您的位置: 专家智库 > >

王敬

作品数:5 被引量:6H指数:2
供职机构:有色金属研究总院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 2篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 3篇原位
  • 3篇光谱
  • 3篇光谱研究
  • 2篇水溶
  • 2篇水溶液
  • 2篇硅表面
  • 2篇NH
  • 2篇OH
  • 1篇涂层
  • 1篇喷涂
  • 1篇氢氟酸
  • 1篇响应面
  • 1篇响应面法
  • 1篇响应面法优化
  • 1篇金属
  • 1篇金属涂层
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体生长
  • 1篇控制参数
  • 1篇拉曼

机构

  • 5篇有色金属研究...
  • 1篇北京工业大学

作者

  • 5篇王敬
  • 3篇屠海令
  • 3篇张椿
  • 3篇周旗钢
  • 3篇朱悟新
  • 3篇刘安生
  • 1篇隋允康
  • 1篇周贻茹
  • 1篇宇慧平
  • 1篇王晓华
  • 1篇邵贝羚
  • 1篇安国平
  • 1篇刘安生

传媒

  • 1篇光散射学报
  • 1篇电子显微学报
  • 1篇第十一届全国...
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 1篇2005
  • 3篇1999
  • 1篇1996
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
超音速喷涂Ni/Cu界面结构研究被引量:4
1996年
超音速喷涂Ni/Cu界面结构研究*邵贝羚刘安生王晓华邹琳瑛王敬张建国施昌勇周贻茹(有色金属研究总院,北京100088)超音速火焰喷涂(HVOF)技术在制备高性能金属陶瓷涂层方面已成为不可替代的先进技术。同时,HVOF金属涂层的研究也开始受到关注。其耐...
邵贝羚刘安生王晓华邹琳瑛王敬张建国施昌勇周贻茹
关键词:金属涂层HVOF
NH<,4>OH\H<,2>O<,2>水溶液中硅表面的原位曼光谱研究
该文用共焦喇曼系统原位观察了Si(100)表面在NH〈,4〉OH/H〈,2〉O〈,2〉/H〈,2〉O(SC-1)溶液中的变化过程。研究表明:在硅片浸入SC-1溶液的过程中,其表面逐浙被两种氧化物所覆盖,一种是由于NH〈,...
王敬屠海令朱悟新周旗钢刘安生张椿
关键词:硅表面
文献传递网络资源链接
稀氢氟酸中硅表面氢终端的原位拉曼光谱研究被引量:2
1999年
本文用共焦显微拉曼系统原位观察了Si(100)表面氢终端原子在稀氢氟酸中的变化过程。研究表明:在硅片浸入氢氟酸溶液的初期,表面主要被硅和三个氢原子的结合体(SiH3)以及硅和两个氢原子的结合体(SiH2)所覆盖。随着腐蚀过程的延长,SiH3越来越少,SiH2的信号不断增强,并且,硅和单个氢原子的结合体(SiH)的信号也开始出现。最终,硅表面主要被SiH2所覆盖,有少量SiH3和SiH键。本文还表明。
王敬屠海令朱悟新周旗钢刘安生张椿
关键词:原位拉曼光谱氢氟酸
采用响应面法优化MCZ晶体生长的控制参数
<正> 响应面法(response surface method,RSM)是利用统计学的综合试验技术解决复杂系统的输入与输出转换关系的方法。当(数值)试验结果与设计变量间的函数关系非常复杂不能用显式函数表示时,通过响应面...
宇慧平隋允康王敬戴小林安国平
文献传递
NH<,4>OH\H<,2>O<,2>水溶液中硅表面的原位曼光谱研究
用共焦喇曼系统原位观察了Si(100)表面在NH〈,4〉OH/H〈,2〉O〈,2〉/H〈,2〉O(SC-1)溶液中的变化过程。研究表明:在硅片浸入SC-1溶液的过程中,其表面逐浙被两种氧化物所覆盖,一种是由于NH〈,4〉...
王敬屠海令朱悟新周旗钢刘安生张椿
关键词:硅表面
共1页<1>
聚类工具0