何小平
- 作品数：3 被引量：3H指数：1
- 供职机构：武汉大学化学与分子科学学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 新型噻吩基取代卟啉的合成及其荧光光谱研究
- 2004年
- 卟啉由于其独特的光电性质以及在分子导线[1]、信息存储[2]、非线性光学材料[3,4]等方面的应用而受到关注.聚噻吩及其衍生物同样由于可作为电极材料和光学材料而被广泛研究[5].近几年来,人们广泛关注将卟啉和噻吩结合起来,并通过噻吩之间的偶连做成D-A-D型高分子,以便发现更独特的光学和电学性质[6,7].在本文中,我们报道了两种新型的中位噻吩基取代卟啉5,15-二(2-噻吩基)-2,8,12,18-四乙基-3,7,13,17-四甲基卟啉(7a)和5,15-二(2-联噻吩基)-2,8,12,18-四乙基-3,7,13,17-四甲基卟啉(7b)(61.2%)的合成(图1)及其光谱性质,其中荧光光谱的最大发射峰在631 am处,量子产率分别为4.1%(7a)和1.4%(7b).其聚合物的合成和性质见后文.……
- 陈彰评端木传嵩何小平戴明杨荣杨荣
- 新型噻吩基取代卟啉的合成及其荧光光谱研究被引量：3
- 2002年
- 合成了两种新型噻吩基卟啉 5 ,15 二 (2 噻吩基 ) 2 ,8,12 ,18 四乙基 3,7,13,17 四甲基卟啉 7a(45 .1% )和 5 ,15 二 (2 联噻吩基 ) 2 ,8,12 ,18 四乙基 3,7,13,17 四甲基卟啉 7b (6 1.2 % ) ,并研究了它们的光谱性质 其中荧光光谱的最大发射峰都在 6 31nm处 ,量子产率分别为 4 .1% (7a)和 1.4 % (7b)
- 陈彰评端木传嵩何小平戴明杨荣
- 关键词：荧光光谱量子产率
- 聚邻巯基苯胺的合成及性质研究
- 2002年
- 以 (NH4) 2 S2 O8的 1mol·L-1HCl溶液氧化聚合邻巯基苯胺 ,得到平均分子量为 3.1× 10 5g/mol的聚邻巯基苯胺 ,CV图表明它有良好的电化学氧化还原可逆性 同时发现它的溶解性能良好 ,能溶解于多种有机溶剂 ,即使掺杂态也能溶解在DMF。
- 何小平陈彰评李金霞周运鸿
- 关键词：性能研究
