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张瑞

作品数:5 被引量:3H指数:1
供职机构:中国科学院半导体研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇单晶
  • 3篇ZNO
  • 2篇ZNO单晶
  • 2篇掺杂
  • 1篇阵列
  • 1篇阵列结构
  • 1篇小尺寸
  • 1篇可集成
  • 1篇集成光学
  • 1篇集成光学器件
  • 1篇光学
  • 1篇光学器件
  • 1篇光子
  • 1篇PHOSPH...
  • 1篇SINGLE...
  • 1篇DEFECT
  • 1篇DIFFUS...
  • 1篇波导
  • 1篇掺磷
  • 1篇掺锑

机构

  • 5篇中国科学院

作者

  • 5篇张瑞
  • 3篇张璠
  • 3篇赵有文
  • 3篇董志远
  • 3篇杨俊
  • 1篇郑婉华
  • 1篇冯志刚
  • 1篇王宇飞
  • 1篇祁帆

传媒

  • 3篇Journa...

年份

  • 1篇2014
  • 4篇2008
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
基于微纳波导及空气狭槽耦合阵列的可集成量子行走器件
本发明公开了一种基于微纳波导及空气狭槽耦合阵列的可集成量子行走器件,该可集成量子行走器件由相互耦合的微纳波导耦合阵列和空气狭槽耦合阵列构成,其中,微纳波导耦合阵列包括多个相互平行且等间距排列的条形微纳波导,各条形微纳波导...
郑婉华张瑞冯志刚王宇飞祁帆张斯日古楞
文献传递
Characterization of Phosphorus Diffused ZnO Bulk Single Crystals
2008年
Phosphorus was diffused into CVT grown undoped ZnO bulk single crystals at 550 and 800℃ in a closed quartz tube. The P-diffused ZnO single crystals were characterized by the Hall effect, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), photoluminescence spectroscopy (PL), and Raman scattering. The P-diffused ZnO single crystals are n-type and have higher free electron concentration than undoped ZnO, especially for the sample diffused at 800℃. The PL measurement reveals defect related visible broad emissions in the range of 420-550nm in the P-diffused ZnO samples. The XPS result suggests that most of the P atoms substitute in the Zn site after they diffuse into the ZnO single crystal at 550℃ ,while the P atom seems to occupy the O site in the ZnO samples diffused at 800℃. A high concentration of shallow donor defect forms in the P-diffused ZnO,resulting in an apparent increase of free electron concentration.
张瑞张璠赵有文董志远杨俊
关键词:DIFFUSIONDEFECTZNOPHOSPHORUS
掺Sb的ZnO单晶的缺陷和性质研究被引量:2
2008年
采用化学气相传输法生长了掺Sb的ZnO体单晶,生长温度为950℃.与非掺ZnO单晶相比,掺Sb后ZnO单晶仍为n型,其自由电子浓度明显升高.X射线光电子能谱(XPS)测量结果表明,掺入的Sb在ZnO单晶中可能占据了Zn位,或处于间隙位置,形成了施主.利用光致发光谱(PL)测量发现掺Sb后ZnO单晶发出蓝光,该蓝色荧光与浅施主有关.这些结果表明在高温生长条件下,掺Sb后ZnO单晶中产生了高浓度的施主缺陷,因而难以获得p型材料.
张瑞张璠赵有文董志远杨俊
关键词:ZNO单晶掺杂
气相传输法生长掺磷、掺锑ZnO单晶
ZnO为Ⅱ-Ⅵ族直接带隙半导体材料。由于其禁带宽度大(3.37eV),激子束缚能高(60meV),ZnO在短波长光电器件领域具有很大的应用潜力。目前对于ZnO材料研究的重点和难点有两个方面:ZnO体单晶材料的制备,以及Z...
张瑞
铟掺杂ZnO体单晶的生长及其性质被引量:1
2008年
研究了In掺杂n型ZnO体单晶的化学气相传输法生长和材料性质.利用霍尔效应、X射线光电子能谱、光吸收谱、喇曼散射、阴极荧光谱等手段对晶体的特性和缺陷进行了分析.掺In后容易获得浓度为1018~1019cm-3的n型ZnO单晶,掺入杂质的激活效率很高.随着掺杂浓度的提高,ZnO单晶的带边吸收和电学性质等发生明显的变化.分析了掺In-ZnO单晶的缺陷及其对材料性质的影响.
张璠赵有文董志远张瑞杨俊
关键词:ZNO掺杂单晶
共1页<1>
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