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韩桂全

作品数：5 被引量：7H指数：1
供职机构：清华大学更多>>
发文基金：中国博士后科学基金创新研究群体科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：机械工程金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程

主题

  • 5篇抛光
  • 5篇抛光垫
  • 3篇化学机械抛光
  • 3篇机械抛光
  • 2篇织布
  • 2篇柔性纤维
  • 2篇抛光表面
  • 2篇抛光液
  • 2篇平坦化
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米纤维
  • 2篇划痕
  • 2篇化学机械平坦...
  • 2篇工艺技术
  • 2篇工作表面
  • 1篇铜互连
  • 1篇晶圆
  • 1篇互连
  • 1篇非均匀
  • 1篇非均匀性

机构

  • 5篇清华大学

作者

  • 5篇路新春
  • 5篇韩桂全
  • 4篇雒建斌
  • 4篇刘宇宏
  • 2篇郭丹
  • 1篇何永勇
  • 1篇赵德文
  • 1篇王同庆

传媒

  • 1篇摩擦学学报（...

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2010
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
一种用于化学机械平坦化的抛光垫及其制造方法
本发明公开了属于化学机械平坦化工艺技术领域中的一种可用于化学机械平坦化的抛光垫及其制造方法。本发明抛光垫包括一基体层，所述基体层上设有一柔性纳米刷层。首先制备模板，再将聚合物溶液涂在基体层上，然后将模板上的纳米结构转移到...
雒建斌韩桂全刘宇宏路新春
化学机械抛光垫及化学机械抛光方法
本发明公开了属于化学机械抛光领域中的一种化学机械抛光垫和化学机械抛光方法。本抛光垫至少包括一个纳米纤维层，纳米纤维层为非织布结构，纤维层厚度为0.1μm-3cm，纳米纤维平均直径为1nm-1μm，长度＞1cm，纳米纤维轴...
刘宇宏韩桂全雒建斌郭丹路新春
文献传递
一种用于化学机械平坦化的抛光垫及其制造方法
本发明公开了属于化学机械平坦化工艺技术领域中的一种可用于化学机械平坦化的抛光垫及其制造方法。本发明抛光垫包括一基体层，所述基体层上设有一柔性纳米刷层。首先制备模板，再将聚合物溶液涂在基体层上，然后将模板上的纳米结构转移到...
雒建斌韩桂全刘宇宏路新春
文献传递
化学机械抛光垫及化学机械抛光方法
本发明公开了属于化学机械抛光领域中的一种化学机械抛光垫和化学机械抛光方法。本抛光垫至少包括一个纳米纤维层，纳米纤维层为非织布结构，纤维层厚度为0.1μm-3cm，纳米纤维平均直径为1nm-1μm，长度＞1cm，纳米纤维轴...
刘宇宏韩桂全雒建斌郭丹路新春
文献传递
抛光垫特性及其对300mm晶圆铜化学机械抛光效果的影响研究被引量：7
2013年
利用扫描电子显微镜和接触式表面形貌仪分析了IC1000/Suba-IV和IC1010两种商用抛光垫的主要特性,并通过自行研制的超低压力化学机械抛光(CMP)试验机、四探针测试仪和三维白光干涉仪等研究了这两种抛光垫对300 mm晶圆铜互连的CMP材料去除率、片内非均匀性、碟形凹陷和腐蚀的影响规律.结果表明:IC1010比IC1000的硬度低、压缩率高、粗糙度大,IC1000为网格状沟槽、沟槽较宽、分布较稀,IC1010为同心圆沟槽、沟槽较细、分布较密;相同条件下IC1010比IC1000的材料去除率大、片内非均匀性好;在相同线宽下IC1000与IC1010的腐蚀几乎一致,IC1010的碟形凹陷比IC1000的略大.
王同庆韩桂全赵德文何永勇路新春
关键词：化学机械抛光抛光垫300MM晶圆铜互连材料去除率非均匀性
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