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金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展被引量：8: 2006年; 自上世纪70年代以来,半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.; 张鉴清冷文华程小芳刘东坡; 关键词：光电化学半导体阴极保护

电沉积制备WO_3电极及其对Cu可见光光电化学保护被引量：3: 2007年; 采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO_3薄膜电极．考察了制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响．结果表明:沉积电位-0．45V(相对于饱和甘汞电极)、沉积时间1600s、烧结温度400℃时电极光电性能较好;在光电化学电池中,阳极室添加空穴捕获剂(如甲酸和升高溶液pH值,有利于光电流输出．在阳极室溶液组成为0．5mol/dm^3 Na_2SO_4+0．5mol/dm^3 HCOOH(pH9．6)时,WO_3薄膜电极在可见光光照下可对4mol/dm^3 NaCl溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀,为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径．; 冷文华刘东坡程小芳朱文彩张鉴清曹楚南; 关键词：WO3 电沉积 CU

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刘东坡