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刘巧明

作品数:8 被引量:18H指数:2
供职机构:中国电子科技集团第十三研究所更多>>
相关领域:化学工程电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 5篇化学工程
  • 2篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 7篇化学镀
  • 5篇镀镍
  • 5篇封装
  • 4篇电子封装
  • 4篇微电子
  • 4篇微电子封装
  • 4篇化学镀镍
  • 3篇合金
  • 2篇镀镍工艺
  • 2篇镍合金
  • 2篇化学镀镍工艺
  • 2篇纯镍
  • 1篇导电
  • 1篇电路
  • 1篇镀合金
  • 1篇镀液
  • 1篇镀液成分
  • 1篇氧化膜
  • 1篇酸盐
  • 1篇镍硼合金

机构

  • 4篇中国电子科技...
  • 2篇中国电子科技...
  • 2篇机电部

作者

  • 8篇夏传义
  • 8篇刘巧明
  • 3篇张志谦
  • 2篇刘圣迁
  • 2篇刘晓敏

传媒

  • 3篇电镀与涂饰
  • 1篇电镀与精饰
  • 1篇材料保护
  • 1篇全国首届化学...

年份

  • 1篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2001
  • 1篇1996
  • 1篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1993
  • 1篇1992
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
微电子封装化学镀镍工艺研究及应用被引量:11
2005年
 在微细图形上实施化学镀有一定的技术难度,尤其是在批量生产中。通过研究工艺条件对镀层的影响,探索出微电子封装化学镀镍的工艺参数的适宜范围分别为:23~27g/L的镍盐、4~6g/L的还原剂、pH值4 5左右、温度(90±2)℃。经试验筛选出合适的镀液稳定剂Tl2+,使批量生产的封装微细图形不"糊片",无镍粒。用X射线荧光测厚仪及化学分析方法对生产过程中的镀液成分进行测定,确定了维护镀液所用的补充液的组分,从而延长了镀液的使用寿命,满足了微电子封装批量生产的要求。
刘圣迁刘晓敏张志谦刘巧明夏传义
关键词:微电子封装化学镀镍稳定剂
化学镀镍硼合金工艺研究
夏传义刘巧明
关键词:化学镀镍合金含硼合金镀合金
PGA370高密度陶瓷封装局部镀金
2001年
研究了在陶瓷PGA 370和RP 54等具有分离 (导体 )结构的金属导体和引脚的高密度封装的局部镀金技术。结果表明 :采用分步化学镀和电镀相结合的方法 ,适当控制化学镀和电镀工艺条件 ,可以成功地实现上述封装的局部镀金。
刘巧明夏传义张志谦
关键词:封装化学镀镍集成电路
用于微电子封装的化学镀纯镍研究
刘巧明夏传义
关键词:化学镀化学镀镍技术微电子技术镍酸盐
微电子封装化学镀镍工艺研究及应用
本文对微电子封装化学镀镍生产工艺及应用进行了研究。系统分析了镀液不同工艺条件对镀层的影响,从而确定了镀液浓度、PH值及温度等工艺参数。应用适当的稳定剂,使批量生产的封装微细图形不糊片,无镍粒。用X射线荧光测厚仪及化学分析...
刘圣迁刘晓敏张志谦刘巧明夏传义
关键词:微电子封装化学镀镍镀液成分
文献传递
新型化学镀金被引量:2
1993年
介绍了一种新型的三价金盐和一价金盐混合使用的化学镀金溶液。其镀速可保持在3~5μm/h左右,溶液稳定,操作方便,镀层结晶细致,附着牢固。对镀层的硬度、电阻率、抗氧化及焊接性能进行了测试。试验结果表明,在微电子封装技术中,诸如陶瓷芯片载体(LCCC)及插脚陈列式封装(PGA)等复杂电子元件的镀金,可以用化学镀来取代电镀。
夏传义刘巧明
关键词:化学镀
铝合金上的无色导电转化膜被引量:2
1996年
采用本化学氧化工艺可以在铝合金(Ly11、Ly12)上获得无色导电氧化膜。讨论了氧化溶液组成和操作条件对氧化膜耐蚀性和接触电阻的影响。本工艺氧化膜耐蚀性大大超过HB5060—77标准要求,按美国AMS2474B标准测定,接触电阻小于8μ/mm2。
夏传义刘巧明
关键词:铝合金化学氧化导电氧化膜
用于微电子封装的化学镀纯镍工艺被引量:4
1995年
研究了一种能获得厚的纯镍化学镀溶液,讨论了溶液中各种化学成分、操作温度、稳定剂对沉积速度的影响,在此基础上确定了最佳配方及操作程序.对电子元件引线镀镍、镀金后的拉力进行了测试,对镀层硬度、方阻进行了测定.此方法适用于电子封装中W、Mo-Mn金属化及Cu、Ni、可伐等金属上的镀覆.
刘巧明夏传义
关键词:镀镍封装微电子镍合金
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