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文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信

主题

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  • 1篇滤波器
  • 1篇复用
  • 1篇复用器
  • 1篇AWG

机构

  • 5篇中国科学院长...
  • 3篇吉林大学
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 5篇唐晓辉
  • 4篇张大明
  • 4篇鄂书林
  • 3篇张国伟
  • 3篇许英朝
  • 3篇邓文渊
  • 1篇崔占臣
  • 1篇孙德贵

传媒

  • 1篇光子学报
  • 1篇发光学报
  • 1篇光通信技术

年份

  • 2篇2007
  • 2篇2006
  • 1篇2005
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
降低AWG插入损耗和串扰设计新方法(英文)被引量:6
2007年
在AWG器件的设计中引入了抛物线型的楔形波导结构,根据过渡区理论优化了引入的抛物线型楔形结构的形状和尺寸.采用抛物线型楔形结构代替直线型楔形结构,AWG的插入损耗降低了2 dB左右.在优化参数时使输出/输入波导间距与阵列波导间距取不同的值,并使输出/输入波导间距适当增大,而阵列波导间距取较小值,这样使得串扰降至-30 dB以下且插入损耗保持在低水平.运用光束传播方法给出器件的输出光谱并证实了理论上预想的结果.
许英朝张国伟鄂书林张大明邓文渊唐晓辉
关键词:阵列波导光栅插入损耗串扰
聚合物阵列波导光栅的制作技术被引量:2
2006年
研究了聚合物阵列波导光栅AWG制作的几个关键技术。首先,为了克服反应离子刻蚀过程中单独使用光刻胶作掩膜而导致的光波导形状和尺寸偏离设计的缺点,采用了光刻胶与金属掩膜相结合的双掩膜技术进行器件制作。详细介绍了双掩膜技术制备聚合物AWG的过程,并得出铝膜作为掩膜的最佳厚度为100nm左右。测试给出了使用和没有使用双掩膜的对比结果,该结果表明使用双掩膜技术制作的波导质量明显好于单独使用光刻胶作掩膜制作的结果。其次,采用蒸气回溶技术来减小反应离子刻蚀产生的波导表面和侧壁的起伏,从而降低了波导的散射损耗。结果表明,蒸气回溶技术使所制作的波导表面的均方根粗糙度从41.307 nm降低到24.564 nm。
张国伟鄂书林邓文渊许英朝唐晓辉张大明
关键词:聚合物阵列波导光栅
聚合物微环谐振波分复用器研制工艺研究
本文对一种新型结构的波分复用器——微型谐振环波分复用器 (MRRWM)进行了研究,在以前理论设计和参数优化的基础上,对器件制作工艺进行了细致的探索,采用符合器件光学性能要求的聚合物材料PMMA,在硅基板上制做出垂直信道波...
鄂书林邓文渊唐晓辉张大明崔占臣孙德贵
关键词:波分复用器
文献传递
聚合物微环谐振滤波器的研制
唐晓辉
关键词:微环谐振滤波器
32信道聚合物阵列波导光栅的制作与测试
2006年
对一个32通道的聚合物阵列波导光栅进行了研究和制作。经过旋涂、光刻、反应离子刻蚀等工艺过程,利用Al掩膜技术和回融技术进行了器件的制作。实验结果表明,回融技术使样本的波导表面的均方根粗糙度降低了约0.02μm。测试结果表明,器件的结构指标与理论设计值基本相符,并且波导在C波段上实现了单模传输。器件的插入损耗约为35dB,相邻通道串扰小于-20dB,很好地实现了波分复用功能。
许英朝张国伟鄂书林唐晓辉张大明
关键词:阵列波导光栅
共1页<1>
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