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俞文清

作品数：1 被引量：16H指数：1
供职机构：上海大学理学院化学工程与工艺系更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇电沉积
  • 1篇射线衍射
  • 1篇巨磁阻
  • 1篇巨磁阻效应
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇磁阻
  • 1篇磁阻效应

机构

  • 1篇上海大学

作者

  • 1篇王慧娟
  • 1篇曹为民
  • 1篇胡滢
  • 1篇曾绍海
  • 1篇俞文清
  • 1篇印仁和

传媒

  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
Co/Cu纳米多层膜的制备及巨磁阻性能的研究被引量：16
2005年
采用恒电位双电解槽法在硼酸镀液体系中,以单晶 Si(111)为基底电沉积制备 Co/Cu多层膜,确定了双槽法制备多层膜的工艺条件,为得到优良的多层膜巨磁阻材料,镀液体系中加入了自制的添加剂。并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,小角度X射线衍射(LXRD)谱图中出现了 2 个衍射峰,大角度X射线衍射(MXRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,表明多层膜具有超晶格结构。用物性测量系统( PPMS )测试了 Co/Cu 多层膜的巨磁阻(GMR)性能,GMR值达到52.52%。
胡滢曹为民印仁和俞文清曾绍海王慧娟
关键词：电沉积X射线衍射巨磁阻效应
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