胡守天
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一种能防止取向硅钢二次再结晶退火边裂的涂料
一种能防止取向硅钢二次再结晶退火边裂的涂料,其原料组成及wt%:氧化镁:40.3~81.4%,硼酸:14.7~49.1%,添加剂小于28.7%;外加上述原料总重量的50~200%的去离子水。本发明能使取向硅钢成品边裂发生...
许光毛炯辉王若平郭小龙田文洲杜玉泉林勇
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一种金属氧化膜分析仪
本发明为解决取向硅钢板表面氧化层检测周期长,投资成本高的问题,提供了一种基于原电池反应原理,可对金属氧化层进行快速测量的分析设备,该分析设备包括电位差计、铜导杆、盖板、酸槽、水槽和恒温磁力搅拌器和多孔阻板,其中恒温磁力搅...
朱业超王仁学周前华骆忠汉程祥威王向欣郭小龙林勇肖光润
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一种能提高低温高磁感取向硅钢磁性能的一次冷轧方法
一种能提高低温高磁感取向硅钢磁性能的一次冷轧方法:常规冶炼、铸坯、热轧并卷取;经酸洗及常化后将钢板预热;进行一次冷轧:第一道次轧制速度不低于200m/min;乳化液单侧喷淋;第二道次至倒数第三道次轧制速度在400~600...
骆新根王若平郭小龙毛炯辉许光林勇高洋罗敏田文洲黄斌
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可拆卸式软磁测量装置
一种可拆卸式软磁测量装置,它由多个测量单元及待测试样组成一个闭合测量回路,每个测量单元中有一个硬质框架,框架上绕制有磁化线圈和测量线圈,各测量单元之间的磁化线圈和测量线圈分别首尾顺次相连,每个绕制线圈的框架中留有插入待测...
姚腊红赵启博林勇
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一种取向硅钢多次激光刻槽降低铁损的方法
一种取向硅钢多次激光刻槽降低铁损的方法:其步骤:预刻刻槽:对经退火后的冷轧取向硅钢板的单面采用激光束预刻成线状或点线状刻槽,其预刻刻槽的深度为目标刻槽深度的30~50%,预刻刻槽的宽度为目标刻槽宽度的60~80%;相邻两...
朱业超王向欣王若平郭小龙田文洲孙山陈卫星张福斌林勇
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共2页<12>
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