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洪海燕

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：无锡微电子科研中心更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇离子注入
  • 1篇工艺技术
  • 1篇光刻
  • 1篇硅

机构

  • 1篇无锡微电子科...

作者

  • 1篇王明善
  • 1篇郑宜钧
  • 1篇洪海燕
  • 1篇贾永华

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 1篇2001
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
一种新的深硅槽工艺技术被引量：2
2001年
提出采用离子注入方法提高主掩膜光刻胶的耐干法腐蚀和腐蚀窗口磋的腐蚀速率，实现了在比较简陋的干法腐蚀设备上采用反应离子腐蚀模式进行深／浅硅槽工艺。
郑宜钧王明善贾永华洪海燕
关键词：离子注入光刻
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共1页<1>
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