您的位置： 专家智库 > >

王佳

作品数：17 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 17篇中文专利

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 6篇微电子
  • 4篇电极
  • 4篇绝缘
  • 3篇真空室
  • 3篇启辉
  • 3篇微电子技术
  • 2篇电池
  • 2篇电感线圈
  • 2篇电气绝缘
  • 2篇淀积
  • 2篇定位装置
  • 2篇动部件
  • 2篇圆筒形
  • 2篇约瑟夫森结
  • 2篇上段
  • 2篇束线
  • 2篇太阳电池
  • 2篇太阳能
  • 2篇太阳能电池
  • 2篇图形化

机构

  • 17篇中国科学院微...
  • 4篇北京泰龙电子...

作者

  • 17篇王佳
  • 7篇刘训春
  • 6篇周宗义
  • 6篇李兵
  • 4篇李俊峰
  • 4篇张永利
  • 4篇张育胜
  • 3篇李楠
  • 3篇夏洋
  • 3篇席峰
  • 2篇王桂磊
  • 2篇刘金彪
  • 2篇汪明刚
  • 2篇王建海
  • 2篇黄清华
  • 2篇杨涛
  • 2篇贺晓彬
  • 2篇罗军
  • 2篇刘青
  • 2篇高建峰

年份

  • 2篇2022
  • 1篇2021
  • 1篇2020
  • 1篇2016
  • 2篇2015
  • 3篇2013
  • 1篇2012
  • 3篇2010
  • 3篇2009
共 17 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
一种射频阻抗自动匹配装置及方法
本发明公开了一种射频阻抗自动匹配装置及方法，属于微电子技术领域。所述装置包括：第一及第二真空电容检测机构、第一及第二信号变送器、功率计和单片机。第一、第二真空电容检测机构的输出端分别与第一信号变送器电连接，功率计与第二信...
王佳刘训春
文献传递
一种真空腔内转动部件的定位装置
本发明公开了一种真空腔内转动部件的定位装置，属于微电子技术领域。所述装置包括：激光反射装置、密封部件、腔体外玻璃密封件和密封框架；激光反射装置位于反应室内，并与密封框架的顶端通过螺纹连接；密封框架由下向上装入反应室，并通...
王佳刘训春席峰夏洋
文献传递
一种离子注入装置
本申请公开了一种离子注入装置，属于半导体处理技术和设备领域，解决了现有技术中束线离子注入技术保型性差以及等离子掺杂技术易引入杂质、掺杂源受限的问题。本申请的离子注入装置，沿离子的运动方向，包括依次设置的起弧室和离子注入单...
刘金彪王桂磊王佳刘青李俊峰
文献传递
平板式等离子体增强化学汽相淀积设备的反应室结构
本发明一种平板式等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)设备的反应室结构，涉及微电子技术，是由内真空室与外腔室嵌套组成；内真空室上段的顶壁由具有伸缩功能的波纹管与外腔室连接；内真空室上段的顶壁外侧通过螺杆与外腔室顶面的堵转...
刘训春周宗义李兵张育胜王佳张永利
文献传递
一种激光检测装置
本发明涉及真空等离子体设备技术领域，具体涉及一种应用于真空等离子体设备的激光检测装置。所述激光检测装置，包括激光器筒体和设置在所述激光器筒体下方的激光器，所述激光器筒体下端设有透光玻璃；所述激光检测装置设置在真空室下部。...
席峰王佳刘训春李勇滔李楠张庆钊夏洋
文献传递
一种电极引入结构
本发明涉及等离子体工艺设备技术领域，具体涉及一种电极引入结构。所述电极引入结构，用于等离子体工艺设备，包括电极及包裹电极的绝缘防护结构，绝缘防护结构包括圆筒形的第一绝缘套和设置在第一绝缘套下方的圆筒形的第二绝缘套，第二绝...
席峰王佳李楠汪明刚夏洋
文献传递
平板式等离子体增强化学汽相淀积设备的反应室结构
本发明一种平板式等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)设备的反应室结构，涉及微电子技术，是由内真空室与外腔室嵌套组成；内真空室上段的顶壁由具有伸缩功能的波纹管与外腔室连接；内真空室上段的顶壁外侧通过螺杆与外腔室顶面的堵转...
刘训春周宗义李兵张育胜王佳张永利
文献传递
一种离子注入装置
本申请公开了一种离子注入装置，属于半导体处理技术和设备领域，解决了现有技术中束线离子注入技术保型性差以及等离子掺杂技术易引入杂质、掺杂源受限的问题。本申请的离子注入装置，沿离子的运动方向，包括依次设置的起弧室和离子注入单...
刘金彪王桂磊王佳刘青李俊峰
文献传递
一种太阳能电池刻边机反应室结构
本发明一种太阳能电池刻边机反应室结构，它的腔壁与太阳电池片形状相似，呈方形，四角处可呈切角状或弧形，并作为产生辉光放电的射频供电的一个电极接地，腔室中间有一个金属电极接射频输出，该金属射频电极上放置有一结构特殊的载片架。...
刘训春周宗义李兵王佳张育胜张永利
文献传递
一种消除反应离子刻蚀自偏压的方法及系统
本发明公开了一种消除反应离子刻蚀自偏压的方法及系统，属于半导体加工制造领域。所述方法是：在反应离子刻蚀的反应室的两个电极间并联一个由电感线圈L和电容C组成的LC谐振回路，LC谐振回路的谐振频率与反应离子刻蚀的反应室的射频...
刘训春王佳周宗义李兵王建海黄清华
文献传递
全选 清除 导出
共2页<12>
聚类工具0