朱玉梅
- 作品数：4 被引量：1H指数：1
- 供职机构：同济大学更多>>
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- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- HfO2高激光损伤阈值薄膜的制备及特性研究
- 采用水热合成技术,制备了HfO2胶体,用旋涂法镀制了单层HfO2介质膜。采用XRD,椭偏仪,红外光谱 (FTIR)等方法对薄膜进行了测试和表征,用输出波长为1 064 nm,脉宽为10 ns的电光调Q激光系统产生的强激光...
- 沈军罗爱云王生钊欧阳玲谢志勇朱玉梅
- 关键词：HFO2薄膜高折射率激光损伤阈值
- 文献传递
- HfO2高激光损伤阈值薄膜的制备及特性研究被引量：1
- 2007年
- 采用水热合成技术，制备了HfO2胶体，用旋涂法镀制了单层HfO2介质膜。采用XRD，椭偏仪，红外光谱（FTIR）等方法对薄膜进行了测试和表征，用输出波长为1064nm，脉宽为10ns的电光调Q激光系统产生的强激光测试其激光损伤阈值。研究了热处理温度对薄膜厚度、折射率、红外光谱、晶态以及激光损伤阈值的影响，并对薄膜的激光损伤形貌进行了分析。研究结果表明：HfO2薄膜的折射率可达到1．655；采用150℃左右的温度对薄膜进行热处理可以提高薄膜的激光损伤闽值，此时薄膜的激光损伤阈值高达42．32J／cm^2（1064nm，10ns），大大高于物理法制备的HfO2薄膜的激光损伤阂值（8．6J／cm^2，1064nm。12ns）。
- 沈军罗爱云王生钊欧阳玲谢志勇朱玉梅
- 关键词：HFO2薄膜高折射率激光损伤阈值
- 低介电常数纳米氧化硅薄膜(英文)
- 2010年
- 介绍了一种新制备低介电常数 SiO2薄膜的方法。以 TEOS 为前躯体、盐酸为催化剂、CTAB 作为模版剂,采用溶胶-凝胶法制备硅溶胶,以浸渍提拉法制备薄膜。采用 FITIR、XRD 和 AFM 等方法表征了薄膜,并用阻抗分析仪测量介电常数。结果表明,通过调节 CTAB 的浓度和老化时间可以制得介电常数小于 2.2 的 SiO2 薄膜,薄膜拥有较好的机械强度和耐刮擦性,通过采用六甲基二硅胶烷(HMDS)对薄膜表面进行修饰,可以提高薄膜的疏水性能从而提高其在空气中的稳定性。
- 沈军朱玉梅林雪晶吴广明周斌倪星元姚兰芳汪国庆汪培庆汪庆峰牛锡贤
- 关键词：低介电常数溶胶-凝胶法
- 溶胶-凝胶技术在玻璃镀膜中的应用
- 综述了溶胶-凝胶镀膜方法的优势及不足,介绍了SiO2、TiO2、ZrO2、HfO2、Al2O3、WO3、V2O5等多种氧化物薄膜的制备及其应用.在溶胶-凝胶基础上,采用提拉浸镀法制备了三种不同类型的SiO2减反射光学薄膜...
- 沈军王晓栋王生钊朱玉梅刘源
- 关键词：光学材料玻璃镀膜氧化物薄膜光谱性能力学性能
- 文献传递
