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王西宁: 作品数：19 被引量：31H指数：4; 供职机构：上海交通大学更多>>; 发文基金：“上海－应用材料研究与发展”基金教育部科学技术研究重大项目国防科技技术预先研究基金更多>>; 相关领域：电气工程自动化与计算机技术更多>>

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空芯结构射频螺线管微电感的制作方法: 一种微电子技术领域的空芯结构射频螺线管微电感的制作方法，采用微机电系统技术，对双面氧化的硅片进行处理，得到双面套刻对准符号，以便曝光时提高对准精度；采用准－LIGA技术和厚光刻胶工艺制备线圈和连接导体的光刻胶模具；采用电...; 周勇王西宁赵小林曹莹高孝裕; 文献传递

空芯结构射频螺线管微电感的制作方法: 一种微电子技术领域的空芯结构射频螺线管微电感的制作方法，采用微机电系统技术，对双面氧化的硅片进行处理，得到双面套刻对准符号，以便曝光时提高对准精度；采用准-LIGA技术和厚光刻胶工艺制备线圈和连接导体的光刻胶模具；采用电...; 周勇王西宁赵小林曹莹高孝裕; 文献传递

悬空结构射频微电感及其制作工艺: 一种悬空结构射频微电感及其制作工艺。属于微电子技术领域。包括：衬底、金属铜螺旋线圈、引线、支撑体、连接体、平面波导线，金属铜螺旋线圈与衬底之间设置有支撑体，支撑体一端与所述的金属铜螺旋线圈连接，支撑体的另一端与衬底连接，...; 赵小林周勇王西宁戴旭涵蔡炳初; 文献传递

悬空结构射频微电感的制作研究被引量：3: 2003年; 利用MEMS工艺中的牺牲层技术制作了一种新型悬空结构微电感,在此悬空结构中,微电感的线圈制作在与衬底平行的平面上,线圈与衬底之间有立柱支撑;此新型微电感的高频性能较好,且其制作工艺流程简单,与集成电路工艺相兼容。测量结果表明:当工作频率在2GHz～3GHz范围内时,此悬空结构微电感电感量达到4.2nH,Q值最大可达到37。; 王西宁赵小林周勇蔡炳初; 关键词：牺牲层微电感射频 MEMS

双层悬空结构片状微电感研究: 2004年; 利用MEMS工艺制作了一种双层悬空结构的圆形片状微电感,并研究了其在S波段的性能。双层微电感的底层线圈制作在玻璃衬底平面上,外径为500μm,匝数为2,导线宽度70μm,导线间距15μm,顶层线圈的悬空高度为20μm,顶层线圈的匝数为1 5,其它结构参数与底层线圈相同。研究表明,所制作的双层结构微电感在2GHz～4GHz时其电感量达到2 2nH,其品质因数达到22。在制作过程中首次引入的光刻胶抛光工艺大大简化了微电感的制作过程。; 王西宁赵小林周勇蔡炳初; 关键词：微电感 S波段

双层悬空结构射频微电感制作研究被引量：4: 2005年; 利用MEMS工艺制作了一种双层悬空结构的圆形射频微电感,研究了双层结构微电感中微带线宽度对其性能的影响。研究表明,双层悬空结构的圆形射频微电感不仅具有较大的电感量,而且其Q值也较高;双层微电感的Q值随微带线宽度的增大而升高,而电感量则随微带线宽度的增大而降低。对于微带线宽度为60μm的双层微电感,在频率2～4GHz时,其电感量可达到5nH左右,Q值达到20。; 赵小林王西宁周勇蔡炳初; 关键词：微电感射频

基于微机电系统的射频螺线管微电感的制作方法: 一种微电子技术领域的基于微机电系统的射频螺线管微电感的制作方法，采用微机电系统技术，对清洗干净的玻璃衬底进行处理，得到双面套刻对准符号，以便曝光时提高对准精度；采用准－LIGA技术和厚光刻胶工艺制备线圈和连接导体的光刻胶...; 周勇王西宁赵小林曹莹高孝裕; 文献传递

新型悬空结构射频微电感的制作与测试被引量：5: 2004年; 利用MEMS(Micro Electro-Mechanical System:微机电系统)工艺中的牺牲层技术制作了一种新型悬空结构微电感,在此悬空结构中,微电感的线圈制作在与衬底平行的平面上,线圈与衬底之间有立柱支撑;此新型微电感的制作工艺流程简单,与集成电路工艺相兼容,且其高频性能较好.并对此结构微电感的性能进行了测试,测试频率范围在0.05～10 GHz之间,结果表明:当悬空结构微电感的悬空高度为20 μm,工作频率在3～5 GHz范围内时,其电感量达到4 nH,其Q值最大可达到22.; 王西宁赵小林周勇蔡炳初; 关键词：微电感射频

A Solenoid-Type Inductor Fabricated by MEMS Technique被引量：1: 2005年; A solenoid-type inductor for high frequency application is realized using a micro-electro-mechanical systems (MEMS) technique.In order to achieve a high inductance value and Q-factor,UV-LIGA,dry etching technique,fine polishing and electroplating technique are adopted.The dimensions of the inductor are 1500μm×900μm×70μm,having 41 turns with a coil width of 20μm separated by 20μm spaces and a high aspect ratio of 3.5∶1.The maximum measured inductance of the inductor is 6.17nH with a Q-factor of about 6.; 高孝裕周勇王西宁雷冲陈吉安赵小林

悬空结构射频微电感及其制作工艺: 一种悬空结构射频微电感及其制作工艺。属于微电子技术领域。包括：衬底、金属螺旋线圈、引线、支撑体、连接体、平面波导线，金属螺旋线圈与衬底之间设置有支撑体，支撑体一端与所述的金属螺旋线圈连接，支撑体的另一端与衬底连接，在金属...; 赵小林周勇王西宁戴旭涵蔡炳初; 文献传递