王丽戈
- 作品数：11 被引量：66H指数：6
- 供职机构：西北核技术研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划陕西省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信核科学技术一般工业技术更多>>
- 粒子流特性对脉冲激光烧蚀淀积类金刚石薄膜的影响被引量：6
- 2000年
- 采用两种不同脉宽 ( 30ns,5 0 0fs)的KrF准分子激光淀积类金刚石薄膜 ,通过等离子体发射光谱和离子探针的测量 ,研究了激光等离子体成分、平均离子能量和通量等随激光能量密度、淀积距离的变化 ,对两种脉宽的激光等离子体淀积的薄膜结构和性能进行了比较 。
- 姚东升刘晶儒俞昌旋王丽戈詹如娟
- 关键词：类金刚石膜
- 脉冲准分子激光淀积薄膜的实验研究被引量：16
- 2002年
- 利用两种脉宽 (30ns,5 0 0fs)的KrF准分子激光展开了淀积类金刚石薄膜的实验研究 ,并且成功地制备了大面积不含氢成分的HF DLC薄膜 ,运用时空分辨的等离子体发射光谱诊断系统和离子探针系统研究了等离子体特性对薄膜性能的影响。尝试了利用准分子激光制备非晶硅薄膜 ,研究了实验参数对非晶硅薄膜制备的影响 。
- 刘晶儒白婷姚东升李铁军王丽戈袁孝王晟叶锡生
- 关键词：准分子激光脉冲激光淀积类金刚石薄膜非晶硅薄膜
- 准分子激光直接刻蚀单晶硅研究被引量：6
- 2000年
- 与传统的投影曝光微细加工方法相比 ,激光直写具有高柔性、低成本和胜任三维微型结构加工的优点。采用非稳腔的聚焦准分子激光 ( Kr F,λ=2 4 8nm)对单晶硅材料进行直接刻蚀 ,从微结构刻蚀的形状尺寸及加工过程的热效应等方面研究了准分子激光直接刻蚀单晶硅的加工特性。重点考察了加工中的热效应 ,研究表明准分子激光与被加工材料的相互作用并非完全基于非热机理 ,加工过程亦有热作用参与 ,进一步提出了准分子激光刻蚀加工的“热影响区”概念用以评价和解释准分子激光的“冷加工”特性。同时观察分析了脉冲激光对硅基底造成的破坏现象 ,讨论了冲击作用的成因。
- 马炳和苑伟政李铁军李晓莹王丽戈
- 关键词：准分子激光单晶硅热影响区
- 百焦耳级XeCl准分子激光辐照靶材的光学诊断被引量：2
- 1996年
- 在百焦耳级ＸｅＣｌ准分子激光器上，开展了强紫外激光辐照ＬＹ—１２铝靶和碳纤维靶的光学诊断实验。研究了靶面对激光的反射系数随入射激光功率密度的变化规律，获得了激光等离子体光谱及蒸汽羽积分图象等实验结果。
- 甘雨刚刘晶儒袁孝易爱平王龙华胡志云刘建胜李铁军王丽戈
- 关键词：等离子体光谱光学诊断
- 紫外虚共焦非稳腔的光学准直法被引量：2
- 1992年
- 本文给出了一套用He-Ne激光束辅助内调焦望远镜,对紫外虚共焦非稳腔进行光学准直的实验方法,并计算出该法的准直精度达6.9×10^(-5)rad。进行了在放电泵浦XeC1准分子激光器上应用该法准直非稳腔的实验,并给出了实验结果。
- 甘雨刚刘晶儒王丽戈
- 关键词：氦氖激光器
- XeCl激光触发气体开关的实验研究被引量：4
- 1993年
- 通过实验研究了在自流工作状态下,XeCl准分子激光(λ=308nm,FWHM=21ns)对N_2和SF_6两种气体开关的触发特性。实验结果表明:(1)在p=0.1MPa,开关工作电压90％V_(SB)(V_(SB)为开关的自击穿电压)时,XeCl激光对N_2和SF_6两种气体开关的触发阈值约为10~8W/cm^2。(2)开关的触发延时和抖动随着激光能量和开关欠压比的增大而减小,当激光能量为33.8mJ,开关工作电压90％V_(SB)(V(SB)=36.5kV)时,充N_2开关的延时和抖动分别为85.5ns和400ps。相同欠压比下,SF_6气体开关(V_(SB)=52kV)的最小抖动度为2ns。(3)SF_6气体开关的触发延时与用T.H.Martin公式计算的结果一致。
- 景春元邱爱慈王晓红刘晶儒王丽戈
- 关键词：激光触发开关开关触发特性
- 利用脉冲激基分子激光制备大尺寸类金刚石薄膜及其均匀性分析被引量：14
- 1999年
- 利用脉冲激光沉积结合计算机辅助衬底扫描技术制备了尺寸为７０ ×６６ｍ ｍ 、均匀性为±５ ％ 的类金刚石薄膜，薄膜显微硬度最高为２７ＧＰａ ，薄膜结合强度达到２００００ 转；在制备大尺寸薄膜的过程中，衬底扫描速度越慢，薄膜的均匀性越好；在应用传统清洗等方法的基础上，认为增大镀膜粒子的能量对于提高薄膜和衬底的结合强度是非常重要的－
- 李铁军刘晶儒王丽戈楼祺洪
- 关键词：类金刚石薄膜脉冲激光沉积
- 超短脉冲准分子激光淀积类金刚石薄膜的实验研究被引量：13
- 1999年
- 利用ＫｒＦ超短脉冲激光器（２４８ｎｍ，５００ｆｓ，１０ｍＪ）开展了超短脉冲激光淀积类金刚石薄膜的实验研究，薄膜生长速率０．０２ｎｍ／ｐｕｌｓｅ，厚度０．５～０．６μｍ，显微硬度５５ＧＰａ，光学透过率优于９０％（５８０～２０μｍ）。采用等离子体的时间－空间分辨的发射光谱技术，给出了等离子体的粒子成份以及等离子体的时间－空间的演化图像，以及在不同激光参数条件下等离子体特性的变化，发现超短脉冲激光的等离子体有能量高、持续时间短（高通量）的特点，适合类金刚石薄膜的淀积并有制备其他非晶态结构和纳米相薄膜材料的潜力。利用自行研制的离子探针原位诊断了在成膜条件下的粒子流的特性及其随激光参数等实验条件的变化，其结果与发射光谱非常自洽。比较了不同激光参数条件下，等离子体特性、粒子流特性及淀积类金刚石薄膜的结构和性能的变化，并对短脉冲激光和靶相互作用过程和激光等离子体淀积类金刚石成膜的机理进行了讨论，为进一步提高成膜质量走向实用化打下基础。
- 姚东升刘晶儒王丽戈李铁军李铁军詹如娟
- 关键词：超短脉冲类金刚石激光淀积
- XeCl(308nm)脉冲准分子激光淀积类金刚石薄膜被引量：10
- 1997年
- 利用ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）脉冲准分子激光淀积技术在功率密度５×１０８Ｗ／ｃｍ２、室温、真空度１０－３Ｐａ的条件下，制备出不含氢成分的类金刚石薄膜，研究了类金刚石薄膜的特性及其随制备工艺条件的变化规律。研究了激光诱导的碳等离子体发射光谱，探讨了类金刚石薄膜的形成机理。
- 李铁军刘晶儒王丽戈
- 关键词：类金刚石激光脉冲激光淀积
- 脉冲激光烧蚀法淀积非晶硅薄膜的实验研究
- 本文详细介绍了脉冲激光烧蚀法淀积非晶硅薄膜的实验技术,系统研究了主要工艺参数对薄膜制备及性能的影响,并由此得到了该种工艺制备α-Si薄膜的最佳成膜条件。通过激光拉曼散射、X射线衍射以及光谱计算等对薄膜性能的分析和测试显示...
- 白婷刘晶儒姚东升韦成华王丽戈袁孝
- 关键词：KRF准分子激光脉冲激光烧蚀
- 文献传递
