徐清兰
- 作品数：21 被引量：51H指数：2
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：机械工程化学工程金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 直角棱镜刚性上盘高效生产技术研究
- 报告直棱镜刚性成组上盘大批量高效生产工艺技术。讨论了棱镜粗磨铣磨成型，精磨磨具的参数选择以及丸片精磨镜盘的面形稳定性分析。给出了聚氨酯平盘抛光工艺参数，报告了这些研究试验结果在生产线上的应用效果。
- 徐清兰杨力冯萍
- 塑性加工条件下射流颗粒冲击去除效应被引量：1
- 2014年
- 针对在微观上存在尖锐突起、凹坑和划痕等缺陷的光学元件,提出用低质量分数磨料水射流冲击的方式对其进行处理。从弹性接触出发,对射流中粒子与元件发生塑性接触的临界速度进行了推导,并引入了塑性转入脆性加要的临界速度,从而对射流的塑性去除阶段作了明确的界定。针对常用的两种光学材料K9和石英玻璃,结合具体参数对使其处于塑性去除阶段的射流速度进行了模拟计算,利用单颗粒冲击去除模型,在塑性去除范围内对两种材料的冲击去除进行了模拟计算。结果表明:石英玻璃进入塑性去除的临界速度高于K9玻璃,而进入脆性去除的临界速度低于K9玻璃,因而使石英玻璃处于塑性去除阶段的射流速度范围为K9玻璃相应速度范围的子区间;在塑性去除阶段,各材料的去除量皆随着冲击速度的增大而增大,但较硬的石英玻璃更不耐冲击,较K9玻璃更容易被去除。
- 李秀龙万勇建徐清兰张杨罗银川张蓉竹
- 关键词：光学加工磨料水射流
- 一种光学元件表面高频振动共形加工装置和方法
- 本发明是一种光学元件表面高频振动共形加工装置和方法，该方法基于精密气缸、龙门架、高速马达、精密变频器、凸轮、摆臂、磨头和旋转台等部件，实现具有基底层、柔性层和抛光层的抛光磨头以一定压力紧贴工件表面做高频振动抛光。本发明高...
- 施春燕万勇建张亮徐清兰
- 文献传递
- 一种消除轻质反射镜压印效应的抛光装置
- 一种消除轻质反射镜压印效应的抛光装置，适用于大口径、高轻量化、高径厚比反射镜高精度加工的抛光装置，属于光学表面加工领域，它由密封缸、顶盖、支撑座、弧形夹具、弹性密封圈、微型气泵、精密截止阀、精密泄压阀、四通体以及硅胶管组...
- 钟显云范斌徐清兰
- 文献传递
- 数字式小型激光球面干涉仪的研制被引量：1
- 2000年
- 本文讨论数字式小型激光球面干涉仪设计研制目的、意义以及干涉仪的光学系统及仪器结构设计原则和设计精度指标分配。
- 杨力徐清兰伍凡郑耀
- 关键词：数字式相位测量
- 全文增补中
- 单晶硅镜面超光滑表面工艺技术研究被引量：11
- 2003年
- 用古典的沥青盘抛光技术,通过对超光滑抛光时所使用磨料的选取、沥青抛光盘的软硬和 厚度的合理应用、抛光温度的控制等工艺参数的优化,以f220mm内的单晶硅进行了超光滑表面抛光工艺试验。试验结果,单晶硅表面粗糙度RMS值达0.37nm,平面面形误差PV小于l/15,且加工工艺技术稳定可靠。
- 徐清兰伍凡吴时彬王家金雷柏平兰秀清张晶
- 关键词：抛光磨料单晶硅
- 一种多束交替水射流抛光盘及抛光方法
- 本发明是一种多束交替水射流抛光盘，该抛光盘包括：多组喷口和底座，在底座的轴心处设有一喷口，以该一喷口的轴心设置不同半径的第一同心圆和第二同心圆，并在第一同心圆和第二同心圆的圆周上布设通透于底座的多组喷口，每个喷口与底座的...
- 徐清兰万勇建张蓉竹李秀龙施春燕张杨罗银川
- 文献传递
- 用于抑制光学表面中高频误差的离子束牺牲层加工方法
- 本发明用于抑制光学表面中高频误差的离子束牺牲层加工方法，S1检测有中高频误差的光学元件表面初始面形数据；S2根据光学元件面形误差值和误差分布计算所需牺牲层的厚度及胶的浓度；S3对光学元件的表面甩胶、烘干；S4检测含有胶层...
- 施春燕张亮舒良轩徐清兰
- 文献传递
- 消除轻质反射镜“压印效应”的技术研究被引量：2
- 2011年
- 随着航天技术的发展,轻质反射镜的研究正朝着径厚比更大、轻量化更高的趋势发展。然而,当轻质镜面形精度峰谷(PV)值低于0.1λ时,镜面面形会明显产生波浪形的"压印效应"。重力及磨头压力所引入的"压印效应"已成为轻质结构反射镜高精度加工的技术壁垒。通过有限元Ansys软件仿真分析,采取从轻质镜结构内部施加反向压强的方法,消除轻质镜面抛光区域由于磨头压力及重力作用产生的镜面弹性形变,在满足普林斯顿去除函数方程条件下消除轻质镜面的"压印效应"。由仿真结果得到浸入充气式方法不但能消除"压印效应",反射镜抛光面面形精度更优于重力状态。
- 钟显云徐清兰范斌
- 关键词：光学制造有限元仿真浸入式
- 双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究被引量：2
- 2013年
- 为了了解在抛光过程中抛光盘位置对光学元件面形的影响,对一种双轴式平面研磨抛光运动过程进行了分析。从Preston方程出发,推导了去除函数的表达式,研究了抛光盘的摆幅及偏心距离对元件的去除量分布的影响。通过定量计算得知,在加工转速不变的情况下,增大抛光盘的摆幅,元件不同圆周上的去除量也不同。增大偏心距,元件的去除量增大,不论抛光盘相对元件的位置如何改变,回转中心的去除量总是最大。
- 张杨李秀龙徐清兰张蓉竹
- 关键词：平面研磨去除函数偏心距
