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张帅

作品数:3 被引量:8H指数:2
供职机构:天津师范大学物理与电子信息学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金天津市应用基础与前沿技术研究计划更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇多层膜
  • 2篇射频磁控
  • 2篇射频磁控溅射
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米多层膜
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇调制周期
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束辅助
  • 1篇离子束辅助沉...
  • 1篇工作气压
  • 1篇TAN
  • 1篇TIALN
  • 1篇TIB
  • 1篇ZRB
  • 1篇ZRB2

机构

  • 3篇天津师范大学

作者

  • 3篇李德军
  • 3篇张帅
  • 2篇刘孟寅
  • 2篇颜景岳
  • 1篇王海媛
  • 1篇薛凤英
  • 1篇曹猛
  • 1篇龚杰
  • 1篇刘广庆
  • 1篇董磊
  • 1篇王晖
  • 1篇孙延东
  • 1篇刘梦寅

传媒

  • 1篇天津师范大学...
  • 1篇材料工程
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 3篇2011
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
工作气压和基底偏压对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构和机械性能的影响被引量:3
2011年
利用射频磁控溅射技术在不同工作气压和不同基底偏压条件下在Si(100)基底上设计合成了ZrB2/AlN纳米多层膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米力学测试系统和表面轮廓仪分析了工作气压和基底偏压对薄膜的微结构和机械性能的影响。结果表明:大部分ZrB2/AlN多层膜的纳米硬度与弹性模量值高于两种个体材料的混合值。当工作气压为0.4Pa,基底偏压为-60 V时,制备的薄膜具有最高的硬度(36.8 GPa)、最高的弹性模量(488.7 GPa)和最高的临界载荷(43.6 mN)。基底偏压的升高和工作气压的降低会使沉积粒子的动能提高,引起薄膜表面原子迁移率提高,导致薄膜的原子密度提高,起到位错钉扎的作用,晶粒尺度也被限制在纳米尺度,这些均对提高薄膜的硬度和抗裂强度起到了作用。
龚杰刘孟寅王海媛薛凤英颜景岳张帅王晖李德军
关键词:射频磁控溅射工作气压
调制周期对ReB_2/TaN纳米多层膜的结构和力学性能影响被引量:4
2011年
利用射频磁控溅射方法(衬底温度20℃)制备TaN,ReB2单层膜及ReB2/TaN纳米多层膜,并通过XRD,SEM,XP-2表面轮廓仪及纳米力学测试系统对薄膜的微结构和力学性能进行表征,分析调制周期对其影响。结果表明:TaN和ReB2均具有典型的六方结构,在其构成的多层膜中,当调制周期达到8~12nm附近时,纳米多层膜的硬度和弹性模量均高于两种材料所构成单层膜的相应值。在Λ=9.6nm,多层膜达到最高硬度(28.8GPa)及弹性模量(345.9GPa),同时内应力取得较好结果。
刘广庆张帅刘孟寅李德军
关键词:射频磁控溅射调制周期
离子束辅助沉积法制备TiAlN/TiB_2纳米多层膜的研究被引量:1
2011年
运用离子束辅助沉积法(IBAD)制备了一系列具有不同调制比例的TiAlN/TiB2纳米多层膜,利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕等表征手段研究了薄膜调制比例对其硬度、内应力和膜基结合力等力学性质的影响.结果表明:随着调制比例从8∶1变化到25∶1,多层膜的硬度在29~34 GPa之间变化,所有多层膜的硬度均高于TiAlN和TiB2两种各体层材料通过混合法则得的结果,结合XRD结果分析认为,TiAlN(111)择优取向是薄膜硬度升高的一个重要原因.
孙延东颜景岳张帅董磊曹猛刘梦寅李德军
关键词:离子束辅助沉积
共1页<1>
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