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卢继奎

作品数:32 被引量:0H指数:0
供职机构:沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:自动化与计算机技术机械工程文化科学更多>>

文献类型

  • 27篇专利
  • 5篇期刊文章

领域

  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇机械工程
  • 1篇文化科学

主题

  • 21篇晶片
  • 15篇半导体
  • 13篇半导体行业
  • 11篇湿法
  • 11篇湿法处理
  • 5篇涂胶
  • 5篇供液
  • 5篇承片台
  • 4篇电机
  • 4篇液膜
  • 4篇喷嘴
  • 4篇主轴
  • 4篇主轴电机
  • 4篇内槽
  • 4篇补液
  • 3篇电路
  • 3篇药液
  • 3篇涂布
  • 3篇清洗液
  • 3篇晶圆

机构

  • 30篇沈阳芯源微电...
  • 2篇沈阳理工大学
  • 1篇沈阳矿山机械...

作者

  • 32篇卢继奎
  • 15篇谷德君
  • 2篇郝永平
  • 2篇王丽鹤
  • 2篇尹宁
  • 1篇王阳
  • 1篇郑春海
  • 1篇魏猛
  • 1篇杨芳
  • 1篇许伟

传媒

  • 3篇机械工程师
  • 1篇探测与控制学...
  • 1篇装备制造技术

年份

  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 5篇2016
  • 10篇2015
  • 8篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
32 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种带清洗部件的液体喷洒装置
本发明涉及晶片涂胶显影工艺中的晶元表面喷洒液体的装置,具体地说是一种带清洗部件的液体喷洒装置。包括喷嘴和清洗部件,其中喷嘴包括喷嘴底件和喷嘴上盖,其中喷嘴底件的上表面上沿长度方向设有液体均布槽,所述喷嘴上盖设置于喷嘴底件...
卢继奎
一种化学液供给装置
本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域,具体地说是一种化学液供给装置,包括供液桶、补液桶、电磁阀、药液阀、溢流阀及液位传感器,其中供液桶与补液桶之间连通的管路上设有药液阀,所述药液阀通过电磁阀与压缩空气源相连;所述供液桶及...
谷德君卢继奎张浩渊
文献传递
一种带有液体去泡功能的供给装置
本发明涉及晶片涂胶显影工艺中的供液装置,具体地说是一种带有液体去泡功能的供给装置。包括供液桶、除气泡桶、补液管、排泡管及液体输出管,其中供液桶的底部和除气泡桶的底部通过补液管连通,所述供液桶和除气泡桶内液体的液面在同一平...
胡延兵卢继奎
文献传递
压电式驱动器参数优化设计
2009年
根据压电效应理论设计出压电式驱动器。驱动器中悬臂梁的宽度、长度以及压电材料与非压电材料的厚度比例对驱动器的输出位移有很大影响。利用MEMS专业有限元分析软件Conventor Ware,对压电式驱动器的各项参数进行分析,并对结构进行优化。
卢继奎郝永平许伟
关键词:压电效应WARE
一种晶片背面清洗装置
本发明涉及半导体行业晶片处理领域,具体地说是一种用于前道半导体工艺的晶片背面清洗装置,包括晶片夹持机构、承片台、清洗腔体和吹干装置,待清洗的晶片放置于承片台上并通过晶片夹持机构夹起升降,清洗腔体在晶片上升停止后水平移动至...
胡延兵卢继奎
文献传递
一种用真空实现不同浓度液体的分离回收装置
本发明涉及晶片显影完显影液排出用的设备,具体地说是一种用真空实现不同浓度液体的分离回收装置。包括气源、通断装置I、真空发生装置、通断装置II、废液盒I、通断装置III及废液盒II,其中真空发生装置的进气口和吸出口通过管路...
王丽鹤卢继奎
文献传递
一种带清洗部件的液体喷洒装置
本发明涉及晶片涂胶显影工艺中的晶元表面喷洒液体的装置,具体地说是一种带清洗部件的液体喷洒装置。包括喷嘴和清洗部件,其中喷嘴包括喷嘴底件和喷嘴上盖,其中喷嘴底件的上表面上沿长度方向设有液体均布槽,所述喷嘴上盖设置于喷嘴底件...
卢继奎
文献传递
一种液体涂敷切边装置
本发明涉及在晶片上形成涂布液膜并去掉部分保护膜的设备,具体地说是一种液体涂敷切边装置,包括底板、处理罩、处理腔、环门、切边喷嘴、承片台、主轴电机及处理杯,其中处理罩安装在底板上,处理罩内设有安装在底板上的主轴电机,主轴电...
卢继奎谷德君
文献传递
一种适用于方形基板的化学液回收装置
本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域,具体地说是一种适用于方形基板的化学液回收装置,包括固定及旋转方形基板的承片台、CUP、接液槽、气缸、电机及台面板,接液槽安装在台面板上,在接液槽内设有由电机驱动的承片台,方形基板位于...
谷德君卢继奎
文献传递
一种液体涂敷装置
本发明涉及在半导体晶片上形成薄膜的装置,具体地说是一种在晶片上形成涂布液膜的液体涂敷装置,包括底板、处理罩、处理腔、第三支架、喷嘴、驱动旋转机构、承片台及旋转电机,处理罩安装在底板上,其侧壁上开有供晶片出入的豁口;处理腔...
卢继奎谷德君
文献传递
共4页<1234>
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