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任伟

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:信息产业部更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文科技成果

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 3篇U
  • 2篇淀积
  • 2篇气相淀积
  • 1篇等离子体
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀机

机构

  • 3篇信息产业部

作者

  • 3篇范迎新
  • 3篇任伟
  • 3篇杨基南
  • 3篇廖佐升
  • 3篇王萍
  • 2篇李学文
  • 1篇陈特超
  • 1篇宋玲
  • 1篇杨琦
  • 1篇肖益波
  • 1篇刘亚红
  • 1篇张军
  • 1篇肖信
  • 1篇彭志坚

年份

  • 3篇2002
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
M42150-1/UM型等离子体刻蚀机
王萍范迎新廖佐升任伟彭志坚杨基南
本产品为M42150-1/UM型等离子体刻蚀机,等离子体刻蚀机是采用高频辉光放电,使反应气体分子激活成活性粒子,如原子、离子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀部位,在那里与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性生成物而被除去。该...
关键词:
关键词:等离子体刻蚀机
M8020-1/UM型液态源化学气相淀积设备
廖佐升范迎新李学文任伟王萍刘亚红肖益波杨琦张军杨基南
本产品为M8020-1/UM型液态源化学气相淀积设备,主要技术原理是液态源经载气鼓泡或恒温蒸发汽化后,经多孔电极形成均匀的喷淋式气流,喷淋到置于下电极上的基片表面。上下电极间的气体在高频电磁场的作用下,激发辉光放电形成低...
关键词:
关键词:气相淀积
M80100-1/UM型低压化学气相淀积设备
李学文宋玲任伟廖佐升范迎新陈特超王萍杨基南肖信
该产品为M80100-1/UM型低压化学气相淀积设备,它使用控温精确的电阻加热炉提供热能,通过真空泵和压力闭环自动控制装置实现反应所需压力,质量流量控制器精确控制工艺气体流量和组分,在一定的温度、气体流量和反应压力条件下...
关键词:
关键词:气相淀积
共1页<1>
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