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陶明德
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79
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H指数:13
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中国科学院新疆理化技术研究所
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韩英
中国科学院新疆物理研究所
宋世庚
中国科学院新疆物理研究所
谭辉
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康雪雅
中国科学院新疆理化技术研究所
丛秀云
新疆电子信息材料与器件重点实验...
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1篇
1988
2篇
1986
1篇
1985
共
79
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掺La(OH)<,3>多孔硅的感湿特性研究
报道了多孔硅的制备方法及形成条件,并对掺La(OH)〈,3〉多孔硅的感湿特性进行了实验研究。结果表明掺La(OH)〈,3〉多孔硅的交流阻抗随环境湿度的增大而减小,呈近似线性规律,敏感度变化很小。掺La(OH)〈,3〉多孔...
涂楚敏
贾振红
陶明德
关键词:
多孔硅
交流阻抗
252-A1型高精度、高稳定性NTC热敏电阻
王疆英
王学燕
陶明德
韩英
该成果是通过改性共沉淀工艺方法制备氧化物纳米粉体,利用等静压成型,高温烧结,切片,上电极,划片及焊接封装等工艺获得高精度、高稳定性热敏电阻。该热敏电阻是作为溶解氧测定仪的自动温度补偿元件和测温传感器,通过对流过热敏电阻的...
关键词:
关键词:
热敏电阻
测温传感器
NiMn_2O_4热敏材料纳米粉体烧结过程研究
被引量:3
1999年
本文采用溶胶-凝胶法(sol-gel)制备NiMn2O4纳米粉体。将NiMn2O4纳米粉体压制成型,进行烧结。对NiMn2O4纳米粉体烧结过程进行研究。实验结果表明:NiMn2O4纳米粉体的烧结温度比传统烧结方法低200℃左右。在1100℃以下的温度范围,烧结试样的相结构均为尖晶石结构。NiMn2O4纳米粉体烧结过程分为三个过程:(1)烧结前期(≤800℃);(2)烧结初中期(800℃~1000℃);(3)烧结后期(1000℃~1100℃)。在纳米粉体烧结过程中,晶粒生长不同于传统烧结过程。
王疆瑛
陶明德
陈朝阳
关键词:
纳米粉体
显微结构
热敏材料
溶胶-凝胶法制备TiO_2/Pt/glass纳米薄膜及其光电催化性能
被引量:18
1997年
本文采用Sol-gel法制备了TiO2/Pt/glas纳米光催化薄膜,并进行了结构和光电催化性能的测试。薄膜对染料溶液的光电催化降解结果表明:当输入正向偏压后,TiO2/Pt/glas薄膜的光催化性能有一定提高,且随着偏压增大而增强。同时,薄膜的中间层Pt及光源强度对薄膜的光电催化活性也有较大影响。
符小荣
张校刚
宋世庚
王学燕
王学燕
关键词:
光电化学
溶胶-凝胶
ZnO压敏陶瓷的微波烧结
被引量:17
1998年
对用纳米粉体制备的ZnO压敏生坯进行了微波烧结,通过XRD、SEM分析和电性能测试,与普通烧结比较,微波烧结可使ZnO压敏材料快速成瓷,显著缩短烧结时间;在相同晶粒尺寸下,微波烧结温度更低,瓷体更致密;并能获得较好电性能.微波烧结为ZnO压敏陶瓷材料制备提供了一条新的、高效节能的途径.
康雪雅
常爱民
韩英
王天雕
陶明德
涂铭旌
关键词:
微波烧结
压敏陶瓷
显微结构
电性能
氧化锌陶瓷
BaTiO_3薄膜的Sol-gel法制备及其介电特性研究
被引量:4
2000年
以钛酸四丁酯和乙酸钡为主要原料 ,以乙二醇独甲醚为溶剂 ,采用溶胶凝胶法成功地配制出了BaTiO3 溶胶 ,溶胶清晰稳定 ,保存时间长。并用XRD分析了沉积在Si(1 0 0 )低阻硅片上的薄膜的结构 ,发现薄膜在 60 0℃时结晶状态已良好。文中同时对薄膜的介电性质进行研究 ,并讨论了退火温度对薄膜介电性质的影响。
沈良
宋世庚
贾锐
陶明德
关键词:
溶胶-凝胶法
介电性质
溶胶凝胶法制备的Mn系氧化物热敏薄膜的尺寸效应
被引量:1
1995年
本文阐述了用溶胶凝胶法制备CoMnCuO等热敏薄膜的方法,研究了它们的电学性质。结果表明,薄膜的R-T特性基本符合R=R_oexp(B/T)关系。在本文样品厚度的范围内,厚度对电阻率(ρ_f)和材料常数(B)有较大的影响。利用扩展电阻仪分析了电阻率随深度的变化,用俄歇电子能谱分析了组分随深度的变化,在此基础上对尺寸效应作出了相应的解释。
宋世庚
康健
李芳孝
王学燕
谭辉
陶明德
关键词:
尺寸效应
溶胶凝胶法
锰
氧化物半导体
CoMnNiO非晶薄膜的热激电导
被引量:1
1990年
本文主要讨论CoMnNiO非晶薄膜的热激电导机制。
陶明德
谭辉
韩英
关键词:
非晶薄膜
温度
Mg-Mn-Fe-O系热敏电阻变B值特性的研究
被引量:7
1996年
Mg-Mn-Fe-O系热敏电阻经还原处理后,具有低B高阻电学特性,不同于一般的NTC热敏电阻,其B值随温度增加呈较大幅度的连续性增加。研究了还原条件、材料组分及烧结温度对样品电特性的影响。
陆峰
程家骐
李风翔
陶明德
关键词:
NTC
热敏电阻
Au和Ni掺杂n型硅材料的制备及其热敏特性
被引量:1
2009年
为了制备高B低阻的硅单晶热敏材料,采用开管涂源的方法,对n型单晶硅进行Au、Ni两种过渡族金属的双重高温掺杂,得到对温度敏感的补偿硅材料,并对其进行测试和分析。掺杂后得到的硅单晶热敏材料,其导电类型仍为n型,且电阻率较低,为欠补偿,测试结果表明其常温电阻率ρ25=64~416Ω·cm,温度敏感系数(B值)在5300K左右;根据半导体中深能级杂质理论推导计算得到的材料的B值,与实验值基本一致。
董茂进
陈朝阳
范艳伟
丛秀云
王军华
陶明德
关键词:
深能级杂质
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