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文献类型

  • 1篇中文专利

主题

  • 1篇修整
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光垫
  • 1篇抛光晶片
  • 1篇平整度
  • 1篇气囊
  • 1篇气囊充气
  • 1篇晶片
  • 1篇充气

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇赵冀
  • 1篇卜俊峰
  • 1篇惠峰
  • 1篇朱蓉辉
  • 1篇郑红军

年份

  • 1篇2007
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
可以修整抛光晶片平整度的抛光头
一种可以修整抛光晶片平整度的抛光头,其特征在于,包括:一晶片固定盘;一上抛光盘,该上抛光盘的断面为倒T形;一气囊,该气囊固定在上抛光盘的底面,该气囊可以充气;一抛光垫,该抛光垫固定在气囊的底面;欲将晶片抛光时,将气囊充气...
朱蓉辉惠峰卜俊峰郑红军赵冀
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共1页<1>
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