您的位置： 专家智库 > >

王均震

作品数：5 被引量：47H指数：2
供职机构：华中理工大学物理系更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 2篇期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 3篇等离子体
  • 3篇磁镜
  • 3篇磁镜场
  • 2篇射频等离子体
  • 1篇电场
  • 1篇电子输运
  • 1篇电子输运特性
  • 1篇输运
  • 1篇输运特性
  • 1篇均匀电场
  • 1篇辉光
  • 1篇辉光放电
  • 1篇薄膜生长

机构

  • 5篇华中理工大学

作者

  • 5篇王均震
  • 5篇刘祖黎
  • 4篇刘洪祥
  • 4篇刘艳红
  • 3篇魏合林
  • 1篇姚凯伦
  • 1篇韩思恩

传媒

  • 3篇第九届全国等...
  • 2篇物理学报

年份

  • 1篇2000
  • 4篇1999
共 5 条 记 录，以下是 1-5
全选 清除 导出
排序方式：
薄膜生长的随机模型被引量：44
1999年
利用ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ模型研究了薄膜生长初始阶段岛的形貌与基底温度之间的关系，同时还研究了它们与汽相粒子入射剩余能量之间的关系．模型中考虑了三种动力学过程：粒子入射、吸附粒子扩散和粒子脱附，与以前薄膜生长模型的不同之一在于把入射过程看作独立于其他过程，而扩散和脱附过程是相互关联的．结果表明随基底温度的升高，岛的形貌经历了一个从分散生长、分形生长到凝聚生长的变化过程．低温下随汽相粒子入射和剩余能量增加。
刘祖黎魏合林王汉文王均震
关键词：薄膜生长
等离子体薄膜沉积中荷能量粒子的作用
利用蒙特卡罗方法初步研究了低能量粒子（＜100eV）对原子沉积薄层的影响。此作用我们简化为两部分：瞬时的局域溅射效应；持续宏观加温作用。
王均震刘祖黎刘洪祥刘艳红韩思恩
磁镜场对射频等离子体中离子能量分布的影响
等离子增强化学气相沉积是制备优质薄膜的一种非常重要的方法，等离子体中输运参数与薄膜生长及其特性关系密切。我们综合利用自行设计和研制的管式射频等离子体诊断设备对等离子体中离子能量分布进行了成功的测量。
刘洪祥刘艳红王均震刘祖黎魏合林
关键词：磁镜场射频等离子体
磁镜场对均匀电场中电子输运特性的影响
Monte Carlo方法研究了磁镜场对均匀电场中电子输运特性的影响。模型中，电子与中性粒子的碰撞过程有四种（弹性碰撞、激发碰撞、亚稳态碰撞和电离碰撞）。电子的自由飞行步长由电子与中性粒子的碰撞频率决定。计算了汪同磁镜场...
刘艳红刘祖黎刘洪祥王均震姚凯伦
关键词：磁镜场电场电子输运
磁镜场对射频等离子体中离子能量分布的影响被引量：3
2000年
运用阻碍栅极型能量分析器 ,在不同磁镜场参数下测量了低温等离子体中离子的能量分布 .结果表明 ,在放电管中心处离子能量分布 ,随磁镜场强度的增加而向低能方向偏移 ,但离子能量分布宽度却没有明显的变化 ;而随着磁镜比的增加离子能量分布却向高能方向偏移 ,并且离子能量分布宽度也将变宽 .由此可见 ,磁镜场参数对离子能量分布有很大影响 .
刘洪祥魏合林刘祖黎刘艳红王均震
关键词：磁镜场辉光放电射频等离子体
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0