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肖更竭

作品数:35 被引量:75H指数:7
供职机构:兰州空间技术物理研究所更多>>
发文基金:中国人民解放军总装备部预研基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学电气工程更多>>

文献类型

  • 17篇专利
  • 14篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 13篇一般工业技术
  • 7篇金属学及工艺
  • 4篇理学
  • 2篇电气工程
  • 1篇机械工程

主题

  • 9篇离子镀
  • 8篇复合材料
  • 8篇复合材
  • 7篇电弧离子镀
  • 7篇镀膜
  • 7篇类金刚石
  • 6篇离子
  • 6篇离子源
  • 5篇碳纤维
  • 5篇金刚石膜
  • 5篇类金刚石膜
  • 5篇附着力
  • 5篇表面镀
  • 4篇电弧
  • 4篇应力
  • 4篇碳纤维复合材...
  • 4篇陶瓷
  • 4篇陶瓷表面
  • 4篇纤维复合
  • 4篇纤维复合材料

机构

  • 22篇兰州空间技术...
  • 12篇中国科学院兰...
  • 2篇兰州大学
  • 1篇安徽工业大学
  • 1篇中国空间技术...
  • 1篇中国核工业集...

作者

  • 35篇肖更竭
  • 28篇马占吉
  • 26篇赵栋才
  • 23篇武生虎
  • 13篇任妮
  • 13篇周晖
  • 9篇蒋钊
  • 7篇郑军
  • 6篇张延帅
  • 4篇魏广
  • 4篇任妮
  • 4篇张腾飞
  • 3篇邱家稳
  • 2篇程峰
  • 2篇刘孝丽
  • 2篇骆水莲
  • 1篇何延春
  • 1篇唐德礼
  • 1篇王虎
  • 1篇吴春华

传媒

  • 5篇真空科学与技...
  • 3篇真空与低温
  • 2篇表面技术
  • 2篇中国表面工程
  • 2篇中国真空学会...
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇物理学报
  • 1篇第四届高能束...

年份

  • 1篇2023
  • 3篇2022
  • 4篇2021
  • 2篇2020
  • 3篇2019
  • 2篇2017
  • 1篇2016
  • 4篇2015
  • 2篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 6篇2008
  • 3篇2006
  • 1篇2004
35 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
七种金属基底上类金刚石膜的过渡层制备研究被引量:10
2008年
为了解决类金刚石(DLC)膜在金属基底上附着力低的困难,本研究分别利用了两种厚度不同的Ti/TiCx/DLC过渡层和一种Ti/TiNy/TiNyCx/DLC过渡层在7种金属基底上(W18Cr4V、Cr12、GCr15、TC4、40Cr、9Cr18、1Cr18Ni9Ti)制备了DLC薄膜。利用Si(100)基底镀膜前后的形变,计算的薄膜应力高达3.9 GPa,这种应力在过渡层中部分释放而制备了较厚(0.9μm)DLC膜。薄膜的附着力通过拉拔试验发现,选择合适的过渡层,薄膜的附着力有很大的提高,拉拔中只有胶被拉开。纳米硬度计测试结果表明,薄膜的硬度都在5000 Hv左右,不随基底材料改变。往复式摩擦试验结果显示,稳定后的摩擦系数在0.1附近。通过Raman谱发现,所有基底上薄膜的谱图一致,这说明薄膜的结构不受基底影响。
赵栋才任妮马占吉肖更竭武生虎
关键词:类金刚石膜附着力
一种沿面击穿触发式引弧结构
本发明公开一种沿面击穿触发式引弧结构,包括阴极靶、屏蔽盘、触发极陶瓷、导电片、引弧电极触头、内法兰套、外法兰套、密封圈、接线柱及触发式脉冲电源;阴极靶旁边的真空腔室壁上开一个法兰口,接线柱穿过内外法兰套和密封圈,形成端面...
肖更竭蒋钊周晖赵栋才杨拉毛草魏广骆水莲张延帅贵宾华马占吉张腾飞
一种装配阴极溅射环的阳极层离子源
本发明涉及一种装配阴极溅射环的阳极层离子源,属于离子源清洗、刻蚀和薄膜辅助沉积技术领域。所述离子源是在现有通用结构的阳极层离子源的阴极外环上紧密贴合安装阴极外环溅射环和/或在阴极内环上紧密贴合安装阴极内环溅射环获得;所述...
郑军周晖赵栋才肖更竭徐嶺茂蒋钊
文献传递
一种滚珠表面镀膜的装置
本发明公开了一种滚珠表面镀膜的装置。本发明采用将上转盘通过限位孔与固定架固定,而下转盘与旋转轴相连的方式,即下转盘转动,上转盘固定不动,使得滚珠的各表面与旋转轴的旋转中心的距离不一样,进而导致滚珠的自转,使得直线传播的膜...
赵栋才肖更竭马占吉武生虎任妮
一种可伸展收缩型真空镀膜机用阴极保护装置
本发明涉及一种可伸展收缩型真空镀膜机用阴极保护装置,属于真空镀膜装备制造技术领域。所述装置包括所述装置包括摆动气缸、磁流体、保护挡板、旋转轴和旋转轨道;所述保护挡板为分片式挡板,包括固定挡板和旋转挡板;固定挡板包括左固定...
郑军杨拉毛草周晖赵栋才马占吉肖更竭
文献传递
一种磁路可控式真空阴极电弧离子源
本发明公开了一种磁路可控式真空阴极电弧离子源,包括电弧离子源壳体,电弧离子源壳体内安装阴极靶座、阴极靶和磁铁,且阴极靶固定于阴极靶座;电弧离子源壳体外壁安装磁轭;所述磁轭由具有顶面的圆筒形磁轭A和圆环形磁轭B组成;磁轭B...
蒋钊肖更竭周晖赵栋才杨拉毛草许戩张延帅贵宾华
文献传递
辅助阳极在电弧离子镀和磁控溅射技术中的应用和研究进展
2022年
按照位置分类,概述了3类辅助阳极。第1类布置在阴极附近,能起到吸引电子,增大离化率,并降低沉积温度的效果,同时若有带负电的离子,也会被吸引至阳极;第2类布置在基片的背面,在吸引电子达到阳极的过程中,会增大基片附近工艺气体和沉积物的离化率,正离子在负偏压的引导下会和基底发生碰撞,达到基底活化或者提高膜层质量的目的;第3类为特殊工件类,如管内壁镀膜时通过辅助阳极的布置,提高管腔内等离子体的均匀性,从而增加膜层厚度和质量的一致性。辅助阳极的增加只需在真空室特定位置布置特定形状的阳极即可,即使需要额外引线,只需一个接线法兰口就能完成,非常方便。辅助阳极加载的正电压一般在0至几百伏之间,如果是0,则直接和真空腔室连接即可,必要时串联电阻。辅助阳极技术具有改变离子能量和方向的特点,能起到对大颗粒的抑制作用,能改变到达膜层表面离子的能量,对膜层质量的提高具有重要意义,值得推广。
赵栋才邱家稳肖更竭张子扬
关键词:辅助阳极电弧离子镀磁控溅射
真空阴极电弧离子源磁场分析与设计被引量:2
2019年
真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件,直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时,大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动,大幅度地减少液滴、减小液滴尺寸、提高膜层质量和使用寿命。对真空阴极电弧离子源的附加磁场进行了理论分析和仿真计算,为附加磁场的优化设计提供了重要的指导依据。
蒋钊唐德礼陈庆川周晖肖更竭郑军马占吉杨拉毛草
关键词:电弧放电磁场
一种磁路可控式真空阴极电弧离子源
本发明公开了一种磁路可控式真空阴极电弧离子源,包括电弧离子源壳体,电弧离子源壳体内安装阴极靶座、阴极靶和磁铁,且阴极靶固定于阴极靶座;电弧离子源壳体外壁安装磁轭;所述磁轭由具有顶面的圆筒形磁轭A和圆环形磁轭B组成;磁轭B...
蒋钊肖更竭周晖赵栋才杨拉毛草许戩张延帅贵宾华
文献传递
一种滚珠表面镀膜的装置
本发明公开了一种滚珠表面镀膜的装置。本发明采用将上转盘通过限位孔与固定架固定,而下转盘与旋转轴相连的方式,即下转盘转动,上转盘固定不动,使得滚珠的各表面与旋转轴的旋转中心的距离不一样,进而导致滚珠的自转,使得直线传播的膜...
赵栋才肖更竭马占吉武生虎任妮
文献传递
共4页<1234>
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