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许振杰
作品数:
50
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供职机构:
清华大学
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相关领域:
电子电信
金属学及工艺
交通运输工程
建筑科学
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合作作者
路新春
清华大学
何永勇
清华大学
沈攀
清华大学
王同庆
清华大学
裴召辉
清华大学
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许振杰
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晶圆支撑装置
本实用新型公开了一种晶圆支撑装置,晶圆支撑装置包括:基板;柔性组件,所述柔性组件为多个且连接在所述基板上;晶圆支撑件,所述晶圆支撑件连接在多个所述柔性组件上。在机械手取放晶圆时,柔性组件在感受到压力后可以变形,从而可以缓...
王国栋
许振杰
王同庆
李昆
路新春
文献传递
修整器进气系统以及抛光机
本发明公开了一种修整器进气系统以及抛光机,修整器进气系统包括:真空源;与真空源相连的真空管路;压缩空气源;与压缩空气源相连的压缩空气管路;压缩空气控制阀,压缩空气控制阀用于调节压缩空气管路输出的压缩空气压力;修整器,修整...
庞伶伶
许振杰
沈攀
王同庆
李昆
路新春
文献传递
风压误报警消除装置
本实用新型公开了一种风压误报警消除装置,风压误报警消除装置包括:工作腔室;风管,风管的一端与工作腔室连通且另一端与风管厂务端连通;压力检测装置,与工作腔室连通以检测工作腔室内的压力,压力检测装置包括:传感器压力表,用于检...
许振杰
姚宇
贾弘源
董兵超
崔凯
尹士龙
王同庆
路新春
文献传递
一种压力控制装置和化学机械抛光装置
本发明涉及化学机械抛光技术领域,公开了一种压力控制装置和化学机械抛光装置。压力控制装置包括压力控制模块和第一压力传感器,压力控制模块中集成有正压控制单元和负压控制单元;正压控制单元的输入端连接正压供给源,负压控制单元的输...
许振杰
王春龙
赵德文
文献传递
用于清洗修整器的防溅射装置
本发明公开了一种用于清洗修整器的防溅射装置,所述修整器包括摆臂和设在所述摆臂上的修整头,所述防溅射装置包括环形的防溅射挡板,所述防溅射挡板内具有容纳腔,所述容纳腔的上端和下端均敞开,所述防溅射挡板上设有排液口,其中所述防...
路新春
许振杰
沈攀
晶圆的处理装置及处理方法、化学机械抛光系统
本发明公开了一种晶圆的处理装置及处理方法、化学机械抛光系统。晶圆的处理装置包括:驱动组件以及处理组件,所述驱动组件带动所述晶圆旋转的同时所述处理组件绕垂直于所述晶圆表面的轴线摆动以向所述晶圆表面喷射流体。根据本发明实施例...
许振杰
王剑
贾弘源
王同庆
赵德文
李俊俊
路新春
文献传递
抛光液挡板
本实用新型公开了一种抛光液挡板,所述抛光液挡板包括:本体,所述本体为环形,所述本体上间隔开地设有多个容纳槽,其中每个所述容纳槽沿竖直方向延伸且下端敞开。根据本实用新型的抛光液挡板通过设置多个沿竖直方向延伸的所述容纳槽,从...
路新春
许振杰
文献传递
晶圆夹持装置
本发明公开了一种晶圆夹持装置,晶圆夹持装置包括:第一夹持件,所述第一夹持件具有第一夹持端和第一活动端;第二夹持件,所述第二夹持件具有第二夹持端和第二活动端;驱动件,所述驱动件设置成同步驱动所述第一活动端和所述第二活动端相...
王剑
许振杰
王同庆
李昆
路新春
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化学机械抛光系统及晶圆的后处理单元
本实用新型公开了一种化学机械抛光系统及晶圆的后处理单元。晶圆的后处理单元,包括:清洗模块,所述清洗模块包括驱动组件以及清洗组件,所述驱动组件带动所述晶圆旋转的同时所述清洗组件绕垂直于所述晶圆表面的轴线摆动以向所述晶圆表面...
许振杰
王剑
王同庆
赵德文
沈攀
路新春
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化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备
本发明公开一种化学机械抛光机,包括:工作平台,抛光盘,修整器和抛光液输送装置,装卸平台,抛光头,机械手,和抛光头支架,所述抛光头支架安装在工作平台上表面上且包括水平基板和支撑侧板,所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹...
路新春
许振杰
何永勇
王同庆
沈攀
赵德文
梅赫赓
张连清
裴召辉
雒建斌
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