于新好
- 作品数：16 被引量：32H指数：4
- 供职机构：山东大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金山东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信化学工程更多>>
- 一种用于超大规模集成电路芯片的清洗剂组合物及其制备方法
- 一种用于超大规模集成电路芯片的清洗剂组合物及其制备方法,属于化学品制备领域。由壬基酚聚氧乙烯醚、椰子油二乙醇酰胺、氧丙烯氧乙烯甘油醚(3000～3600)甜菜碱型表面活性剂、氨基酸型表面活性剂乙二胺四乙酸、柠檬酸、碘、异...
- 曹宝成于新好马洪磊马谨
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- 一种用于电子工业的清洗剂及其制备方法
- 一种用于电子工业的清洗剂及其制备方法，属于化学产品制备技术领域。本发明清洗剂一套两个型号I和II，选用中性表面活性剂，添加适量助剂，与超纯去离子水配成均匀透明的液体，复配温度50-90℃，pH值为6.4-8.5，经灭菌处...
- 罗升旭马洪磊刘可辛申英魁于新好
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- 新型半导体清洗剂的清洗工艺被引量：6
- 2002年
- 报道了利用红外吸收谱、X射线光电子谱和表面张力测试仪对新型半导体清洗工艺进行研究的结果 .采用DGQ系列清洗剂清洗硅片时 ,首先需用HF稀溶液浸泡硅片 ,以利于将包埋于氧化层内的金属和有机污染物去除 ;溶液的配比浓度由临界胶束浓度和硅片表面的污染程度确定 ,要确保清洗过程中溶液内部有足够的胶束存在 ,一般DGQ 1、DGQ 2的配比浓度在 90 %到 98%之间 ;当温度接近表面活性剂溶液的浊点温度时 ,增溶能力最强 ,因而清洗液的温度定在 6 0℃ .
- 曹宝成于新好马洪磊
- 关键词：半导体清洗剂清洗工艺红外吸收谱X射线光电子谱
- 用含表面活性剂和螯合剂的清洗液清洗硅片的研究被引量：16
- 2001年
- 目前半导体工业生产中普遍采用的清洗技术是 RCA清洗技术 .文中介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗技术 .并利用 X射线光电子谱和原子力显微镜等测试方法 ,分别比较了用两种清洗技术清洗过的硅片表面 .测试结果表明 ,它们的去污效果基本相当 .但对硅片表面的粗糙化影响方面 ,新型半导体清洗技术优于标准 RCA清洗技术 .
- 曹宝成于新好马瑾马洪磊刘忠立
- 关键词：表面活性剂螯合剂清洗液硅片
- 新型超大规模集成电路清洗技术的研究
- 目前,在集成电路制造工艺中广泛采用的清洗技术是Kern于1970年发明的标准RCA清洗技术,它的特点是工艺简单、操作方便.它所采用的试剂是强酸、强碱和有机溶剂,这些化学试剂有的有毒、有的有很强的腐蚀性,它们对人体有危害、...
- 于新好
- 关键词：集成电路表面活性剂硅片清洗
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- 一种水剂清洗剂组合物
- 本发明涉及一种电子工业用清洗剂。其组成为：5-10%脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠，10-20%壬基酚聚氧乙烯醚，10-15%椰子油酰二乙醇胺或烷基醇酰胺磷酸酯，1-10%乙二醇烷基醚，5-10%直链或支链低级脂肪醇，0.1-0...
- 李玉香于新好马洪磊
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- 一种用于电子工业的清洗剂及其制备方法
- 一种用于电子工业的清洗剂及其制备方法，属于化学清洗技术领域。本发明清洗剂一套两个型号I和II，选用中性表面活性剂，添加适量助剂，与超纯去离子水配成均匀透明的液体，复配温度50-90℃，PH值为6.4-8.5，经灭菌处理，...
- 罗升旭马洪垒刘可辛申英魁于新好杜信荣曹宝成
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- 新型超大规模集成电路清洗技术
- 曹宝成马瑾马洪磊于新好宗福建李玉香
- 该项目为超大规模集成电路清洗技术，该成果的关键技术为新型清洗剂DGQ-1、DGQ-2的配方和复配技术；降低颗粒度的净化技术；降低有害杂质含量的提纯技术。该项目研制的新型超大规模集成电路清洗技术具有清洗成本低（约为常规清洗...
- 关键词：
- 关键词：集成电路清洗技术
- 一种水剂清洗剂组合物
- 本发明涉及半导体或金属、液晶的清洗方法,具体涉及电子工业用清洗剂。其组成为:5—10%脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠,10—20%壬基酚聚氧乙烯醚,10—15%椰子油酰二乙醇胺或烷基醇酰胺磷酸酯,1—10%乙二醇烷基醚,5—10...
- 李玉香于新好马洪磊
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- 氢氟酸在新型清洗工艺中的作用被引量：6
- 2002年
- 介绍了HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中对硅片表面的作用,无论是常规的酸碱清洗还是DGQ系列清洗剂的清洗,在没有HF稀溶液浸泡的情况下,1108波数处的吸收都是不同价态硅氧化物的复合吸收,用HF稀溶液浸泡后清洗的硅片,复合吸收变成仅有二氧化硅的吸收。
- 曹宝成于新好马洪磊张庆坤
- 关键词：硅片清洗氢氟酸润湿性
