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崔恒冠

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文基金:中国博士后科学基金国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇热电材料
  • 2篇厚膜
  • 2篇BI2TE3
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体结构
  • 1篇非晶
  • 1篇感应熔炼
  • 1篇高锰
  • 1篇

机构

  • 3篇电子科技大学
  • 1篇浙江大学

作者

  • 3篇周爱军
  • 3篇崔恒冠
  • 3篇李晶泽
  • 2篇戴新义
  • 1篇赵新兵

传媒

  • 1篇物理化学学报
  • 1篇第16届全国...

年份

  • 2篇2012
  • 1篇2011
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
Bi2Te3厚膜热电材料的丝网印刷法制备及其电学输运性能
本文通过高能球磨制备了BiTe和BiTe、Te纳米粉末,以球磨后的粉末作为前驱物,采用丝网印刷法制备了n型BiTe厚膜材料,并研究了前驱体粉末的组成、颗粒尺寸、浆料配置和烧结工艺对厚膜热电材料的结构、形貌和电学输运性能的...
刘尉冯利东周爱军徐晓晖戴新义崔恒冠李晶泽
Bi2Te3厚膜热电材料的丝网印刷法制备及其电学输运性能
本文通过高能球磨制备了Bi2Te3和BiTe、Te纳米粉末,以球磨后的粉末作为前驱物,采用丝网印刷法制备了n型Bi2Te3厚膜材料,并研究了前驱体粉末的组成、颗粒尺寸、浆料配置和烧结工艺对厚膜热电材料的结构、形貌和电学输...
刘尉冯利东周爱军徐晓晖戴新义崔恒冠李晶泽
感应熔炼高锰硅的结构和形貌特性
2011年
采用场发射扫描电镜(FESEM)和X射线能谱仪(EDXS)对感应熔炼高锰硅(HMS)中的第二相条纹的形貌和成份进行了研究,发现第二相条纹平行贯穿整个高锰硅晶粒,其条纹宽度约30nm,间距在5-30μm内,成份为MnSi.通过高分辨透射电镜(HRTEM)观察到MnSi条纹为短程有序而长程无序的非晶形态.采用选区电子衍射(SAED)确定了高锰硅的晶体结构,结果表明所获得的高锰硅为单一的Mn4Si7相,未观察到高锰硅其它的非公度结构.透射电镜(TEM)结果表明,熔炼的高锰硅经过球磨和热压后产生了大量缺陷和应力畴,与热压之前的熔锭材料相比有明显差异.
周爱军崔恒冠李晶泽赵新兵
关键词:非晶晶体结构
共1页<1>
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