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刘凯鹏

作品数：70 被引量：2H指数：1
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 69篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 22篇电子电信
  • 4篇机械工程
  • 4篇一般工业技术
  • 4篇理学
  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇交通运输工程
  • 2篇文化科学
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 33篇光刻
  • 22篇掩模
  • 17篇刻蚀
  • 17篇超分辨
  • 16篇膜层
  • 12篇等离子体
  • 12篇湿法腐蚀
  • 11篇感光
  • 9篇表面等离子体
  • 7篇衍射
  • 7篇干法刻蚀
  • 7篇衬底
  • 6篇透镜
  • 6篇纳米
  • 6篇光刻胶
  • 5篇银膜
  • 5篇离子束
  • 5篇介质
  • 5篇光栅
  • 5篇成像

机构

  • 70篇中国科学院

作者

  • 70篇罗先刚
  • 70篇刘凯鹏
  • 46篇赵泽宇
  • 39篇王长涛
  • 36篇刘玲
  • 27篇罗云飞
  • 22篇冯沁
  • 17篇刘尧
  • 16篇邢卉
  • 16篇高平
  • 15篇潘丽
  • 13篇方亮
  • 12篇陶兴
  • 10篇杨磊磊
  • 10篇王彦钦
  • 7篇黄成
  • 6篇姚纳
  • 4篇蒲明博
  • 4篇胡承刚
  • 3篇张鸶懿

传媒

  • 1篇光电工程

年份

  • 7篇2024
  • 9篇2023
  • 14篇2022
  • 1篇2020
  • 2篇2018
  • 1篇2016
  • 5篇2014
  • 4篇2013
  • 11篇2012
  • 8篇2011
  • 8篇2010
共 70 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
成像对比度增强掩模及其制备方法
本公开提供一种成像对比度增强掩模及其制备方法，成像对比度增强掩模包括：掩模基底；吸收层，形成于掩模基底上，其中，吸收层的图形区中形成有尖端掩模图形结构，吸收层的材料为贵金属材料。该成像对比度增强掩模利用贵金属和尖端形状双...
罗先刚罗云飞刘凯鹏张译尹艾鑫赵泽宇高平
一种利用超衍射离轴照明技术的纳米表层光学显微成像器件及成像方法
本发明公开了一种利用超衍射离轴照明技术的纳米表层光学显微成像器件及成像方法，所述器件从下到上依次包括透明基底层、纳米结构层、PMMA填充层和金属/介质多层膜层。其中纳米结构层可对从透明基底背面入射的照明光进行空间频率和偏...
罗先刚王长涛赵泽宇陶兴王彦钦冯沁方亮刘玲刘凯鹏杨磊磊
透镜系统
本发明提供一种透镜系统，涉及光学测量仪器技术领域。该透镜系统设置于椭偏仪上，包括：会聚镜组和恢复镜组，其中，椭偏仪具有发射测量臂和接收测量臂，会聚镜组设置于发射测量臂的输出光路上，恢复镜组设置于接收测量臂的输入光路上；发...
罗先刚袁理孔维杰刘玲刘凯鹏高平
文献传递
一种高强度平面掩模及其制备方法
本公开提供了一种高强度平面掩模及其制备方法，该制备方法包括：S1，在掩模基底上涂覆感光材料，进行光刻得到光刻结构；S2，基于光刻结构对掩模基底进行刻蚀，得到掩模基底图形结构；S3，去除组成光刻结构的感光材料；S4，在S3...
罗先刚刘凯鹏罗云飞谷雨高平赵泽宇
一种利用两次膜层沉积和湿法腐蚀制备半圆柱形微细沟槽的方法
一种利用两次膜层沉积和湿法腐蚀制备半圆柱形微细沟槽的方法步骤为：采用常规技术在石英衬底上沉积膜层，在膜层上涂布光刻胶，进行光刻、显影、坚模；利用光刻胶图形作掩蔽和湿法腐蚀各向同性的特点，使用腐蚀液刻蚀掉光刻胶图形边缘下方...
刘玲王长涛罗先刚冯沁刘尧刘凯鹏邢卉潘丽
文献传递
一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法
一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法，包括：在基片上制备圆形或正方形或长方形的平底凹槽；在基片上沉积一层银膜层，再在银膜层上涂布一层可固化的溶胶层，其中溶胶层在表面张力的作用下会在凹槽位置形成弧面，经加热或紫外光照射...
刘凯鹏罗先刚王长涛刘玲冯沁赖之安杨欢
文献传递
一种用于表面等离子体光刻的纳米光栅掩模制备方法
本发明提供一种用于表面等离子体光刻的纳米光栅掩模制备方法，其步骤为：在基底上制备光栅阵列结构；在光栅线条一侧方向进行阴影蒸镀掩蔽层、RIE刻蚀基底、去除掩蔽层，然后在光栅线条另一侧方向进行阴影蒸镀掩蔽层、RIE刻蚀基底、...
罗先刚赵泽宇冯沁刘凯鹏王长涛高平杨磊磊刘玲
一种尖劈型超透镜的制备方法
本发明公开了一种尖劈型超透镜的制备方法，用于制造实现超分辨成像的尖劈型超透镜。其主要步骤为：在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；用掩蔽层做...
罗先刚王长涛赵泽宇冯沁刘凯鹏胡承刚黄成杨磊磊陶兴张鸶懿
衬底上光刻结构的返工清洗方法
本公开提供了一种衬底上光刻结构的返工清洗方法，返工的光刻结构自下而上包括衬底、有机底层结构层、硅氧基硬掩模中间结构层、光刻胶层，该方法包括：S1，利用干法刻蚀或湿法清洗去除光刻胶层；S2，利用反应离子刻蚀去除硅氧基硬掩模...
罗先刚朱瑶瑶罗云飞刘凯鹏张译尹赵泽宇
基于金属-介质条形阵列的超分辨透镜的制备方法及应用
本公开提供了一种基于金属‑介质条形阵列的超分辨透镜的制备方法，包括：对第一衬底上的第一材料层进行光刻，得到光栅结构；交替沉积第二、第三材料层，直至将光栅结构填平，得到第一过渡结构，第二、第三材料层中一种为金属，另一种为介...
罗先刚罗云飞刘凯鹏谷雨高平赵泽宇
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