汤文杰
- 作品数：10 被引量：10H指数：2
- 供职机构：北京印刷学院印刷与包装工程学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金北京市教委资助项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学化学工程更多>>
- 高气压脉冲DBD等离子体合成功能材料及其性能研究
- 低温等离子体表面处理技术由于具有工艺简单、操作简便、易于控制、对环境无污染等优点,正受到越来越广泛的应用。用等离子体方法制备的聚合膜连续、无针孔、与衬底粘附性好、产物交联度高、具有稳定的化学性能。当在进行材料接枝改性时,...
- 汤文杰
- 关键词：丙烯酸马来酸酐稳定性电子温度
- 文献传递
- 高气压脉冲DBD等离子体聚合羧基功能薄膜的研究被引量：2
- 2007年
- 在40 kHz脉冲介质阻挡放电(DBD)产生等离子体,以丙烯酸为单体,在2000 Pa的高气压下,聚合带羧基的功能薄膜。采用接触角测试仪(WCA)、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、X光电子能谱(XPS)研究了占空比对沉积薄膜化学结构、表面性能的影响。实验得到,中频脉冲DBD放电在高气压下制备的薄膜官能团含量较高;结果同时表明薄膜的性能受脉冲放电占空比的影响较大,占空比越小,薄膜的化学结构与单体更相近,官能团密度越多,但薄膜的稳定性较差。
- 汤文杰陈强付亚波葛袁静
- 关键词：脉冲电源占空比
- 单体对大气下沉积SiOx薄膜的性能研究
- 在大气压下,利用工作在16KHz的介质阻挡放电(DBD)等离子枪,以氩气为工作气体分别用四甲基硅氧烷(TEOS)、六甲基硅氧烷(HMDSO)和八甲基环四硅氧烷(D4)为单体,通过改变载气流量、等离子体放电功率等研究聚合S...
- 汤文杰韩尔立陈强葛袁静
- 关键词：大气压DBDSIOX红外光谱
- 文献传递
- 大气下等离子枪沉积类金刚石薄膜的研究
- 本文在大气下,以甲烷为单体,氩气为工作气体,利用DBD等离子枪沉积类金刚石薄膜(DLC).考察了基片预处理、内电极形状、进气方式、以及等离子体炬喷口和基材的距离对DLC薄膜沉积的影响.通过傅立叶变换红外光谱(FTIR)分...
- 汤文杰张跃飞陈强葛袁静
- 关键词：大气压DBDDLC薄膜FTIR
- 文献传递
- 大气等离子体枪制备类金刚石薄膜被引量：1
- 2006年
- 大气下,采用DBD等离子体枪为等离子体聚合装置,以甲烷为单体,氩气为工作气体,在载玻片和单晶硅片上沉积类金刚石薄膜(DLC)。考察了基片预处理、内电极形状、进气方式、以及等离子体炬喷口和基材的距离对DLC薄膜沉积的影响。通过傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析聚合膜结构并探索可能的沉积机理;表面轮廓仪测定了成膜速率;并对薄膜进行了机械性能测量。
- 汤文杰张跃飞陈强葛袁静
- 关键词：DLC薄膜
- 大气压下等离子枪沉积类金刚石薄膜的研究
- 在大气压下,以甲烷为单体,氩气为工作气体,利用DBD等离子枪沉积类金刚石薄膜(DLC)。考察了基片预处理、内电极形状、进气方式、以及等离子体炬喷口和基材的距离对DLC薄膜沉积的影响。通过傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析...
- 汤文杰张跃飞陈强葛袁静
- 关键词：DLC薄膜
- 文献传递
- 大气压下等离子枪沉积类金刚石薄膜的研究
- 在大气压下,以甲烷为单体,氩气为工作气体,利用DBD等离子枪沉积类金刚石薄膜（DLC）。考察了基片预处理、内电极形状、进气方式、以及等离子体炬喷口和基材的距离对DLC薄膜沉积的影响。通过傅立叶变换红外光谱（FTIR）分析...
- 汤文杰张跃飞陈强葛袁静
- 关键词：DLC薄膜
- 文献传递
- 单体对大气下沉积SiO_(x)薄膜的性能研究被引量：1
- 2006年
- 在大气压下,利用工作在16kHz的介质阻挡放电(DBD)等离子枪,以氩气为工作气体,分别用四甲基硅氧烷(TEOS)、六甲基硅氧烷(HMDSO)和八甲基环四硅氧烷(D4)为单体,通过改变载气流量、等离子体放电功率等研究聚合S iOx薄膜的结构性能影响。采用红外光谱(FTIR)分析所沉积S iOx薄膜的结构,通过接触角测试了解其表面亲/疏水性能。
- 汤文杰韩尔立陈强葛袁静
- 关键词：SIOX
- 中频DBD等离子体聚合马来酸酐薄膜的研究被引量：5
- 2007年
- 用马来酸酐乙醇溶液为单体,采用脉冲介质阻挡放电(DBD)合成聚马来酸酐薄膜,研究了放电的不同频率,聚合的区域对聚合薄膜性能的影响。通过对薄膜性能的表征:接触角、红外光谱、表面形貌、薄膜厚度,发现在频率为80 kHz,气压50 Pa能聚合表面连续致密的聚马来酸酐薄膜,薄膜的生长速率为8 nm/min。
- 汤文杰陈强张跃飞葛袁静
- 关键词：马来酸酐
- 低温等离子体在印刷包装工业中的应用被引量：1
- 2007年
- 在印刷包装应用领域，低温等离子体对大家来说是比较陌生的，但事实上，我们很早就开始采用的电晕放电、火焰处理表面改性方法就是等离子体中最常见的放电形式——介质阻挡放电（DBD）。由于低温等离子体中含有大量高能电子、离子、激发态粒子和具有很强氧化性的自由基，这些活性粒子，特别是高能电子（一般约1—10eV）更易于和所接触的物质发生物理变化和化学反应．因此近年来低温等离子体已经广泛被用来对材料进行表面改性以改变其黏着力、吸水性、着色性等性能，合成新材料和传统的方法相比，利用等离子处理具有显著的优点：成本低、无废弃物、无污染，有时可得到传统的物理和化学方法难以得到的处理效果。
- 汤文杰
- 关键词：低温等离子体光源印刷工业
