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康静

作品数:8 被引量:0H指数:0
供职机构:南京航空航天大学更多>>
相关领域:文化科学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 7篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇文化科学

主题

  • 6篇抛光
  • 4篇抛光垫
  • 2篇电脑
  • 2篇信号
  • 2篇信号处理
  • 2篇信号处理模块
  • 2篇修整
  • 2篇抛光加工
  • 2篇平面度
  • 2篇汽缸
  • 2篇微电脑
  • 2篇温度记录仪
  • 2篇无线
  • 2篇无线电
  • 2篇无线电波
  • 2篇面形
  • 2篇面形精度
  • 2篇磨料
  • 2篇环形区
  • 2篇集中力

机构

  • 8篇南京航空航天...

作者

  • 8篇康静
  • 7篇左敦稳
  • 6篇朱永伟
  • 5篇周亮
  • 4篇李茂
  • 4篇孙玉利
  • 2篇祝晓亮
  • 2篇郭魂
  • 2篇赵云
  • 2篇李军
  • 2篇王军
  • 2篇孙业斌
  • 1篇黄铭敏
  • 1篇戴军之
  • 1篇陈兴峰

年份

  • 1篇2011
  • 3篇2010
  • 3篇2009
  • 1篇2008
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
固结磨料化学机械抛光硅片的应用基础研究
化学机械抛光(CMP)技术可以有效地实现硅片的局部和全局平坦化,目前广泛应用于超大规模集成电路的制造中。随着IC产业的蓬勃发展,硅片直径越来越大,对CMP技术提出了新的要求。近年来,固结磨料化学机械抛光技术以其工艺可控性...
康静
文献传递
能使加载载荷均匀布置在承载器表面的抛光加载装置
一种能使加载载荷均匀布置在承载器表面的抛光加载装置,包括支撑盘(1),其特征是所述的支撑盘(1)相对于承载器的一面上至少安装有三个加载盘(2),所述的加载盘(2)的中心均匀布置在离支撑盘(1)中心距离为(1/(1+sin...
左敦稳康静孙玉利赵云祝晓亮朱永伟孙业斌
带自修整功能的磨损均匀性好的固结磨料抛光垫
一种带自修整功能的磨损均匀性好的固结磨料抛光垫,其特征是其加工面上设有三个密度不等的环形区,三个环形区从内向外的宽度比为8~18∶10∶20~30,三个环形区对应的磨料的密度比为0.55~0.85∶1∶0.50~0.70...
朱永伟左敦稳李茂李军周亮王军康静
文献传递
掺硼金刚石电极电解离子水生成器
一种掺硼金刚石电极电解离子水生成器,属于一种水处理设备,它包括壳体(1)和上盖(2),上盖(2)和壳体(1)相连,其特征是在所述的壳体(1)中安装有若干组由掺硼金刚石阳极(3)和阴极(4)组成的电极组,在掺硼金刚石阳极(...
陈兴峰黄铭敏戴军之左敦稳康静周亮
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冰冻固结磨料抛光温度的控制方法及装置
本发明公开了一种冰冻固结磨料抛光温度的控制方法及装置,它利用冻结在冰冻固结磨料抛光垫内部的带有无线电发射模块的温度记录仪对冰冻抛光垫内部的温度进行测量,获取冰冻抛光垫内部的温度,带有温度信号的无线电波被安装在冷风发生器上...
孙玉利左敦稳朱永伟郭魂周亮李茂康静
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冰冻固结磨料抛光温度的控制方法及装置
本发明公开了一种冰冻固结磨料抛光温度的控制方法及装置,它利用冻结在冰冻固结磨料抛光垫内部的带有无线电发射模块的温度记录仪对冰冻抛光垫内部的温度进行测量,获取冰冻抛光垫内部的温度,带有温度信号的无线电波被安装在冷风发生器上...
孙玉利左敦稳朱永伟郭魂周亮李茂康静
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能使加载载荷均匀布置在承载器表面的抛光加载装置
一种能使加载载荷均匀布置在承载器表面的抛光加载装置,包括支撑盘(1),其特征是所述的支撑盘(1)相对于承载器的一面上至少安装有三个加载盘(2),所述的加载盘(2)的中心均匀布置在离支撑盘(1)中心距离为(1/(1+sin...
左敦稳康静孙玉利赵云祝晓亮朱永伟孙业斌
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带自修整功能的磨损均匀性好的固结磨料抛光垫
一种带自修整功能的磨损均匀性好的固结磨料抛光垫,其特征是其加工面上设有三个密度不等的环形区,三个环形区从内向外的宽度比为8~18∶10∶20~30,三个环形区对应的磨料的密度比为0.55~0.85∶1∶0.50~0.70...
朱永伟左敦稳李茂李军周亮王军康静
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共1页<1>
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