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王向展

作品数:138 被引量:116H指数:7
供职机构:电子科技大学更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金广东省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术电气工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 92篇专利
  • 38篇期刊文章
  • 6篇会议论文
  • 2篇学位论文

领域

  • 63篇电子电信
  • 6篇自动化与计算...
  • 3篇电气工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇核科学技术
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 25篇半导体
  • 22篇电路
  • 16篇栅氧化
  • 14篇氧化层
  • 14篇栅氧化层
  • 14篇沟道
  • 13篇电流
  • 12篇晶体管
  • 12篇半导体技术
  • 11篇集成电路
  • 10篇应力
  • 10篇锗硅
  • 10篇放大器
  • 10篇本征
  • 9篇基板
  • 9篇CMOS
  • 8篇氮化硅
  • 8篇氧化物半导体
  • 8篇重掺杂
  • 8篇金属氧化物半...

机构

  • 138篇电子科技大学
  • 1篇西南科技大学
  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇微电子有限公...

作者

  • 138篇王向展
  • 71篇于奇
  • 29篇李竞春
  • 25篇宁宁
  • 23篇罗谦
  • 22篇杨谟华
  • 18篇曾庆平
  • 15篇刘斌
  • 13篇曹建强
  • 12篇杨洪东
  • 11篇黄建国
  • 10篇甘程
  • 10篇刘洋
  • 8篇张易
  • 8篇秦桂霞
  • 8篇吴强
  • 8篇王微
  • 7篇欧文
  • 7篇夏琪
  • 6篇尤焕成

传媒

  • 18篇微电子学
  • 3篇今日电子
  • 3篇半导体光电
  • 2篇电子与信息学...
  • 2篇Journa...
  • 2篇电子科技大学...
  • 1篇物理学报
  • 1篇电子学报
  • 1篇材料导报
  • 1篇国外电子测量...
  • 1篇传感技术学报
  • 1篇电子元件与材...
  • 1篇电子元器件应...
  • 1篇教育教学论坛
  • 1篇2009四川...
  • 1篇第十四届全国...
  • 1篇第十五届全国...
  • 1篇第八届全国可...

年份

  • 2篇2023
  • 5篇2021
  • 7篇2020
  • 6篇2019
  • 10篇2018
  • 9篇2017
  • 12篇2016
  • 6篇2015
  • 10篇2014
  • 13篇2013
  • 9篇2012
  • 14篇2011
  • 5篇2010
  • 2篇2009
  • 4篇2008
  • 3篇2007
  • 14篇2006
  • 2篇2005
  • 3篇2003
  • 2篇1999
138 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
MOSFET热载流子退化/寿命模型参数提取
MOSFET热载流子可靠性物理,并结合电应力条件下热载流子退化特征量ΔI<,ds>/I<,ds0>、I<,sub>等实测数据的拟合处理,本文发展了可表征退化物理意义的衬底电流与退化/寿命参数提取模型;进而由自动测试ATE...
于奇王向展陈勇刘玉奎肖兵杨沛锋方朋杨谟华谭超元
一种基于吸水树脂的物理自毁器件封装结构
本发明公开了一种基于吸水树脂的物理自毁器件封装结构,该器件封装结构包括:陶瓷封装管壳、涤纶网纱、吸水树脂、带尖角的硬金属薄层、氧化铝陶瓷基板和芯片。所述的带尖角的硬金属薄层的硬度比氧化铝陶瓷基板的硬度大,同时有韧性、不易...
王向展夏好松
文献传递
电流舵型DAC毛刺理论及改进设计
本文分析了高速电流舵型数模转换器中毛刺产生的原因,提出这样一个理论:开关对的栅信号转换速度不一致是产生毛刺的主要原因.并基于这一理论解释了输出的三个现象,做了三方面的改进,大幅减小了毛刺,减小了建立时间,改善了动态参数....
刘卫平杨谟华王向展宁宁兰中文
关键词:数模转换寄生电容电路设计
文献传递
两倍增益10位100 MSPS CMOS采样/保持电路被引量:1
2006年
提出了一种两倍增益高线性、高速、高精度采样/保持电路。该采样/保持电路通过对输入信号实现两倍放大,改善了高频非线性失真;一种新型的消除衬底偏置效应的采样开关,有效地提高了采样的线性度;高增益和宽带宽的折叠共源共栅运算放大器保证了采样/保持电路的精度和速度。整个电路以0.35μm AMS Si CMOS模型库验证。模拟结果显示,在输入信号为49.21875MHz正弦波,采样频率为100 MHz时,增益误差为70.9μV,SFDR可达到84.5 dB。
王浩娟吴霜毅宁宁于奇王向展范龙
关键词:非线性
开态电流增强的纵向隧穿场效应晶体管
本发明涉及小尺寸隧穿场效应晶体管技术。本发明解决了现有TFET器件性能不佳的问题,提供了一种开态电流增强的纵向隧穿场效应晶体管,其技术方案可概括为:开态电流增强的纵向隧穿场效应晶体管,与现有技术的区别在于在源区与埋氧层之...
王向展陆世丁曹雷李竞春于奇
纵向环栅非均匀掺杂锗硅沟道CMOS器件
本发明提供的一种纵向环栅非均匀掺杂锗硅沟道CMOS器件,其特征是它包括:n-SiGe隔离层10、渐变n<Sup>+</Sup>→n<Sup>-</Sup>掺杂SiGe层11、δ型分布p<Sup>+</Sup>掺杂SiGe...
于奇杨洪东王向展李竞春杨谟华
文献传递
一种MOS晶体管局部应力的引入技术
一种MOS晶体管局部应力的引入技术,属于半导体器件领域,尤其涉及关于在MOS晶体管栅极下面的沟道区引入局部应力的新技术。它的特征是先将在侧墙形成工艺步骤之后的MOS器件的栅极和侧墙用氮化硅薄膜覆盖,然后在MOS器件的源漏...
王向展秦桂霞罗谦王微李竞春
文献传递
HRXRD研究SiN盖帽层在Si中引入的应变
2010年
为了研究SiN盖帽层在Si中引入应变的机理与控制,利用高分辨X射线衍射(HRXRD)技术分析了Si中应变的各向异性以及与盖帽层厚度的关系。研究发现,盖帽层厚度低于300nm时,应变量与厚度呈近线性关系,随后增加趋缓,最终达到一饱和值;同时,应变在不同晶向表现出明显的各向异性,表层应变Si与未应变Si衬底在(004)晶面上的衍射峰重叠在一起,而(111)晶面的2个衍射峰可明显地被分离,且倾角对Si衬底衍射峰半高宽具有明显的展宽。
杨洪东于奇王向展李竞春罗谦姬洪
关键词:氮化硅
一种具有表面应力调制结构的应变NMOSFET器件
本发明涉及半导体技术,具体为一种具有表面应力调制结构的应变NMOSFET器件。本发明通过两个绝缘介质层分别紧靠设置于源区和漏区外侧表面,并且位于浅槽隔离区的正上方,在栅两侧到绝缘介质层之间的源区和漏区上方区域分别形成两个...
罗谦孟思远檀长桂王向展于奇
新型分段多分搜索算法高速A/D转换方案被引量:1
2008年
针对比较器、子DAC和残差放大器单元对高速ADC面积与功耗的制约,从基准区间搜索过程入手,提出了分段多分搜索算法和基于该算法的新型模数A/D转换方案,从而实现了速度与功耗的优化。并采用SMIC0.35μmCMOS工艺模型实验设计了芯片面积仅为1.0mm×0.8mm的8位250MSPsADC。模拟验证表明,其功耗仅85mW,无杂散动态范围达64.92dB,INL和DNL均小于±0.5LSB。
王向展宁宁于奇
关键词:高速ADC低功耗
共14页<12345678910>
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