王震
- 作品数：9 被引量：19H指数：3
- 供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程更多>>
- 不同沉积参量下ZrO_2薄膜的微结构和激光损伤阈值被引量：7
- 2005年
- ZrO2是用于高抗激光损伤薄膜的重要材料,其结构及性能与沉积条件有很大关系。采用X射线衍射(XRD)技术分析了不同充氧条件和沉积温度对ZrO2薄膜组成结构的影响,并对不同工艺下制备的薄膜的表面粗糙度和激光损伤阈值进行了测量。结果发现随着氧压的升高,ZrO2薄膜将由单斜相多晶态逐渐转变为非晶态结构,而随着基片温度的增加,薄膜将由非晶态逐渐转变为单斜相多晶态。同时发现随着氧压升高晶粒尺寸减小,而随着沉积温度增加,晶粒尺寸增大。氧压增加时工艺对表面粗糙度有一定程度的改善,而沉积温度升高,工艺对表面粗糙度的改善不明显。晶粒尺寸大小变化与表面粗糙度变化存在对应关系。激光损伤测量表明,氧压条件和沉积温度对ZrO2薄膜的抗激光损伤能力有着较大影响。
- 马平陈松林胡建平胡江川段立华王震邵建达范正修
- 关键词：薄膜光学ZRO2薄膜X射线衍射激光损伤
- HfO_2/SiO_2双色膜在1064nm和532nm激光辐照下的损伤特性被引量：3
- 2011年
- 采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值,对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌,分析破斑的深度信息结合驻波场分布,对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能,从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。
- 潘峰陈松林李海波马平王震
- 关键词：激光损伤
- SiO_2和HfO_2薄膜光学性能的椭偏光谱测量被引量：1
- 2010年
- 结合XRD和原子力显微镜等方法,利用椭圆偏振光谱仪测试了单层SiO_2薄膜(K9基片)和单层HfO_2薄膜(K9基片)的椭偏参数,并用Sellmeier模型和Cauchy模型对两种薄膜进行拟合,获得了SiO_2薄膜和HfO_2薄膜在300～800 nm波段内的色散关系。用X射线衍射仪确定薄膜结构,并用原子力显微镜观察薄膜的微观形貌,分析表明:SiO_2薄膜晶相结构呈现无定型结构,HfO_2薄膜的晶相结构呈现单斜相结构;薄膜光学常数的大小和薄膜的表面形貌有关;Sellmeier和Cauchy模型较好地描述了该波段内薄膜的光学性能,并得到薄膜的折射率和消光系数等光学常数随波长的变化规律。
- 吴倩陈松林马平王震罗晋潘峰
- 关键词：光学参数椭偏测量光谱
- 激光量热法测量K9基片的表面吸收和体吸收被引量：1
- 2014年
- 表面抛光可能给K9基片带来额外的杂质和吸收,分离K9基片的表面吸收率与体吸收率有助于改进基片的加工质量和抛光工艺,对抗损伤能力研究具有重要意义。分析了激光量热法测量弱吸收的原理,采用符合ISO 11551要求的激光量热计测量K9基片的弱吸收。对相同工艺抛光的不同厚度K9基片进行了弱吸收表征,实验发现K9基片的弱吸收随着厚度增加近似线性增大。推导了表面吸收率和体吸收率的计算式,实验得出本样品的表面吸收率为1.21×10-5,体吸收率远大于表面吸收率,体吸收系数为1.72×10-3/cm。实验结果显示所用K9样品的吸收主要来自于材料本身,改善抛光工艺对降低其吸收率作用不大。
- 刘浩潘峰陈松林王震马平欧阳升卫耀伟
- 关键词：弱吸收体吸收
- YAG晶体功能薄膜制备
- 2012年
- 采用电子束蒸发方法制备Nd:YAG晶体板条功能薄膜,理论设计并镀制具有倏逝膜功能的宽带泵浦光减反膜(808 nm HT)和具有谐波功能的双色膜(808 nm HR,1 064 nm HT)。实验表明:大角度使用条件下的双色膜通带波纹加剧是导致其光谱性能下降的主要原因,同时比较了不同工艺下膜层应力对薄膜开裂的影响,使用应力缓冲层技术抑制了薄膜老化过程中裂纹的形成和扩展。激光损伤测试结果表明双色膜的单脉冲损伤阈值大于5.6 J/cm2(1 064 nm,5 ns,1-on-1),连续激光损伤阈值大于500 kW/cm2(1 064 nm),原子力显微镜分析证实初始损伤源主要来自膜层及其界面的点状吸收缺陷。
- 陈松林马平刘志超王震潘峰吴倩罗晋
- 关键词：薄膜光学薄膜应力YAG晶体激光损伤
- 高损伤阈值双色膜被引量：1
- 2012年
- 结合双色膜的驻波场分布优化膜系设计,以电子束蒸发的方式制备了1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜。采用1-on-1方式测量了双色膜在基频透过光和倍频反射光的辐照下的损伤阈值,为了研究双色膜在基频和倍频下的损伤机制差异,对比了双色膜不同的初始损伤形貌并分析了其形成原因。针对损伤机制的差异,研究了外层驻波场分布对于倍频反射光辐照下的双色膜损伤特性影响以及氧化硅内保护层对于基频透过光的损伤特性的影响。实验结果表明:氧化硅内保护层和驻波场优化有助于提高双色膜在基频光和倍频光辐照下的激光损伤阈值,并对其机理做了分析。
- 潘峰陈松林马平王震刘志超
- 关键词：驻波场激光损伤
- 离子辅助沉积大口径传输反射镜面形控制研究
- 2011年
- 针对大型激光系统中光束质量低和波前畸变等特点,采用离子辅助电子束蒸发技术成功实现对多层膜残余应力的精确控制。通过分析氧化铪、氧化硅单层膜残余应力变化规律,研究了离子源束压、束流参量对膜层折射率、残余应力性质及大小的影响。540 mm×340 mm×60 mm规格大口径传输反射镜面形PV值达到0.5λ(λ=632 nm),小光束损伤测试情况下,样品元件的损伤阈值大于30 J/cm2(N-on-1,1 064 nm,5 ns),利用该技术制备的大口径传输反射镜已获得成功应用。
- 陈松林马平胡江川胡建平王震罗晋
- 关键词：薄膜光学面形控制反射镜损伤阈值
- 氧化钪/氧化硅反射薄膜的355nm激光损伤特性被引量：5
- 2009年
- 采用电子束蒸发法制备了Sc4O3单层薄膜和Sc2O3/SiO2多层反射膜。利用原子力显微镜、X射线衍射仪等方法对薄膜的表面和结构进行了研究。采用355 nm激光研究了Sc2O3/SiO2多层薄膜的损伤特性和预处理效应,并对Sc2O3的损伤原因进行了分析。实验发现,Sc2O3具有较宽的带隙,薄膜结构为立方相,影响Sc2O3/SiO2多层反射膜抗损伤能力的主要因素是材料的纯度。
- 马平陈松林潘峰王震罗晋吴倩邵建达
- 关键词：薄膜光学激光损伤氧化钪
- 不同工艺制备的高反射薄膜在真空与大气环境下的激光损伤特性被引量：1
- 2009年
- 建立了光学元件在真空环境下的激光损伤测量系统,采用电子束蒸发和离子辅助技术制备了HfO2/SiO2高反射薄膜。对不同工艺制备的薄膜在真空与大气环境下的1 064 nm波长的激光损伤阈值进行了测量,对薄膜的损伤形貌进行了观测。对薄膜的损伤特性研究分析结果表明:薄膜在真空环境中的损伤阈值相对大气环境中有明显下降,其1∶1测试和R∶1测试损伤阈值下降约30%;两种环境中的薄膜损伤特性也不同,真空环境中损伤阈值的下降可能与热传导的不同有关。
- 马平陈松林胡建平王震邵建达
- 关键词：薄膜光学激光损伤大气环境
