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俞芳

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：华东冶金学院化学工程系更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇阴离子
  • 1篇荧光
  • 1篇荧光法
  • 1篇荧光法测定
  • 1篇萃取
  • 1篇离子
  • 1篇活性剂
  • 1篇痕量
  • 1篇痕量阴离子
  • 1篇表面活性
  • 1篇表面活性剂

机构

  • 1篇华东冶金学院

作者

  • 1篇高甲友
  • 1篇俞芳

传媒

  • 1篇分析化学

年份

  • 1篇1991
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
萃取-荧光法测定痕量阴离子表面活性剂被引量：5
1991年
本文提出了一个新的痕量阴离子表面活性剂的荧光测定方法。其是基于在0.10mol/L盐酸溶液中,阴离子表面话性剂与罗丹明6G生成离子缔合物并被萃取入苯中。该方法的检出限为0.8ng/ml,线性范围为0.8～65ng/ml。应用本法测定江水和污水中痕量阴离子表面活性剂,得到了满意的结果。
高甲友俞芳
关键词：萃取荧光法阴离子表面活性剂
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共1页<1>
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