赵慨
- 作品数：24 被引量：24H指数：3
- 供职机构：兰州空间技术物理研究所更多>>
- 发文基金：表面工程技术国家级重点实验室基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学航空宇航科学技术天文地球更多>>
- Al_2O_3薄膜的性能、制备与应用被引量：3
- 2016年
- 概述了Al_2O_3薄膜的组织结构和性能特性;系统叙述了Al_2O_3薄膜的多种制备方法,包括真空蒸发法、直流反应磁控溅射法、射频磁控溅射法、射频反应磁控溅射法、中频反应磁控溅射法、脉冲反应磁控溅射法、离子束辅助沉积法、脉冲激光沉积法、化学气相沉积法和溶胶-凝胶法,并综合比较了各种制备工艺的优缺点;最后阐述了Al_2O_3薄膜在机械涂层、光学领域、微电子领域的应用。
- 李学磊冯煜东王志民王艺赵慨王虎杨淼
- 一种CIGS太阳电池吸收层制备方法
- 本发明公开了一种CIGS太阳电池吸收层制备方法。使用本发明能够在较低温度下一步生成平整、致密、均匀、光电性能良好的CIGS太阳电池光吸收层薄膜，能显著降低CIGS太阳电池光吸收层薄膜的制备温度，简化工艺。本发明利用Se离...
- 王金晓冯煜东王艺王志民赵慨速小梅王虎杨淼
- 文献传递
- 柔性基底室温沉积多层光学膜技术
- 大面积柔性基底上连续卷绕镀金属膜工艺已经有多年的历史,而且技术已经非常成熟。但随着信息技术时代的到来,大面积柔性基底上连续卷绕制备各种信息薄膜的需求越来越强,主要包括透明导电类多层薄膜和柔性基底多层光学膜,多用于显示屏、...
- 冯煜东王艺王志民速小梅赵慨
- 文献传递
- 空间柔性阵列天线薄膜阵面制造技术研究
- 2024年
- 简要阐述了空间柔性天线的进展,分析了空间柔性天线薄膜阵面制造关键技术。研究了薄膜阵面电磁波传输金属薄膜制备技术、薄膜阵面图形化制造技术、薄膜阵面拼接用材料评价、薄膜阵面的裁切技术等。采用磁控溅射技术,通过溅射功率、走带张力、走带速度的调节,在有机柔性薄膜基材上镀制了不同厚度的金属铜膜,实现了有机柔性薄膜基材的表面金属化;利用飞秒激光刻蚀精度高,不损伤柔性薄膜基材的特点,获得了图形化的金属薄膜阵面单元;对3M92号胶带与改性聚酰亚胺胶接材料的拼接强度与耐高低温性能进行了试验对比,发现改性聚酰亚胺胶接材料的强度与耐高低温性能更好,更适合薄膜阵面的拼接;对比了用纳秒激光和飞秒激光裁切的薄膜微观形貌,结果表明,用飞秒激光裁切的切面光滑,无烧蚀与毛刺,适合于高精度薄膜阵面的制造。研究为空间柔性阵列薄膜天线的制造提供了大量的基础数据。
- 王虎王艺格桑顿珠赵慨吴伟邱慧李学磊林秋红丁磊何延春
- 关键词：激光刻蚀
- 一种降低铝合金片材太阳光谱吸收率的方法
- 本发明公开了一种降低铝合金片材太阳光谱吸收率的方法，首先通过抛光工艺降低铝合金基底表面粗糙度；然后依次用洗涤剂和无水乙醇对铝合金基底进行清洗，再采用超声清洗工艺对铝合金基底进行深度清洗；接着，在铝合金基底上镀制铬过渡膜，...
- 王虎王志民冯煜东王艺赵慨速小梅王金晓杨淼
- 文献传递
- 一种真空磁控溅射卷绕镀制低残余应力厚铜膜的方法
- 本发明涉及一种真空磁控溅射卷绕镀制低残余应力厚铜膜的方法，属于铜膜制备技术领域。本发明所述方法一方面通过优化溅射气压，使铜膜中的压应力和张应力接近并相互抵消；另一方面在镀膜辊轴中通入冷却液使柔性基底温度在溅射过程中保持在...
- 王兰喜王艺周晖张凯锋王虎赵慨李学磊左华平
- 一种低吸收率氧化硅薄膜的制备方法
- 本发明公开了一种低吸收率氧化硅薄膜的制备方法，该方法的具体步骤为：步骤一、在真空腔内设置硅靶和离子源，将基底放在真空腔内，打开真空泵组，使真空腔本底真空度高于2.0×10<Sup>-3</Sup>Pa；步骤二、用氩离子束...
- 王虎王志民冯煜东王艺赵慨速小梅王金晓杨淼
- 文献传递
- Se离子束辅助沉积CIS过程的数值分析
- 2014年
- 通过研究连续Se离子束辅助磁控溅射技术,在柔性聚酰亚胺基底上沉积形成CIS薄膜的过程,建立了相应的薄膜沉积模型。在此基础上,以离子注入深度效应作为研究对象,从扩散均匀性角度进行模拟计算,并与传统气相原子沉积方法进行比较。通过比较分析,计算出Se扩散均匀性为90%时,采用离子束辅助沉积所需的衬底温度明显低于气相原子沉积所需的衬底温度。
- 李学磊冯煜东王志民王艺赵慨速小梅
- 关键词：离子束辅助沉积CIS
- 一种聚酰亚胺薄膜高强度拼接方法
- 本发明公开了一种聚酰亚胺薄膜高强度拼接方法，步骤一、将聚酰亚胺薄膜a的待拼接部位固定在薄膜拼接装置的铝合金底座上；步骤二、将聚氨酯热熔胶粉末均匀涂覆于聚酰亚胺薄膜a的待拼接部位表面；步骤三、将聚酰亚胺薄膜b的待拼接部位覆...
- 王虎王志民冯煜东左华平王艺赵慨王金晓杨淼
- 文献传递
- 一种真空磁控溅射卷绕镀制低残余应力厚铜膜的方法
- 本发明涉及一种真空磁控溅射卷绕镀制低残余应力厚铜膜的方法，属于铜膜制备技术领域。本发明所述方法一方面通过优化溅射气压，使铜膜中的压应力和张应力接近并相互抵消；另一方面在镀膜辊轴中通入冷却液使柔性基底温度在溅射过程中保持在...
- 王兰喜王艺周晖张凯锋王虎赵慨李学磊左华平
