高胥华
- 作品数:19 被引量:16H指数:2
- 供职机构:成都精密光学工程研究中心更多>>
- 发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域:金属学及工艺电子电信交通运输工程化学工程更多>>
- 一种抛光机
- 本申请公开了一种抛光机,包括气缸、移动导轨、抛光模基座、底座、抛光模和填充层。所述抛光模粘附在所述抛光模基座上的、表面面积与抛光器件表面面积大小相同、且与所述抛光器件表面贴合;所述填充层为高于一温度时呈液态、常温下成固态...
- 蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
- 文献传递
- 一种数控抛光工具
- 本发明公开一种数控抛光工具,包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层,所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接,所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上,所述清扫层设置于所述非金属套圈底部,所述抛光模层设置于...
- 黄金勇马平鄢定尧胡庆何祥吕亮谢磊高胥华
- 大口径平面光学元件波前梯度数控抛光被引量:10
- 2019年
- 针对改善光学元件的波前梯度均方根指标,在总结面形精度及面形分布对波前梯度指标影响规律的基础上,提出了基于匀滑面形拟合加工的方法,给出了该方法的基本思想和工作流程。首先,对原始面形数据进行扫描计算,标记波前突变数据。然后,采用NURBS拟合算法重构相邻面形突变点之间的数据,生成用于指导加工的面形数据。最后,根据待加工面形数据选择相应参数进行面形加工。采用多件610mm×440mm口径K9材料平面反射镜进行实验验证。实验结果表明,使用该方法进行数控加工,在2~3个加工周期内可使波前梯度均方根指标从11nm/cm收敛至7.7nm/cm以内,且面形几乎保持不变。
- 黄金勇赵恒胡庆高胥华
- 关键词:光学加工光学元件
- 一种数控抛光工具
- 本实用新型公开一种数控抛光工具,包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层,所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接,所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上,所述清扫层设置于所述非金属套圈底部,所述抛光模层设...
- 黄金勇马平鄢定尧胡庆何祥吕亮谢磊高胥华
- 文献传递
- 一种数控抛光工具
- 本发明公开一种数控抛光工具,包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层,所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接,所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上,所述清扫层设置于所述非金属套圈底部,所述抛光模层设置于...
- 黄金勇马平鄢定尧胡庆何祥吕亮谢磊高胥华
- 文献传递
- 一种抛光工艺
- 本申请公开了一种抛光工艺,包括:在高温条件下,将抛光模与抛光器件表面压合,使抛光模完全复制抛光器件表面形状,然后向抛光模与抛光模基座之间注入填充层,加压固定后,抛光模与抛光模基座粘结,待填充层固定成型后控制所述抛光模对抛...
- 蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
- 光学表面激光预处理的研究
- 高功率激光系统工程的实施要求光学元件有极高的抗激光损伤能力,所以提高光学元件的工作阈值成为瓶颈问题。在紫外光段最容易引起光学元件损伤的是亚表层划痕与裂纹和再沉积层的杂质, 前者会引起对激光电磁场的调制,后者造成对激光光子...
- 韩敬华杨李茗冯国英胡建平何长涛高胥华
- 文献传递
- 一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统
- 本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中,方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数,以确定第一加工路径;根据第一加工路径对其进行抛光加工,直至其波前PV值不大于预设PV阈...
- 黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒马平鄢定尧高胥华
- 文献传递
- 一种抛光工艺
- 本申请公开了一种抛光工艺,包括:在高温条件下,将抛光模与抛光器件表面压合,使抛光模完全复制抛光器件表面形状,然后向抛光模与抛光模基座之间注入填充层,加压固定后,抛光模与抛光模基座粘结,待填充层固定成型后控制所述抛光模对抛...
- 蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
- 文献传递
- 一种光学元件抛光工具及抛光方法
- 本发明公开一种光学元件抛光工具,包括连接杆、磨盘、压圈和抛光膜层,连接杆的上端与抛光机构连接,连接杆的下端与磨盘的顶部连接,连接杆的中心轴线与磨盘中心线重合,磨盘的底部中心设置向下凸起的凸台,抛光膜层包覆在凸台上,压圈中...
- 黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒高胥华何祥马平鄢定尧
- 文献传递