尹欣
- 作品数：7 被引量：9H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海技术物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信更多>>
- 810/850nm分色片的消偏振设计与制作
- 在量子通信的密钥分发过程中,需要对两个波长(810和850nm)的线偏光束进行光路分离,同时要保持分离后线偏光的偏振方向和消光比。为此设计了810nm透射-850 nm反射、入射角为45度的分色片,在倾斜入射条件下,为了...
- 尹欣刘定权段微波李大琪陈刚
- 关键词：光学薄膜分色片量子密钥分发
- 文献传递
- 近红外波段偏振编码用分色片的设计与制作被引量：5
- 2012年
- 在基于偏振编码的光通信试验中,需要对不同波长的线偏光进行光路分离,同时要保持分离后线偏光的偏振方向和消光比,为此设计和制备了入射角为45°的810 nm波长透射/850 nm波长反射的近红外分色片.为了抑制斜入射条件下工作波长附近s、p偏振分量的能量、相位分离,选择了合适的基础膜系,利用旁反射带边缘透、反射带光谱过渡迅速的特性,实现了临近波长的光路分离,也减小了偏振分离;通过非规整膜层的相位补偿和软件自动优化,实现了设计目标.分别选用TiO2和SiO2为高低折射率膜层材料,以离子束辅助沉积技术镀制薄膜,采用光学极值法和晶体振荡法结合的方式控制膜层厚度.制备样品的消光比在波长810 nm处达到7000∶1以上,在850 nm处达到20000∶1,实现了分色片对相位的控制,满足了偏振编码光通信试验的需求.
- 尹欣刘定权段微波李大琪陈刚
- 关键词：光学薄膜分色片相位控制
- 810/850nm分色片的消偏振设计与制作
- 在量子通信的密钥分发过程中，需要对两个波长(810和850nm)的线偏光束进行光路分离，同时要保持分离后线偏光的偏振方向和消光比。为此设计了810nm透射-850nm反射、入射角为45度的分色片，在倾斜入射条件下，为了抑...
- 尹欣刘定权段微波李大琪陈刚
- 关键词：光学薄膜分色片量子密钥分发
- 锗(Ge)光学薄膜在不同沉积温度下的聚集密度研究被引量：4
- 2011年
- 锗（Ge）薄膜是中长波红外区最常用的光学薄膜之一,高的聚集密度对于提升光谱稳定性和光学薄膜元件的品质非常重要。选用纯度为99.99%的Ge材料,在5×10-4Pa左右的真空压力下用电子束蒸发沉积,石英晶振仪将沉积速率控制在0.8~1.0nm/s范围,宝石片基片上的膜层厚度约为0.8~1.0μm,在不同沉积温度下制备样品。用傅里叶红外光谱仪测量吸潮前后薄膜的光谱曲线,根据波长漂移理论,计算出薄膜的聚集密度。结果表明：聚集密度随沉积温度的升高而增加,从常温沉积的约0.74上升到250℃沉积的0.99以上。
- 罗海瀚刘定权尹欣张莉
- 关键词：光学薄膜锗沉积温度
- 810/850nm分色片的消偏振设计与制作
- 在量子通信的密钥分发过程中,需要对两个波长（810和850nm）的线偏光束进行光路分离,同时要保持分离后线偏光的偏振方向和消光比。为此设1计了810 nm透射-850 nm反射、入射角为45度的分色片,在倾斜入射条件下,...
- 尹欣刘定权段微波李大琪陈刚
- 关键词：光学薄膜分色片量子密钥分发
- 文献传递
- 沉积温度对一氧化硅薄膜聚集密度的影响被引量：1
- 2012年
- 一氧化硅(SiO)薄膜是中短波红外区最常用的光学薄膜之一,高的聚集密度对于提升光谱稳定性和光学薄膜元件的品质非常重要.选用纯度为99.99%的SiO块状材料,在5×10-4 Pa背景真空中用钼舟蒸发沉积,石英晶振仪将沉积速率控制在1.2～1.5nm/s范围,硅基片上的膜层厚度约为2.2～2.4μm,在不同沉积温度下制备样品.用傅里叶红外光谱仪分别测试新鲜薄膜和充分浸湿薄膜的光谱曲线,根据波长漂移理论,计算出薄膜的聚集密度.结果表明:聚集密度随沉积温度的升高而增加,从常温沉积的约0.91上升到250℃沉积的0.99以上.
- 罗海瀚刘定权尹欣蔡渊张莉
- 关键词：光学薄膜沉积温度
- 近红外消偏振反射镜的设计与制备(英文)
- 2012年
- 设计并制备了一种在45°斜入射条件下使用的金属Ag消偏振反射镜,这种反射镜可以实现对目标波长810nm和850nm光线的反射,并保持线偏光的偏振方向和偏振消光比。为了消除s和p两偏振分量的分离,在金属Ag膜层上方添加了介质多层膜结构,并利用软件对膜系的结构进行了优化,设计结果的能量和相位特性满足目标需求。介质多层膜选用TiO2和SiO2分别作为高、低折射率材料,薄膜的制备采用了离子束辅助沉积工艺,并利用石英晶体振荡监控膜层厚度。得到了消光比达到10000∶1以上的样品,实现了光学薄膜器件对能量和相位的控制,满足了偏振编码空间光通信试验的需求。
- 尹欣刘定权罗海瀚段微波李大琪
- 关键词：光学薄膜相位控制
