付存宝
- 作品数:12 被引量:10H指数:3
- 供职机构:内蒙古师范大学物理与电子信息学院更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金内蒙古自治区自然科学基金更多>>
- 相关领域:理学机械工程动力工程及工程热物理一般工业技术更多>>
- 光折变光子晶格带隙展宽的实验研究被引量:3
- 2011年
- 本文利用振幅掩模的傅里叶变换法在LiNbO3∶Fe晶体中制作了一维光子晶格,通过连续旋转晶体,由功率探测器测得透射率,绘出Bragg带隙曲线。分析了用两孔振幅掩模制作的光子晶格的带宽、位置,讨论了在孔间距为6mm条件下,振幅掩模孔的数目由3个增加到5个的带隙情况,由实验观察发现了奇特的现象:衍射光的数目由2个增加到4个。从而使一个Bragg衍射角增加为多个Bragg衍射角,提高了非平行光的Bragg衍射效率。但这些衍射光是角分立的,如果能使这些衍射光成为角连续的,则能从根本上增大Bragg带宽,大大提高了光子晶体光纤的导光能力。基于这种思想,我们利用孔间距为2mm的4孔振幅掩模实现了带隙增宽的目的,为增大带宽提供了一个行之有效的办法,对光能的利用率的提高有着极其重要的作用。
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- 光诱导LiNbO_3:Fe晶体光孤子串的形成
- 2011年
- 用条形光束辐照具有光子晶格结构的自散焦LiNbO3:Fe晶体,在适当条件下,辐照在光子晶格上的条形光束会产生光孤子串,而且无需施加外电场.实验结果显示,影响光孤子串形成的因素有光束宽度、晶格周期和晶格折射率变化量等.对光孤子串现象产生的原因进行了理论分析,所得结论与实验结果符合的较好.
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- 关键词:光诱导光孤子LINBO3:FE晶体光子晶格
- 具有线缺陷二维光折变光子晶格的制备研究被引量:2
- 2009年
- 利用交叉相位法采用波长为532nm激光在自散焦光折变晶体LiNbO2:Fe中成功地制作了带有线缺陷的二维光折变光子晶格,晶格周期为12.8μm×12.8μm,线缺陷宽度为32.6μm。对其晶格线缺陷局域光的特性进行了详细的实验观测和初步的理论研究。实验结果表明,在折射率变化量仅有10^-3~10^-3的LiNbO3:Fe晶体中,由于光折变光子晶格的存在,以及晶格带隙的作用,负折射率的线缺陷具有局域光和导光的作用。实验结果说明:在LiNbO3:Fe中写入带有线缺陷的二维光折变光子晶格并把光波局域在缺陷内部是完全可行的。利用此性质,可以制作类似于光子晶体光纤的光学元件,对光通信的发展是非常重要的。
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- 关键词:局域线缺陷
- 二维网状光折变光子晶格的构造与研究
- 2010年
- 利用交叉相位法,辐照两个带有15个孔相互正交的振幅掩膜,成功地在LiNbO3∶Fe晶体中构造了二维网状光折变光子晶格。分析了掩模孔间距、写入时间及入射角度等实验条件对写入光子晶格的影响。分别推导了两个掩膜的空间电磁场分布并在理论上进行了叠加和数值模拟,结果和实验符合的很好,这对光子晶格的应用和研究有一定的意义。
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- 掩膜成像法在LiNbO_3:Fe晶体制作缺陷态光子晶格被引量:1
- 2008年
- 在用掩膜法制作光子晶格的实验中,我们分别在薄、厚LiNbO3:Fe晶体中成功地制作了带有缺陷的(2+1)维光折变光子晶格且比较了二者的异同,并结合透镜成像的相关理论找出了造成这些异同的因素,又对这些因素做了详细的分析。这对更好的利用掩膜成像法制作光折变光子晶格有一定的指导意义。
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- 关键词:LINBO3:FE晶体光子晶格
- 光折变缺陷光子晶格的局域光特性研究
- 2008年
- 以交叉相位法为基础,分别在LiNbO_3:Fe晶体中构造了带有微米量级线缺陷的四方和三角的12μm×12μm光折变光子晶格,并且重点研究了在不同类型和不同的实验条件下的光折变光子晶格中线缺陷的能否局域光的特性。
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- 关键词:局域光子晶格线缺陷LINBO3:FE晶体
- 弱近红外光诱导LN晶体光折变现象调制度的实验研究
- 2010年
- 利用毫瓦级的近红外光辐照掺铟铁铌酸锂晶体,在晶体中发生了光折变效应,通过单马赫-曾德干涉仪的条纹摆动幅度测得了掺铟铁铌酸锂晶体的变化量△n可以达到10-4数量级,并对实验数据进行了数值模拟,得到了折射率变化图;在理论上,利用倍频理论成功的解释了近红外光折变现象,并对折射率变化量进行了数值模拟。可以发现,实验和理论得到了很好的符合。
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- 关键词:折射率调制度
- 缺陷态光折变光子晶格的制作
- 光子晶格是介电结构在空间尺度上的周期性光学微结构,它的周期是光波长数量级的,其主要的特性是存在光子带隙。但具有完整周期性的光子晶格不能有效控制光子在其中的传播行为,只有带有缺陷的光子晶格才可以更有效地控制在其中传播的光子...
- 付存宝
- 关键词:光子晶体光子晶格晶体折射率
- 文献传递
- 胶合透镜法在LiNbO_3:Fe晶体中制作光折变光子晶格
- 2011年
- 研究了一种制作光折变光子晶格的新方法——胶合透镜法。利用此方法在LiNbO3∶Fe晶体中成功的制作了一维和二维光折变光子晶格。同时,对实验现象和实验原理进行分析得到,此种方法不仅可以得到较大面积的干涉区域从而可以制作出较大面积光折变光子晶格,此外这种方法可以实现晶格周期的连续调节,进而可以根据需求制作不同周期的光折变光子晶格。在实验中也验证了这种方法的优点与可行性,这对光子晶格的制作与研究有一定的意义。
- 张兰根杨立森付存宝张宝光张印房艳永
- 关键词:光子晶格LINBO3:FE晶体光折变
- 片光法构造缺陷态光折变光子晶格被引量:1
- 2009年
- 实验上利用四孔的掩膜和柱透镜成功的在LN晶体中构造了不同类型的缺陷态光折变光子晶格,发现当缺陷的写入角度与c轴垂直时,写入的缺陷最好,平行时最差,并描绘了折射率随时间变化曲线,发现写入时间为40分钟时为最佳写入时间。推导了四孔掩膜的电磁场分布并在理论上模拟了四孔掩膜和柱透镜的空间光场分布,验证了此方法的可行性,这对缺陷态光子晶格的研究和应用有一定的意义。
- 付存宝杨立森何冬梅张宝光张兰根张印
- 关键词:光子晶格