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尉伟

作品数:75 被引量:102H指数:6
供职机构:中国科学技术大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国科学院科研装备研制项目中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信核科学技术理学更多>>

文献类型

  • 37篇期刊文章
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  • 7篇会议论文
  • 2篇学位论文

领域

  • 20篇一般工业技术
  • 16篇电子电信
  • 13篇核科学技术
  • 8篇理学
  • 3篇机械工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇冶金工程
  • 1篇电气工程
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇医药卫生

主题

  • 13篇加速器
  • 12篇溅射
  • 10篇刻蚀
  • 8篇磁控
  • 8篇磁控溅射
  • 7篇镀TI
  • 7篇吸气剂
  • 7篇粒子加速器
  • 7篇漏孔
  • 7篇二次电子
  • 7篇标准漏孔
  • 7篇不锈
  • 7篇不锈钢
  • 6篇真空
  • 6篇漏率
  • 6篇TIN膜
  • 5篇真空管道
  • 5篇真空室
  • 5篇直流磁控
  • 5篇直流磁控溅射

机构

  • 58篇中国科学技术...
  • 20篇合肥工业大学
  • 1篇西北核技术研...
  • 1篇新加坡国立大...
  • 1篇中国科学院合...
  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 75篇尉伟
  • 43篇王勇
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  • 18篇王旭迪
  • 16篇洪远志
  • 12篇张波
  • 12篇张耀锋
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  • 7篇邱克强
  • 7篇董栋
  • 7篇朱爱青
  • 6篇张玉方
  • 6篇李为民
  • 6篇郑丁杰
  • 6篇刘祖平
  • 6篇裴元吉
  • 6篇付绍军
  • 6篇赵永恒
  • 5篇杨丹

传媒

  • 12篇真空科学与技...
  • 7篇真空
  • 4篇强激光与粒子...
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  • 2篇真空科学与技...
  • 2篇真空电子技术
  • 2篇Chines...
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  • 1篇华东三省一市...

年份

  • 1篇2024
  • 3篇2022
  • 11篇2021
  • 3篇2020
  • 2篇2019
  • 6篇2018
  • 5篇2017
  • 4篇2016
  • 2篇2015
  • 2篇2014
  • 3篇2013
  • 3篇2012
  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 4篇2008
  • 9篇2007
  • 3篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2003
75 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
TiZrV吸气剂薄膜的性能研究
采用独立设计组装的磁控溅射装置完成了对不锈钢管道的镀TiZrV薄膜处理。对TiZrV薄膜的相关性能包括二次电子产额(SEY)、光致解吸(PSD)产额和吸气性能进行了研究。在200℃下加热2h后TiZrV的SEY有所下降,...
张波王勇尉伟范乐裴香涛洪远志王建平张玉方李为民
关键词:不锈钢管道直流磁控溅射吸气剂性能表征
文献传递
低温二次电子产额测试系统设计与研究被引量:1
2021年
在合肥先进光源(HALF)建设中,由低温超导材料组成的真空部件被大量使用,尤其是超导高频腔。超导腔以高加速梯度、低束流阻抗、高无载品质因数和低运行成本等特点,成为21世纪国际上拟建的大型加速器的首选。而超导腔和低温真空室内表面的二次电子发射可能会引发电子云(EC)现象。超剂量的二次电子倍增功率沉积会引起低温区域热负载增加、超导腔失超等现象,因此降低超导高频腔内二次电子发射成为合肥先进光源设计过程中的巨大挑战。在常温材料二次电子产额(SEY)测试系统的基础上,作者自主研发设计低温样品架结构,使液氦流经样品台并通过热传导冷却样品,计算漏热来反推所需要的制冷量和液氦的消耗速率。在系统集成调试后进行降温性能测试,搭建了低温材料二次电子测试系统。
方键威洪远志王一刚尉伟朱邦乐葛晓琴卞抱元张文丽王勇
关键词:液氦电子云二次电子
用于管道内壁面的溅射镀膜装置
本实用新型涉及真空溅射镀膜技术,具体涉及一种用于管道内壁进行镀膜的装置。它包括现有溅射镀膜中使用的与涡轮分子泵排气机组及反应气体流量控制系统连通的进气辅助真空室、与真空度测量控制系统及膜厚测量控制系统连通的辅助真空室、高...
王勇尉伟张耀锋范乐王建平
文献传递
加速器真空室常用材料二次电子产额的测量被引量:2
2008年
通过电子枪的优化设计、测量电路的设计以及测量方法的选择,成功设计了一种加速器真空室常用材料二次电子产额的测量装置。用此系统测量了原电子能量在0~3 keV时不锈钢、无氧铜、TiN膜等材料的二次电子产额,某些相同材料的测量结果与国内外资料相近似。实验结果可为新一代加速器真空室的设计以参考,对于国内在此领域的深入研究有一定的借鉴意义。
朱存宝张耀峰尉伟王建平范乐张波王勇
关键词:电子枪优化设计
一种漏孔漏率测量装置
本发明一种漏孔漏率测量装置属于泄漏检测技术领域,它涉及对漏孔漏率进行测量的一种测量装置;通过引入一个与测量室体积、材料和处理方式完全一样的参考室,可以降低本底放气以及环境温度变化的对测量精度的影响;该装置为全金属真空系统...
王旭迪魏本猛尉伟邱克强寇钰董栋李鑫孟智鹏
文献传递
TiZrV吸气剂薄膜的性能研究被引量:2
2012年
采用独立设计组装的磁控溅射装置完成了对不锈钢管道的镀TiZrV薄膜处理。对TiZrV薄膜的相关性能包括二次电子产额(SEY)、光致解吸(PSD)产额和吸气性能进行了研究。在200℃下加热2h后TiZrV的SEY有所下降,峰值由2.03降到1.55。不锈钢真空室在镀TiZrV薄膜处理后其PSD效应显著降低,在200℃下加热24h后,各气体的PSD产额与初始值相比可降低两个量级左右。TiZrV薄膜对CO和H2有较好的吸气效果,相同激活条件下对CO的抽速比H2高一个量级,吸气容量则较之低两个量级;另外,随着加热温度的提高和时间的延长,其吸气能力会有所提高。
张波王勇尉伟范乐裴香涛洪远志王建平张玉方李为民
关键词:直流磁控溅射吸气性能
一种基于差压法的吸气剂吸气性能测试集成装置
本发明介绍了一种基于差压法的吸气剂吸气性能测试集成装置,是与玻璃‑硅漏孔相结合的集成动态流导法和静态升压法的测试吸气剂吸气性能的新装置,使吸气剂吸气性能测试具有精确度高、效率高、简便易行的特点。本发明装置包括:真空腔室、...
王旭迪王蓝陵梅正卫常仁超尉伟张殿伟谢晶
文献传递
场致发射微型阴极阵列结构的研究
1999年
通过采用空间电荷影响的空间电场计算程序,对场致发射体进行模拟计算,初步研究了发射体的几何形状尺寸与其发射特性之间的联系。通过对不同几何尺寸发射体的计算结果的分析,认为发射体的尖端曲率半径及栅极的开口直径是影响发射体发射特性的最主要的因素,依据合肥国家同步辐射实验室的LIGA深度光刻技术,给了一可行的几何开头,计算表明对点阵密度为10^7点/cm^2的直径为6mm的硅发射体发射阵列。
尉伟裴元吉
关键词:场致发射
不锈钢材料及TiN镀膜处理后PSD测试实验研究
PSD性能是评价电子储存环真空室材料及材料表面处理优劣的一个重要指标。对一约1.5m长不锈钢管道真空室进行了镀TiN薄膜处理,并在合肥光源机器研究用光束线(MSB)的PSD实验站上对该真空室在镀TiN薄膜处理前后分别进行...
张耀锋王勇尉伟王建平范乐管长应刘祖平
关键词:不锈钢表面处理电子储存环真空室
一种铜铜键合制作通道型标准漏孔的方法
本发明涉及一种铜铜键合制作通道型标准漏孔的方法,包括以下步骤:利用氧等离子体对清洁后的硅片基底进行轰击处理;在硅片基底表面旋涂一层AZ‑5530光刻胶,曝光显影后,在光刻胶表面形成矩形沟槽结构;利用反应离子刻蚀技术实现光...
王旭迪寇钰魏本猛尉伟赵永恒朱爱青
文献传递
共8页<12345678>
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