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马延琴

作品数:11 被引量:27H指数:3
供职机构:西南科技大学理学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点实验室开放基金国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程文化科学更多>>

文献类型

  • 10篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 5篇理学
  • 4篇机械工程
  • 1篇文化科学

主题

  • 4篇光刻
  • 3篇掩模
  • 3篇无掩模
  • 2篇大学物理
  • 2篇无掩模光刻
  • 2篇灰度
  • 2篇光学
  • 1篇大学物理实验
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体激元
  • 1篇调制器
  • 1篇多媒体
  • 1篇多媒体教学
  • 1篇衍射
  • 1篇衍射理论
  • 1篇远场
  • 1篇阵列
  • 1篇数据处理
  • 1篇数字光刻
  • 1篇数字微镜

机构

  • 9篇四川大学
  • 4篇西南科技大学
  • 2篇中国科学院
  • 1篇陕西理工大学
  • 1篇西南民族大学

作者

  • 11篇马延琴
  • 8篇杜惊雷
  • 6篇陈铭勇
  • 4篇郭小伟
  • 2篇刘世杰
  • 2篇杜春雷
  • 1篇姚欣
  • 1篇徐敏
  • 1篇罗铂靓
  • 1篇段茜
  • 1篇郭永康
  • 1篇唐雄贵
  • 1篇廖旭
  • 1篇柳青
  • 1篇王景全

传媒

  • 2篇光子学报
  • 2篇光电工程
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇西南科技大学...
  • 1篇高教研究(西...
  • 1篇西南民族大学...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2009
  • 2篇2007
  • 4篇2006
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
大面积拼接光栅的远场衍射分析被引量:5
2007年
针对大面积光栅制作过程易出现的拼接偏差问题,基于标量衍射理论推导拼接光栅远场衍射的光强分布,计算分析几种常见拼接误差对拼接光栅性能的影响,以确定光栅拼接过程的误差容限.研究表明:拼接光栅的远场衍射光场随纵向和横向平移误差的变化呈周期性,且这两种平移误差带来的影响可相互补偿;而拼接光栅的旋转误差对远场衍射光场分布的影响较严重,当旋转误差增大到9.5875×10-5度时,衍射光场的峰值光强降为0.9,且两光栅各自峰值出现的方向成9.5875×10-5度.
马延琴杜惊雷陈铭勇
用灰度曝光技术改善数字光刻图形轮廓被引量:3
2006年
基于空间光调制器(SLM)数字光刻技术可用于IC掩模制作或直接作为微结构的加工工具,但用数字投影光刻系统加工某些结构的二元图形时,往往难以获得预期的图形轮廓,即图形边缘处有一定畸变,特别是较低缩小倍率时。本文提出优化设计图形边缘灰度的方法来校正光刻图形的畸变。文中分析了数字光刻制作这些二元光刻图形时空间像畸变产生的物理机制,详细讨论了设计图形边缘灰度优化的规则,并以加工圆孔滤波器为例,模拟了它的数字光刻成像过程。结果表明,设计图形的边缘采用灰度曝光可使其空间像畸变减小约8个百分点,光场分布更为均匀。数字灰度曝光技术简单易行,可为改善光刻图形质量提供了新途径。
郭小伟杜惊雷陈铭勇马延琴杜春雷
关键词:图形发生器数字微镜
基于Matlab的最小二乘曲线拟合在大学物理实验中的应用被引量:3
2010年
将Matlab语言实现数据最小二乘处理的方法应用于大学物理实验,避免了传统实验数据处理方法的弊端,增加了数据处理的准确性及快捷性,Matlab的可视化功能也可以更加直观地反映实验结果,在实际教学中取得了良好的教学效果.
徐敏柳青马延琴
关键词:MATLAB最小二乘法数据处理
用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓被引量:3
2006年
考虑厚胶曝光过程中非线性因素的影响及其显影特点,用一套随抗蚀剂厚度发生变化的曝光参数改进的Dill曝光模型,仿真厚层抗蚀剂光刻过程,并比较新曝光模型与原有Dill模型模拟的结果差异。模拟显示,用新曝光模型获得的厚抗蚀剂显影轮廓与实验结果吻合较好;并对厚胶光刻成像机理进行了讨论。通过分析正性厚层抗蚀剂AZ4562的显影轮廓,给出其显影线宽及边墙陡度随显影时间的变化规律,提出应以获得最大边墙陡度作为优化显影时间的思想。对厚度5μm和15μm的抗蚀剂,经计算,可获得良好的抗蚀剂浮雕轮廓的优化显影时间分别为98s和208s。
段茜姚欣陈铭勇马延琴刘世杰唐雄贵杜惊雷
数字灰度光刻成像物镜设计被引量:1
2009年
为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工制造成本等因素,设计了一种能够有效消除数字灰度光刻成像栅格效应的光刻物镜.此光刻物镜技术指标为,数值孔径NA=0.3,工作波长λ=442nm,倍率10×,分辨率R≤1.2μm,焦深4μm,且镜片数量少,光学加工、光学校装公差要求低.结果表明,该镜头完全满足数字灰度光刻高质量成像的需要.
陈铭勇杜惊雷郭小伟马延琴王景全
关键词:无掩模光刻光刻物镜光学设计
基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术研究进展
2012年
随着器件特征尺寸的不断减小,传统光刻技术的加工分辨率受限于衍射极限已接近使用化技术的理论极限且成本过高。无掩模光刻技术是解决掩模价格不断攀升而引起成本过高的一种潜在方案,以成本低、灵活性高、制作周期短的特点在微纳加工、掩模直写、小批量集成电路的制作等方面有着广泛的应用。基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术在提高分辨率和产出率方面取得了一定的进展,理论和实验上均取得了较好的效果。详细归纳介绍了基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术的原理、特点以及研究进展。
马延琴杜惊雷
关键词:光学制造空间光调制器表面等离子体激元
用DMD灰度曝光法产生连续面形微结构被引量:4
2006年
利用空间光调制器光强的精确调制作用,把数字微反射镜阵列(DMD)作为灰度图形发生器,经一次曝光及优化显影等后处理过程,可制作出具有连续面形的微光学元件。用上述方法在实验上获得了微透镜阵列,并有较好的连续面形,符合预期效果。研究表明,该方法不仅可快速地实现连续面形微结构的加工,而且大大简化了制作工艺,有助于降低微光学元件的加工成本,适合于微结构的研究性制作或小批量生产,有广泛应用潜力。
陈铭勇郭小伟马延琴杜惊雷
关键词:无掩模光刻微透镜阵列
大面积光栅的拼接理论研究
近年来,许多大型光学工程都迫切需求大面积光栅,如对解决世界能源危机有重要意义的激光惯性约束核聚变(ICF:Inertial Confinement Fusion)系统而言,能否获取米量级的光栅己成为影响其成败的关键之一。...
马延琴
关键词:标量衍射理论
文献传递
大面积拼接光栅的误差理论研究被引量:1
2011年
基于标量衍射理论,建立了分析光栅拼接误差的理论模型。计算了拼接过程中的垂直角偏、母线偏转两种旋转误差对光栅远场的影响,得到了解析表达式。数值分析了旋转误差及旋转误差与平移误差同时存在时的远场分布,结果表明不同误差存在时远场分布不同,旋转误差对远场分布影响较大,母线偏转与平移误差之间存在一定的补偿性,若使光栅达到良好拼接,旋转误差必须控制在微弧度级以下。
马延琴杜惊雷
板书版画与现代多媒体教学的整合探索被引量:5
2010年
现代多媒体技术在大学物理课堂教学中的应用,提高了课堂教学的现代化水平,使教学内容更加丰富多彩,也给课堂教学带来了新形式,与传统板书版画为主的课堂教学比较各有千秋。将板书版画与现代多媒体技术有机结合起来,发挥各自优势,一定能扬长避短,极大的提高课堂教学质量。
马延琴廖旭
关键词:大学物理多媒体教学
共2页<12>
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