汪保卫
- 作品数：15 被引量：67H指数：6
- 供职机构：中山大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金广东省教育部产学研结合项目广东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学生物学动力工程及工程热物理更多>>
- 细菌抗氧化系统-oxyR调节子研究进展被引量：10
- 2008年
- 细菌抗氧化系统是细菌抵抗呼吸作用及环境因素导致的氧化损伤的一套防卫系统。oxyR调节子是最早发现的具有抗氧化作用的系统之一,由OxyR调节蛋白的编码基因oxyR及其调控的基因和操纵子所构成。oxyR调节子参与了细菌的抗氧化作用、抑制自发突变、致病性、铁代谢及外膜蛋白相变等多种生理代谢作用,这些发现促进了该调节子在细菌耐药性以及致突变物质筛查等方面的研究应用。作者主要从细菌oxyR调节子的结构组成、参与的生理代谢作用、OxyR调控转录的分子机制及影响因素等方面结合最新研究成果展开了介绍,以期对开展细菌抗药性研究及致突变物质的筛查等提供参考。
- 汪保卫施庆珊欧阳友生陈仪本
- 关键词：细菌
- 平板型太阳热水器板芯高温耐久性实验方法研究
- 2005年
- 为了研究平板型太阳热水器板芯表面的高温耐久性,结合国外的实验方法及国内的应用特点设计了本实验方法.该方法以板芯表面光学性能的衰减来推断系统的寿命,即在一定的高温实验条件下模拟加速衰减过程,以板芯表面光学性能衰减小于5%作为判断板芯合格标准.
- 王巧沈辉舒杰汪保卫
- 关键词：耐久性高温光学性能
- 一种低成本n型双面太阳电池及其制备方法
- 本发明公开了一种低成本n型双面太阳电池，所述太阳电池前表面为硼扩散形成的硼发射极，硼发射极上面沉积有钝化层和减反射层，太阳电池背表面的背电极接触位置为局部磷背场，其余为非掺杂区域，非掺杂区域上面沉积有钝化层，前表面制备有...
- 汪保卫沈辉
- 文献传递
- 一种低成本n型双面太阳电池及其制备方法
- 本发明公开了一种低成本n型双面太阳电池，所述太阳电池前表面为硼扩散形成的硼发射极，硼发射极上面沉积有钝化层和减反射层，太阳电池背表面的背电极接触位置为局部磷背场，其余为非掺杂区域，非掺杂区域上面沉积有钝化层，前表面制备有...
- 汪保卫沈辉
- 文献传递
- N2、O2对磁控溅射TiOyNx选择性吸收薄膜光学性质的影响
- 光谱选择性吸收薄膜的制备是太阳能集热器高效吸收太阳能的关键技术。本文就磁控溅射制备氮化钛膜中N、O流量变化对溅射过程及膜的性能的影响进行了讨论。
- 陈达汪保卫沈辉
- 关键词：吸收率发射率
- 文献传递
- 靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响被引量：13
- 2005年
- 应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为42.6sccm,氧流量为15sccm,溅射时间为30min的条件下,通过控制靶基距改变TiO2薄膜的光学性质。应用n&kAnalyzer1200测量,当靶基距增加时薄膜的平均反射率降低,同时反射低谷先短波后长波之后再短波;靶基距对消光系数k影响较大;随着靶基距的增加薄膜的折射率出现了下降的趋势,但当靶基距达到一定的量值时折射率的变化趋于稳定。通过XRD和SEM表征发现,随着靶基距的增加TiO2的晶体结构由金红石相向锐钛矿相转变,薄膜表面的颗粒度大小由粗大变得微小细密。
- 王贺权沈辉巴德纯汪保卫闻立时
- 关键词：二氧化钛薄膜直流反应磁控溅射反射率
- 铜绿假单胞菌对异噻唑啉酮类杀菌剂抗药性机制的初步研究
- 细菌对抗菌物质的抗药性是抗菌物质的应用与开发过程中一个不可忽视的问题。随着工业杀菌剂的广泛应用，细菌对工业杀菌剂的抗药性问题日益成为业内关注的焦点。本研究选取了常见的条件致病菌铜绿假单胞菌(Pseudomonasaeru...
- 汪保卫
- 关键词：铜绿假单胞菌抗药性机制温度效应抑菌浓度
- 温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响被引量：5
- 2005年
- 应用DC(直流 )反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2 薄膜 ,在固定的电源功率下 ,氩气流量为 4 2 .6sccm ,氧流量为 15sccm ,溅射时间为 30分钟的条件下 ,通过控制温度改变TiO2 薄膜的光学性质。应用n&kAnalyzer 12 0 0测量 ,当温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动 ;温度对消光系数k影响不大 ;当温度低于180℃薄膜的折射率变化不大 ,当温度达到 2 4 0℃左右时薄膜的折射率明显降低。通过XRD和SEM表征发现 ,随着温度的增加TiO2 的晶体结构由混晶变为单一的锐钛矿相 ,薄膜表面的颗粒由多变少 ,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。
- 王贺权沈辉巴德纯汪保卫闻立时
- 关键词：二氧化钛薄膜直流反应磁控溅射温度
- O／N比率对磁控溅射制备TiNxOy薄膜光学性质的影响
- 用直流反应磁控溅射设备,在不同O／N比率条件下,在铜片和载玻片上制备了TiNxOy薄膜。用分光光度计、n＆k薄膜光学分析仪和台阶仪测试了样品的反射率、光学常数（n＆k）及膜厚。结果发现随O／N比率提高,薄膜的吸收率、 1...
- 王建强沈辉汪保卫
- 关键词：反应磁控溅射吸收率沉积速率
- 文献传递
- 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响被引量：8
- 2005年
- 用DC(直流 )反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2 薄膜 ,在固定电源功率、氩气流量 4 2 .6sccm、氧流量 15sccm、溅射时间 30min的条件下 ,通过控制总气压改变TiO2 薄膜的光学性质。应用n&kAnalyzer12 0 0测量 ,当总气压增加时薄膜的平均反射率降低 ,同时反射低谷向短波方向移动 ,总气压对消光系数k影响不大 ;随着总气压的增加薄膜的折射率出现了下降的趋势 ,但当总气压达到一定量值时折射率的变化趋于稳定。通过XRD和SEM表征发现 ,随着总气压的增加TiO2 的晶体结构由金红石相向锐钛矿相转变 ,薄膜表面的颗粒度大小由粗大变得微小细密。
- 王贺权巴德纯沈辉汪保卫闻立时
- 关键词：光学性质直流反应磁控溅射气压硅基底
