王丽春
- 作品数：7 被引量：4H指数：2
- 供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺电子电信更多>>
- 热丝法低温制备多晶硅薄膜微结构的研究被引量：2
- 2007年
- 采用热丝化学气相沉积法（HFCVD）在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜。利用XRD、拉曼光谱和原子力显微镜（AFM）研究了灯丝与衬底间距（5～10mm），灯丝温度（1800～1400℃）和衬底温度（320—205℃）对薄膜晶体取向、晶化率、晶粒尺寸以及形貌的影响规律。结果表明，随着热丝与衬底间距增加，多晶硅薄膜的晶化率和晶粒尺寸明显减小；随热丝温度的降低，薄膜的晶化率都出现了大致相同的规律：先不断增大后突然大幅减小。
- 王丽春张贵锋侯晓多姜辛
- 关键词：热丝化学气相沉积多晶硅薄膜晶化率晶体形貌
- 强流脉冲电子束模具钢SKD11表面改性处理
- 本文利用强流脉冲电子束对模具钢SKD11进行表面改性处理,分析样品表层形貌、成分分布变化,测试处理表面的摩擦学性能。研究表明,处理样品表面产生熔坑现象,熔坑的分布情况与入射束处理参数密切相关,熔坑数量随轰击脉冲次数增加迅...
- 郝胜智吴平生张向东李仁峰王丽春姜利民董闯
- 文献传递
- 镀铜玻璃衬底上柱状多晶硅薄膜的制备被引量：2
- 2009年
- 采用热丝化学气相沉积方法在镀铜玻璃衬底上制备了柱状多晶硅薄膜。使用XRD、Raman光谱、扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）等测试手段研究了灯丝与衬底间距（5～10mm）、灯丝温度（1800～1500℃）以及对应的衬底温度（在320～200℃变化）对多晶硅薄膜的微观形貌、结晶性及晶体学生长方向的影响规律。研究结果表明：在镀铜玻璃衬底上金属诱导生长的多晶硅薄膜具有较高的晶化率，较低的晶化温度，同时铜过渡层影响多晶硅薄膜的晶体学生长方向。
- 王丽春张贵锋侯晓多姜辛
- 关键词：多晶硅薄膜晶化率
- 强流脉冲电子束表面处理对不锈钢316L耐蚀性能的影响
- 本文利用“Nadezhda-2”型强流脉冲电子束装置,以奥氏体不锈钢316L为实验材料,分别通过金相显微镜、XRD、电子探针及电化学腐蚀仪等手段对处理后的样品进行组织分析和性能测试。结果表明,处理材料表层微晶粒尺寸明显细...
- 姜利民郝胜智王丽春吴平生李仁峰董闯
- 文献传递
- 强流脉冲电子束表面处理对不锈钢316L耐蚀性能的影响
- 利用“Nadezhda-2”型强流脉冲电子束装置,以奥氏体不锈钢316L为实验材料,分别通过金相显微镜、X射线衍射、电子探针及电化学腐蚀仪等手段对处理后的样品进行组织分析和性能测试。结果表明,处理材料表层微晶粒尺寸明显细...
- 郝胜智姜利民张向东王丽春吴平生李仁峰董闯
- 关键词：强流脉冲电子束表面处理微结构
- 文献传递
- 金属Cu诱导层对热丝法制备多晶硅薄膜微结构的影响
- 2009年
- 采用热丝化学气相沉积法(HWCVD),在金属铜诱导层上成功制备出横向晶粒尺寸在1μm左右、垂直晶粒尺寸达20μm的柱状多晶硅薄膜,其晶化率在95%以上。使用XRD、Raman光谱、扫描电子显微镜(SEM)等分析测试手段研究了灯丝温度在1500～1800℃之间变化时,金属铜诱导层对多晶硅薄膜的微观形貌、结晶性及晶体学生长方向的影响规律。结果表明:金属铜诱导层的引入,在一定温度范围内改善了晶粒尺寸,改变了多晶硅薄膜的择优取向,降低了薄膜的晶化温度,提高了晶化率。
- 王丽春张贵锋侯晓多姜辛
- 关键词：多晶硅薄膜热丝化学气相沉积微结构
- 过渡层对热丝法低温制备多晶硅薄膜的影响
- 采用热丝化学气相沉积(HWCVD)方法分别在镀Ag、镀Cu玻璃衬底上低温沉积出高质量多晶硅薄膜。使用XRD、Raman光谱、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)等测试手段研究了在不同灯丝/衬底间距(5～10m...
- 王丽春
- 关键词：多晶硅薄膜热丝化学气相沉积微结构晶体生长
- 文献传递
